20 m Au 2. 現行のマイクロバンプ形成技術における課題 Au Au Au 2 WB 11 m m 1 m 2008 Au FC m 10 m 30 m OTK Au 表 1 マイクロバンプ形成におけるめっき法の比較 3. 無電解めっきによる Au
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- ほのか なぐも
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1 Fabrication technology of Au micro-bump by electroless plating. 関東化学株式会社技術 開発本部中央研究所第四研究室德久智明 Tomoaki Tokuhisa Central Research Laboratory, Technology & Development Division, Kanto Chemical Co., Inc. 1. はじめに IC IC WB FC 2 WB 1-a Al Au Cu FC 1-b Au FC 2 1 SiP 1 Si 2.5D 3D TSV Through Silicon Via 3D LSI 2.5D 3D 2 TSV 図 1 ワイヤボンディングとフリップチップボンディング図 2 2.5D/3Dパッケージングの例 16 THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 )
2 20 m Au 2. 現行のマイクロバンプ形成技術における課題 Au Au Au 2 WB 11 m m 1 m 2008 Au FC m 10 m 30 m OTK Au 表 1 マイクロバンプ形成におけるめっき法の比較 3. 無電解めっきによる Au マイクロバンプ形成技術の検討 1 1 m/hr Au Au Au 図 3 目標とするマイクロバンプの形態 THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 ) 17
3 4. マイクロバンプ形成用無電解めっき浴の開発 OTK ph 50 Au Au Au Au m/90min 3 5 表 2 めっき浴のベース組成 図 4 自己触媒型無電解 Au めっきの反応イメージ Au Au ph Cu Cu 3- SPS B JGB PEG Au 2 図 5 市販品との析出速度の比較 5. ウエハ上へのマイクロバンプ形成と特性評価 5.1 ウエハめっき 3inch Si Au / Ti or Ni / Cu 15mm m 30 m 1, THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 )
4 / 3inch 10, Au Au Au FC 5.2 Auマイクロバンプの FE-SEM 観察 Au SEM m 10 m 30 m FIB FE-SEM 9 SEM 図 8 マイクロバンプの SEM 像と高さ測定 図 6 テスト用ウエハの概略図 図 7 マイクロバンプ形成過程 図 9 FIB により断面加工したマイクロバンプの SEM 像 THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 ) 19
5 図 10 コプレーナ線路の構造と伝送経路 図 11 Cu 配線から Au バンプおよびパッドの形成過程 5.3 FC 接続と高周波特性評価 Cu Au Au 11 Cu Ti Au Au Au Au 20 THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 )
6 図 12 めっき後の Au バンプおよびパッドの SEM 像と高さ測定 図 14 フリップチップ接続したチップ断面の SEM 像 図 13 フリップチップ接続過程 Au Au SEM m FC 13 O Mpa FC FE-SEM SEM 14 FC THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 ) 21
7 図 15 ベクトルネットワークアナライザ (VNA) による S パラメータ測定 図 16 10Gbps 信号伝送試験におけるアイパターン VNA S 15 40GHz 2.5dB 10GHz -2.2dB 2-20dB 10Gbps % 10Gbps 6. 応用技術の検討 3 10 m 20 m 4mm 1 4 3inch 64 FE-SEM 18-a 3 m 90min 22 THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 )
