SURE: Shizuoka University REp http://ir.lib.shizuoka.ac.jp/ Title ECRプラズマ 励 起 化 学 気 相 体 積 法 によるシリコン 系 化 合 物 薄 膜 の 低 温 堆 積 Author(s) 佐 野, 慶 一 郎 Citation Issue Date 1997-03-22 URL http://doi.org/10.11501/3124910 Version ETD Rights This document is downloaded at:
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b 150 氏 〆 繋 難 1 説 んちく m ちL ノ が ノ Nt 灘難1 霧 鍵繍蕪鐡 翼 V 鰯 翻xl 鱗 一 tt 蝋 蕪 織 滋ノ鐘 ノ 一 @轄 v く r L r t 9宮 ノ 年 t c 250 騨 1μm Fig 4 20 SEM micrographs of SiO2 films on Al step patterns without mesh 一59一
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ヤほ v t h 蟹 t 苗 h n v 1μm Fig 4 22 SEM micrographs of SiO2 films on Al step patterns with mesh 一61一
N 1μm Fig 5 9 SEM micrographs of SiC films orl Al step patterns with mesh 80
c 250 灘纏羅 i灘灘雛蟹雛 護鋸奪難藤難難灘 蝋 難 馨繍 簸 灘懸 蕪難鰻灘 1μm Flg 5 IO SEM micrographs of SiC films on Al step patterns with mesh 81
100μm Fig 6 6 SEM micrographs of SiO2 on PC 一95一
1μm Fig 6 9 AFM micrograph of PC surface 1μm Fig 6 10 AFM micrograph of PP surface 一99一
1μm Fig 6 11 AFM micrograph of SiO20n PC ン 難綴 ユ 藝灘 羅 1 難 N o 1μm Fig 6 12 AFM micrograph of SiO2 on PP 100
1μm Fig 6 1 3 AFM micrograph of SiC on PC 1μm Fig 6 14 AFM micrograph of SiC on PP 一101一
a PC riginal Bef re UV exp sure test難 繍 蕩 yt 難苫譲 豪鑛 kli s ss く 究 b PC dep sited SiO2 Bef re UV exp sure test e PC dep sited SiO2 After UV exp sure test c PC deposited SiC Before UV exposure test 100μm 1001 m Fig 6 17 SEM micrographs of PC surface before and after UV light exposure test of 1000 hours 一108一
b PP deposited SiO2 Before UV exposure test e PP deposited SiO2 After UV exposure test c PP deposited SiC Before UV exposure test 璽灘 灘 獄 難 蒙 桑摂 灘 澤 hrs 鰹 蓑 麟 等 N m 懸 淫 s 灘 v 灘購 霧 難灘 ll 100μm 100μm Fig 6 18 SEM micrographs of PP surface before and after UV light exposure test of 1000 hourf 一109一