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ゆあしばもと
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1 1/10 レジナス化成環境管理物質管理基準 (Ver.14) レジナス化成株式会社 2016 年 10 月

2 2/10 レジナス化成環境管理物質管理基準 Ver.14 No. 環境管理物質名レジナス化成管理基準備考 1 カドミウム及びカドミウム化合物意図的な使用を禁止且つ容器包装材はで許容濃度 5ppm 未満 100ppm 未満であること 2 鉛及び鉛化合物意図的な使用を禁止且つ容器包装材はで許容濃度 100ppm 未満 100ppm 未満であること 3 水銀及び水銀化合物意図的な使用を禁止且つ容器包装材はで許容濃度 2ppm 未満 100ppm 未満であること 4 六価クロム化合物意図的な使用を禁止且つ容器包装材はで許容濃度 100ppm 未満 100ppm 未満であること表面処理用途は適用外 5 ポリ塩化ビフェニル (PCB) 類および意図的な使用を禁止且つ特定代替品許容濃度 50ppm 未満 6 ポリ塩化ナフタレン (PCN) 類意図的な使用を禁止 7 ポリ塩化ターフェニル (PCT) 類意図的な使用を禁止且つ許容濃度 50ppm 未満 8 短鎖塩素化パラフィン (SCCP) 意図的な使用を禁止且つ炭素鎖長 8~13の短鎖型塩許容濃度 1000ppm 未満素化パラフィン 9 その他の有機塩素系化合物意図的な使用を禁止難燃剤用途 10 ポリブロモビフェニル (PBB) 意図的な使用を禁止且つ許容濃度 1000ppm 未満 11 ポリブロモジフェニルエーテル (DecaB 意図的な使用を禁止且つ DEを含む )(PBDE) 許容濃度 1000ppm 未満 12 その他の有機臭素系化合物意図的な使用を禁止難燃剤用途 13 三置換有機スズ化合物 ( トリフチルスス (TBT) 意図的な使用を禁止且つ化合物, トリフェニルスス (TPT) 化合物を含む ) 許容濃度 1000ppm 未満 ( スス元素として ) 14 ジブチルスズ (DBT) 化合物意図的な使用を禁止且つ許容濃度 1000ppm 未満 ( スス元素として ) 15 ジオクチルスズ (DOT) 化合物意図的な使用を禁止且つ繊維布材への添加剤用途許容濃度 1000ppm 未満 ( スス元素として ) 16 石綿 ( アスベスト ) 意図的な使用を禁止 17 特定アゾ化合物意図的な使用を禁止且つ別表 1 包装材料は適用外許容濃度 30ppm 未満繊維布材料皮革製品用途 18 ホルムアルデヒド意図的な使用を禁止木工製品用途 19 ポリ塩化ビニル (PVC) およびPVC 混合意図的な使用を禁止車載機器取付用吸着盤等の用途 20 ベリリウム及びベリリウム化合物意図的な使用を禁止 ( 酸化ベリリウムベリリウム銅 ) 21 特定フタル酸エステル (DEHP DBP BBP 意図的な使用を禁止別表 2 DIBP DINP DIDP DNOP DNHP DIHP DHNU P DMEP DIPP DPP その他) 22 オゾン層破壊物質意図的な使用を禁止設備用冷媒は適用外 23 放射性物質意図的な使用を禁止 24 ヒ素及びヒ素化合物 ( 五酸化二ヒ素意図的な使用を禁止且つ液晶パネルのガラス消泡剤三酸化二ヒ素 ) 許容濃度 1000ppm 未満用途 25 ビスマス化合物意図的な使用を禁止且つ別表 4 許容濃度 1000ppm 未満 26 ニッケル意図的な使用を禁止皮膚に長時間接触するものに限る 27 セレン及びセレン化合物意図的な使用を禁止 28 フッ素系温室効果ガス意図的な使用を禁止設備用冷媒は適用外 ( ハイトロフルオロカーホン (HFC) ハーフルオロカーホン (PFC) 6フッ化硫黄 (SF6)) 29 ハイトロクロロフルオロカーホン (HCFC) 意図的な使用を禁止設備用冷媒は適用外製品に搭載する ( 組み込む ) 用途 30 パーフルオロオクタンスルホン酸 ( 塩意図的な使用を禁止を含む )(PFOS) 31 2-(2H-1,2,3-ヘンソトリアソール-2-イル )-4,6- 意図的な使用を禁止 CAS No シ -tert-フチルフェノール (UV-320) 32 2-(2H-ヘンソトリアソール-2-イル )-4,6-シ -Ter 意図的な使用を禁止 CAS No t-ヘンチルフェノール (UV-328) 33 塩化コバルト意図的な使用を禁止湿度指示薬用途 34 ヘキサブロモシクロドデカン (HBCDD) 意図的な使用を禁止且つ及び全ての主要ジアステレオ異性体許容濃度 1000ppm 未満 35 過塩素酸塩意図的な使用を禁止 36 リン酸トリス (2-クロロエチル)(TCEP) リン酸意図的な使用を禁止且つ難燃剤用途トリス (1-メチル-2-クロロエチル)(TCPP) リン酸許容濃度 1000ppm 未満トリス (1,3-シクロロ-2-フロヒル)(TDCPP) 37 フマル酸ジメチル意図的な使用を禁止且つ許容濃度 0.1ppm 未満