8 17-a Cu Au Au 10 m 30 m 3 17-b 2 m 17-c 参考文献 1,, 24 12, , Electronic Journal, 216, ,,,,, 12 7, ,,,,, 14 5, ,,, 10, ,, 52 1, ,,,, 112, T.H. Chuang, S.F. Yen, J. Electron. mater., 35 8, T.H. Chuang, C.Y. Cheng, T.C. Chang, J. Electron. mater., 38 12, F.Y. Ouyang, K. Chen, K.N. Tu, Y.S. Lai, Appl. Phy. Lett., 91, , ,,,,,,,,, 18, ,,,,,,,,,, 23, T. Yokoshima, K. Nomura, Y. Yamaji, K. Kikuchi, H. Nakagawa, K. Koshiji, M. Aoyagi, R. Iwai, T. Tokuhisa, M. Kato, Transaction of The Japan Institute of Electronics Packaging, 2 1, 図 17 マイクロバンプ形成法の応用技術 7. まとめ 20 m 10 m Au Au 15,,,,,,,,,,,, 24, F. Kato, K. Nomura, T. Yokoshima, S. Nemoto, K. Kikuchi, H. Nakagawa, K. Koshiji, M Aoyagi, R. Iwai, T. Tokuhisa, M. Kato, Proceedings of International Conference on Electronics Packaging, ,,, Electrochemistry, 79 3, ,,,,, 3 7, ,,,, 5 7, ,,,,, 42 7, THE CHEMICAL TIMES 2012 No.3( 通巻 225 号 ) 23
研究成果報告書
10m 2m Ge Si BaF2 ZnSZnSe Sb-Ge-Sn-S IIR-SF1 1 2 Tungsten SilicideWSi WSi () IIR-SF 1 Sb-Ge-Sn-S 0.85~11μm2.710μm 253 C Al Al 220μm He-Cd laser 1 Exposure Photoresist WSi (a) 500 nm Development RIE WSi
転がり軸受 総合カタログ
K 4 21 AU L TDO TD 10500 mm 1 10220 mm 10130 mm 19 mm 19 mm 1075 mm 4 5 1 ZZ 2RU 2RS 2RK 2RD JIS 1512 ML JIS 1514-1 A60 A63 7-3 JIS 1520 A102 10-2 A102 10-3 A105 10-7 ZZ 2RU (a) 1) (b) (c) (d) 2) (e) (f)
untitled
(a) (b) (c) (d) (e) (f) (g) (f) (a), (b) 1 He Gleiter 1) 5-25 nm 1/2 Hall-Petch 10 nm Hall-Petch 2) 3) 4) 2 mm 5000% 5) 1(e) 20 µm Pd, Zr 1(f) Fe 6) 10 nm 2 8) Al-- 1,500 MPa 9) 2 Fe 73.5 Si 13.5 B 9 Nb
無電解析出
無電解めっきの析出機構 無電解めっきは広い意味では外部電源を用いずに金属めっき膜を成膜する技術と定義される 大別すると 1 素地金属の溶解に伴って遊離する電子によって溶液中の金属イオンが還元されて電極上に析出する置換めっき 2 不均化反応に基づく金属析出 3 溶液中に含まれる還元剤が電極上で酸化される際に遊離する電子によって溶液中の金属イオンが金属皮膜として析出する自己触媒的な無電解めっき がある
C-2 NiS A, NSRRC B, SL C, D, E, F A, B, Yen-Fa Liao B, Ku-Ding Tsuei B, C, C, D, D, E, F, A NiS 260 K V 2 O 3 MIT [1] MIT MIT NiS MIT NiS Ni 3 S 2 Ni
M (emu/g) C 2, 8, 9, 10 C-1 Fe 3 O 4 A, SL B, NSRRC C, D, E, F A, B, B, C, Yen-Fa Liao C, Ku-Ding Tsuei C, D, D, E, F, A Fe 3 O 4 120K MIT V 2 O 3 MIT Cu-doped Fe3O4 NCs MIT [1] Fe 3 O 4 MIT Cu V 2 O 3
渡辺(2309)_渡辺(2309)
[ 29 p. 241-247 (2011)] ** *** ** ** Development of a nickel-based filler metal containing a small amount of silicon by WATANABE Takehiko, WAKATSUKI Ken, YANAGISAWA Atsusi and SASAKI Tomohiro Authors tried
1-x x µ (+) +z µ ( ) Co 2p 3d µ = µ (+) µ ( ) W. Grange et al., PRB 58, 6298 (1998). 1.0 0.5 0.0 2 1 XMCD 0-1 -2-3x10-3 7.1 7.2 7.7 7.8 8.3 8.4 up E down ρ + (E) ρ (E) H, M µ f + f E F f + f f + f X L
NewBead_no53_fix1218.indd
11 5 1 No.53 2016 January C O N T E N T S 1 2 3 1,200 3 4 NSSW SX-26NSSW YM-26 197247 1,300 21 496-0034 2-18-2 0567-28-7751 5 NSSW H-600 NSSW YM-26 NSSW YM-60C NSSW SF-1 1972 47 1,000 60 767-0033 2039-1
(1) (2)
3 3.1 3.1.1 3.1.2 (1) (2) 3.1.3 3-3.1.3.1 3.1.3.1 1 2 3.1.4 3.23.4 NATM 1980-3.1.4.1-3.1.4.2 NATM 20 1) NATM No.1235, 1983. 2) No.A-84-511984. -3.1.4.1 NATM -3.1.4.2 NATM Vp Vp 23/2882% 1983 : 0 A i X
01_辻
20 EBSD 2008.11.28 scanning electron microscope: SEM EBSD electron back scattering diffraction [1-4] 10 EBSD anisotropy polycrystal orientation texture EBSD EBSD EBSD EBSD Table 1 EBSD Table 1-10 mmφ
取扱説明書[NE-202]
NE-202 13.3 m m 1 2 3 m 4 5 6 7 a a a 8 9 10 11 12 a a a a 13 14 15 16 17 2.4 FH 1/XX 4 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 1 2 3 4 5 6 m 7 h 8 r 9 a P b c d e f g h i j ud k l m n o 28 29 30 31 32 33 34 35
RAA-05(201604)MRA対応製品ver6
M R A 対 応 製 品 ISO/IEC 17025 ISO/IEC 17025は 試験所及び校正機関が特定の試験又は 校正を実施する能力があるものとして認定を 受けようとする場合の一般要求事項を規定した国際規格 国際相互承認 MRA Mutual Recognition Arrangement 相互承認協定 とは 試験 検査を実施する試験所 検査機関を認定する国際組織として ILAC 国際試験所認定協力機構
INDEX 貴金属めっき液 表面処理薬品 関連製品 Au 金めっきプロセス / シアン系純金タイプ 2 金めっきプロセス / シアン系ストライク 金めっきプロセス / シアン系合金タイプ Au Ag 金めっきプロセス / ノンシアン純金及び合金タイプ 3 金めっきプロセス / 無電解タイプ 銀めっき
総合カタログ 貴金属めっき液 表面処理薬品 不溶性電極 INDEX 貴金属めっき液 表面処理薬品 関連製品 Au 金めっきプロセス / シアン系純金タイプ 2 金めっきプロセス / シアン系ストライク 金めっきプロセス / シアン系合金タイプ Au Ag 金めっきプロセス / ノンシアン純金及び合金タイプ 3 金めっきプロセス / 無電解タイプ 銀めっき液プロセス / シアン系純銀タイプ 銀めっき液プロセス
PowerPoint プレゼンテーション
ICP-AES, AA ppb - 1% ICP-MS ppt - 100ppm SEM-EDX 0.1% - 100% B - U XRF 0.01% - 100% Na - U EMIA ppm - 100% C, S EMGA EMIA : EMGA ppm - 100% O, N, H Carbon Sulfur Nitrigen Oxygen ISO ISO/TC 17/SC ISO 9556
JAJP
Agilent 7500ce ORS ICP-MS Glenn Woods Agilent Technologies Ltd. 5500 Lakeside, Cheadle Royal Business Park Stockport UK Agilent 7500ce ICP-MS 5 7500ce (ORS) 1 ORS 7500ce ORS ICP-MS ( ) 7500 ICP-MS (27.12
H1-H4
42 S H He Li H He Li Be B C N O F Ne Be B C N O F Ne H He Li Be B H H e L i Na Mg Al Si S Cl Ar Na Mg Al Si S Cl Ar C N O F Ne Na Be B C N O F Ne Na K Sc T i V C r K Sc Ti V Cr M n F e C o N i Mn Fe Mg