3 38 アルミノ珪酸塩耐火セラミック繊維意図的な使用を禁止 39 ジルコニアアルミノ珪酸塩耐火セラ意図的な使用を禁止ミック繊維 40 ホウ酸及び特定ホウ酸ナトリウム意図的な使用を禁止別表 3 包装材料は適用外 41 [4-{ ヒス (4-シメチルアミノフェニル) メチレン }-2,5-シク意図的な使用を禁止ロヘキサシエン-1-イリテン ] シメチルアンモニウムクロリト ( 別名 :C.I ヘイシックハイオレット3) 42 4-(1,1,3,3-テトラメルブチル ) フェノ意図的な使用を禁止ール 43 ビス (2-メトキシエチル) エーテル意図的な使用を禁止 44 N,N-ジメチルアセトアミド (DMAC) 意図的な使用を禁止 45 2,2'-シクロロ-4,4'-メチレンシアニリン (MOCA) 意図的な使用を禁止 46 パーフルオロオクタン酸 (PFOA) その意図的な使用を禁止塩及びそのエステル 47 多環芳香族炭化水素 (PAH) 意図的な使用を禁止 48 エチレングリコールジメチルエーテル意図的な使用を禁止 (EGDME) 49 リン酸トリキシリル (TXP) 意図的な使用を禁止 50 N-フェニルヘンセンアミンとスチレンおよび2,2,4-トリ意図的な使用を禁止コムへの添加剤は適用外メチルヘンテンの反応生成物 (BNST) エチル-4,4-シオクチル-7-オキソ-8-オキサ-3,5- 意図的な使用を禁止シチア-4-スタンナテトラテカン酸 2-エチルヘキシル (DOTE) エチル-4,4-シオクチル-7-オキソ-8-オキサ-3,5- 意図的な使用を禁止且つシチア-4-スタンナテトラテカン酸 2-エチルヘキシルと10-エ許容濃度 1000ppm 未満チル-4-[[2-[(2-( エチルヘキシル ) オキシ )-2-オキソエチル ] チオ ]-4-オクチル-7-オキソ-8-オキサ-3,5-シチア-4 -スタンナテトラテカン酸 2-エチルヘキシル ] を構成要素とする物質 (DOTEとMOTEを構成要素とする物質 ) 3/10

4 4/10 別表 1 アゾ化合物の分解により発生してはならないアミン一覧 CAS No. アミンアミノジフェニル (4-animodiphenyl) ベンジジン (Benzidine) クロロ-o-トルイジン (4-chloro-o-toluidine) ナフチルアミン (2-naphthylamine) o-アミノアゾトルエン (o-aminoazotoluene) アミノ-4-ニトロトルエン (2-amino-4-nitrotoluene) p-クロロアニリン (p-chroloaniline) ,4-ジアミノアニソール (2,4-diaminoanisole) ,4'-ジアミノジフェニルメタン (4,4'-diaminodiphenylmethane) ,3'-ジクロロベンジジン (3,3'-dichlorobenzidine) ,3'-ジメトキシベンジジン (3,3'-dimethoxybenzidine) ,3'-ジメチルベンジジン (3,3'-dimethylbenzidine) ,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノジフェニルメタン (3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane) p-クレシジン (p-cresidine) ,4'-メチレン-ビス-(2-クロロアニリン )(4,4'-methylene-bis-(2-chloroanilene)) ,4'-オキシジアニリン (4,4'-oxideaniline) ,4'-チオジアニリン (4,4'-thiodianiline) o-トルイジン (o-toluidine) ,4-トルイレンジアミン (2,4-toluylenediamine) ,4,5-トリメチルアニリン (2,4,5-trimethylaniline) o-アニシジン (o-anisidine) アミノアゾベンゼン (4-aminoazobenzene)