2). 3) 4) 1.2 NICTNICT DCRA Dihedral Corner Reflector micro-arraysdcra DCRA DCRA DCRA 3D DCRA PC USB PC PC ON / OFF Velleman K8055 K8055 K8055
1 1 1 2 DCRA 1. 1.1 1) 1 Tactile Interface with Air Jets for Floating Images Aya Higuchi, 1 Nomin, 1 Sandor Markon 1 and Satoshi Maekawa 2 The new optical device DCRA can display floating images in free
消防力適正配置調査報告
8 5 5 20 11 22 4 25 1.1 1 1.2 1 1.3 2 2.1 6 2.2 6 2.3 8 2.4 8 2.5 9 3.1 10 3.2 10 3.3 13 4.1 15 4.2 17 4.3 19 4.4 21 4.5 23 (1) - 1 - (2) (1) ()1 ( ) 8 1 1 143 116 (2) 1-2 - 26 24 19 24 6 21 24 4 19 24
[Ver. 0.2] 1 2 3 4 5 6 7 1 1.1 1.2 1.3 1.4 1.5 1 1.1 1 1.2 1. (elasticity) 2. (plasticity) 3. (strength) 4. 5. (toughness) 6. 1 1.2 1. (elasticity) } 1 1.2 2. (plasticity), 1 1.2 3. (strength) a < b F
EOS: 材料データシート(アルミニウム)
EOS EOS は EOSINT M システムで処理できるように最適化された粉末状のアルミニウム合金である 本書は 下記のシステム仕様により EOS 粉末 (EOS art.-no. 9011-0024) で造形した部品の情報とデータを提供する - EOSINT M 270 Installation Mode Xtended PSW 3.4 とデフォルトジョブ AlSi10Mg_030_default.job
20 16 0.113 1,9 16.2 25 16 0.173 2,3 20.4 16 0.274 2,9 26.2 40 16 0.434 3,7.6 50 16 0.673 4,6 40.8 16 1.060 5,8 51.4 75 16 1.480 6,8 61.4 16 2.140 8,2 73.6 16 3.180 10,0.0 125 16 4.120 11,4 102.8 140 16
野岩鉄道の旅
29th 5:13 5:34 5:56 6:00 6:12 6:20 6:21 6:25 6:29 6:31 6:34 6:38 6:40 6:45 6:52 6:56 7:01 7:07 7:11 7:32 7:34 7:50 7:58 8:03 8:17 8:36 8:44 5:50 5:54 6:15 6:38 6:39 6:51 6:59 6:59 7:03 7:08 7:08 7:11 7:15
000..\..
Bull. Nagoya Univ. Museum No. 20, 79 91, 2004 Quantitative chemical analysis of rocks with X-ray fluorescence analyzer XRF-1800 NAKAZAKI Mineko TSUBOI Motohiro KANAGAWA Kazuyo KATO Takenori SUZUKI Kazuhiro
Fig. ph Si-O-Na H O Si- Na OH Si-O-Si OH Si-O Si-OH Si-O-Si Si-O Si-O Si-OH Si-OH Si-O-Si H O 6
NMR ESR NMR 5 Fig. ph Si-O-Na H O Si- Na OH Si-O-Si OH Si-O Si-OH Si-O-Si Si-O Si-O Si-OH Si-OH Si-O-Si H O 6 Fig. (a) Na O-B -Si Na O-B Si Fig. (b) Na O-CaO-SiO Na O-CaO-B -Si. Na O-. CaO-. Si -. Al O
鉛フリー無電解Niめっき皮膜中の共析物がはんだ実装信頼性に及ぼす影響
Title: 鉛フリー無電解 Ni めっき皮膜中の共析物がはんだ実装信頼性に及ぼす影響 Authors: 土田徹勇起, 大久保利一, 狩野貴宏, 荘司郁夫 Issue Date:2013 年 1 月 20 日 Publisher: 一般社団法人エレクトロニクス実装学会 Citation: エレクトロニクス実装学会誌 Vol.16 No.6(2013)484-491 次ページより本文を掲載致します 論文1.
チップ間広帯域信号伝送を実現する2.1次元有機パッケージ技術
2.1 2.1D Organic Package Technology to Realize Die-to-Die Connection for Wide-Band Signal Transmission あらまし 2.52.5D 2.5D 2.12.1D 2.1D2.1D 2.5D Line/Space 2/2 m 2.1D i-thop integrated-thin film High density
untitled
Copyright 2010 by Future Architect, Inc. Japan Copyright 2010 by Future Architect, Inc. Japan -2- Copyright 2010 by Future Architect, Inc. Japan Copyright 2010 by Future Architect, Inc. Japan Copyright
b n m, m m, b n 3
13th Annual Worlds of Flavor International Conference & Festival z x c v z x c v 2 b n m, m m, b n 3 . 0 1 2 3 4 5. 0 1 2 3 4 4 5 6 7 8 6 7 8 5 9 0 1 2 3 9 0 1 2 3 6 4 5 6 7 8 4 5 6 7 8 9 7 0 1 2 3 9 0
19 () -1- 11 12 17 18 6 ()( ) ( ) () () 17 7 ()( ) 18 () -2- 4610 21-3- ( 20 15 4 ) -4- () -5- () () () -6- ( ) -7- cm/s 5cm7.5cm 10cm. 1 ( qc) 400 200-8- 20 ( 46 300 ) 27 252 19 1 252 22 () 1.6.2()
uPC2745TB,uPC2746TB DS
Bipolar Analog Integrated Circuits 3 VIC µpc2745tb, µpc2746tb IC3 V1.8 V NESAT TM ft = 20 GHz IC VCC = 2.73.3 V VCC = 1.83.3 V µpc2745tbfu = 2.7 GHz TYP. @3 db µpc2746tbfu = 1.5 GHz TYP. @3 db µpc2745tbisl
Microsoft Word - GrCadSymp1999.doc
u u Ê É Îf ÈÉ uõòñõçí uõòñõëêi oy * ÎÏ Ó ÏÕ( ) **Ï ÓÐ ÕÖ *** ÎÏ Ó ÏÕ( ) APÑÖÕ ÑÕ { itot, inoue, furuhata} @trl.ibm.co.jp [email protected] Automated Conversion of Triangular Mesh to Quadrilateral Mesh with
1 2 http://www.japan-shop.jp/ 3 4 http://www.japan-shop.jp/ 5 6 http://www.japan-shop.jp/ 7 2,930mm 2,700 mm 2,950mm 2,930mm 2,950mm 2,700mm 2,930mm 2,950mm 2,700mm 8 http://www.japan-shop.jp/ 9 10 http://www.japan-shop.jp/
第18回海岸シンポジウム報告書
2011.6.25 2011.6.26 L1 2011.6.27 L2 2011.7.6 2011.12.7 2011.10-12 2011.9-10 2012.3.9 23 2012.4, 2013.8.30 2012.6.13 2013.9 2011.7-2011.12-2012.4 2011.12.27 2013.9 1m30 1 2 3 4 5 6 m 5.0m 2.0m -5.0m 1.0m
1 911 34/ 22 1012 2/ 20 69 3/ 22 69 1/ 22 69 3/ 22 69 1/ 22 68 3/ 22 68 1/ 3 8 D 0.0900.129mm 0.1300.179mm 0.1800.199mm 0.1000.139mm 0.1400.409mm 0.4101.199mm 0.0900.139mm 0.1400.269mm 0.2700.289mm
液晶ディスプレイ取説TD-E432/TD-E502/TD-E552/TD-E652/TD-E432D/TD-E502D
1 2 3 4 5 6 7 1 2 3 4 5 6 7 2 2 2 1 1 2 9 10 11 12 13 14 15 16 17 1 8 2 3 4 5 6 7 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 9 11 12 13 13 14 15 16 17 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 1 2 3 4 5 6 7 8 9 11 12
000-.\..
1 1 1 2 3 4 5 6 7 8 9 e e 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 10mm 150mm 60mm 25mm 40mm 30mm 25 26 27 1 28 29 30 31 32 e e e e e e 33 e 34 35 35 e e e e 36 37 38 38 e e 39 e 1 40 e 41 e 42 43
1 C 2 C 3 C 4 C 1 C 2 C 3 C
1 e N >. C 40 41 2 >. C 3 >.. C 26 >.. C .mm 4 C 106 e A 107 1 C 2 C 3 C 4 C 1 C 2 C 3 C 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124
平成24年財政投融資計画PDF出後8/016‐030
24 23 28,707,866 2,317,737 26,390,129 29,289,794 2,899,665 24 23 19,084,525 21,036,598 1952,073 24 23 8,603,613 8,393,427 967,631 925,404 202,440 179,834 217,469 219,963 66,716 64,877 3,160,423 2,951,165
ブック 1.indb
20 29 29 18 21 29 10 30 31 10 11 12 30 13 10 30 14 11 30 15 12 16 13 17 14 18 15 19 16 20 17 21 18 10 20 29 82 83 84 85 86 87 88 20 10 89 20 12 11 90 20 13 12 91 20 14 13 92 20 14 14 93 15 15 94 15 16
JR東日本会社要覧2012-2013
Technology Planning Department Frontier Service Development Laboratory Advanced Railway System Development Center Safety Research Laboratory Disaster Prevention Research Laboratory Technical Center Environmental
1
1 2 3 4 5 6 7 A.C. Littleton, The Purpose of Accounting Education Proceedings of International Conference on Accounting Education, 1962.10, pp.12~20. 87 2 40 1 144 Robert T. Trueboold, The Future of Accounting
c c SSIS10 10 10 1998 2001 SSIS 2001 LSI 2001 MIRAI NECASKA SELETE 21 5ISSCC LSI 2004 2004SSIS PR 60 70
Encore SSIS 10 c c SSIS10 10 10 1998 2001 SSIS 2001 LSI 2001 MIRAI NECASKA SELETE 21 5ISSCC LSI 2004 2004SSIS PR 60 70 SSIS NOSIDE PR SSIS SSIS PR 2000 5SSIS SSIS 1 2001 5 8 3 2004 SSIS 1 2 SSIS 24 SSISPR
1 1980 5, 2008; Shih, Wang, & Wei, 2007 6 1,342 ha 2009 8,835 2003 1,677 ha 2009 2,412 1995 1,613 ha 2009 4,611 2 1 1990 200 1990, 2008 2 IC 2 2009 IC
ISSN 1347-4448 ISSN 1348-5504 10 3 2011 3 E-mail: [email protected] 100 200 1, 2000 1990 Acer IC Integrated Circuit TSMC IC MediaTek AUO 2011 Global Business Research Center www.gbrc.jp 179 2010 8
untitled
NPO 2006( ) 11 14 ( ) (2006/12/3) 1 50% % - - (CO+H2) ( ) 6 44 1) --- 2) ( CO H2 ) 2 3 3 90 3 3 2 3 2004 ( ) 1 1 4 1 20% 5 ( ) ( ) 2 6 MAWERA ) MAWERA ( ) ( ) 7 6MW -- 175kW 8 ( ) 900 10 2 2 2 9 -- - 10