5 5/10 別表 2 特定フタル酸エステル ( フタレート ) 一覧略称 CAS No. 名称 DEHP フタル酸ビス (2- エチルヘキシル ); フタル酸ジ -2- エチルヘキシル DBP フタル酸ジブチル ; フタル酸ジ -n- ブチル BBP フタル酸ブチルベンジル ; フタル酸 n- ブチルベンジル DIBP フタル酸ジイソブチル ; フタル酸ジ -i- ブチル DINP フタル酸ジイソノニル ; フタル酸ジ-i-ノニル DIDP フタル酸ジイソデシル ; フタル酸ジ-i-デシル DNOP フタル酸ジ -n- オクチル DNHP フタル酸ジヘキシル ; フタル酸ジ -n- ヘキシル DIHP 炭素数 7 を主成分とする炭素数 6 ~ 8 の分岐アルキルを有するフタル酸ジアルキル DHNUP 炭素数 7 ~ 11 の分岐および直鎖アルキルを有するフタル酸ジアルキル DMEP フタル酸ビス (2- メトキシエチル ) DIPP フタル酸ジイソペンチル分岐および直鎖のフタル酸ジペンチルフタル酸 -n- ペンチル - イソペンチル DPP フタル酸ジペンチル分岐および直鎖のフタル酸ジヘキシル別表 3 特定ホウ酸ナトリウム一覧 CAS No. 名称ホウ酸ホウ酸七酸化二ナトリウム四ホウ素五水和物 ; 四ホウ酸二ナトリウム無水物七酸化二ナトリウム四ホウ素 ; 四ホウ酸二ナトリウム無水物四ホウ酸ナトリウム十水物 ; 四ホウ酸二ナトリウム無水物七酸化二ナトリウム四ホウ素水和物 ; 四ホウ酸二ナトリウム水和物

6 別表 4 ビスマス化合物一覧 6/10 CAS No. 名称ヒ酸 (As3O4) ビスマス塩 ( 1:1 ) 酸化ビスマス鉛ルテニウムビスマス- 鉛化合物 ( 1:1 ) ニビスマスニ鉛三ルテニウム三デカオキシドビスマス豊富の鉛入りドロスビスマス-ニッケル化合物 ( 1:1 ) ビスマス-テルル化合物

7 7/10 測定基準カドミウム及びその化合物許容濃度 :5ppm 未満測定基準 : (1) 前処理前処理方法については主に下記の 4 種類の方法が挙げられる 1. 硫酸存在下では灰化法 ( 例えば IEC 62321:2008) 2. 密閉容器内での加圧酸分解法 ( マイクロウェーブ分解法 ( 例えば EN 13346:2000 or EPA 3052:1996) を含む ) 3. 硝酸過酸化水素水塩酸による酸分解法 ( 例えば EPA 3050B Rev.2:1996) 4. 硫酸硝酸過酸化水素水での湿式分解法 ( 例えば BS EN 1122:2001) などを用いる上記の全てにおいて沈殿物 ( 不溶物 ) が生じた場合は何らかの方法 ( アルカリ溶解法など ) で完全に溶解して溶液化することが必要である (2) 測定法測定法については主に下記の 3 種類の方法が挙げられる 1. 誘導結合 - プラズマ発光分光分析装置 [ICP-AES(ICP-OES)]; 例えば EN ISO 11885: 原子吸光分析装置 (AAS); 例えば EN ISO 5961: 誘導結合 - プラズマ質量分析装置 (ICP-MS); 例えば IEC 62321:2008 上記の他にも前処理と測定装置の組み合わせによりカドミウムの定量下限が 5ppm 未満であることを保証できるものであれば良いものとするなおカドミウム鉛は上記の AAS 以外の方法では同時に分析可能である ( 注 ) EN 71-3:1994 ASTM F963-96a ASTM F ASTM D 5517 ISO に代表される溶出法は前処理として不適用である工業廃水試験法である (JIS K0102) の 55 項は測定法のみのため前処理方法の併記が必須である鉛及びその化合物許容濃度 :100ppm 未満測定基準 : (1) 前処理前処理方法については主に下記の 4 種類の方法が挙げられる 1. 硫酸存在下では灰化法 ( 例えば IEC 62321:2008) 2. 密閉容器内での加圧酸分解法 ( マイクロウェーブ分解法 ( 例えば EN 13346:2000 or EPA 3052:1996) を含む ) 3. 硝酸過酸化水素水塩酸による酸分解法 ( 例えば EPA 3050B Rev.2:1996) 4. 硫酸過酸化水素水での湿式分解法などを用いる上記の全てにおいて沈殿物 ( 不溶物 ) が生じた場合は何らかの方法 ( アルカリ溶解法など ) で完全に溶解して溶液化することが必要である (2) 測定法測定法については主に下記の 3 種類の方法が挙げられる 1. 誘導結合 - プラズマ発光分光分析装置 [ICP-AES(ICP-OES)]; 例えば EN ISO 11885: 原子吸光分析装置 (AAS); 例えば EN ISO 5961: 誘導結合 - プラズマ質量分析装置 (ICP-MS); 例えば IEC 62321:2008 上記の他にも前処理と測定装置の組み合わせにより鉛の定量下限が 30ppm 未満であることを保証できるものであれば良いものとするなおカドミウムと鉛は上記の AAS 以外の方法では同時に分析可能である ( 注 ) EN 71-3:1994 ASTM F963-96a ASTM F ASTM D 5517 ISO に代表される溶出法は前処理として不適用であるまた EN 1122 は鉛に対する前処理法としては不適用である工業廃水試験法である (JIS K0102) の 54 項は測定法のみのため前処理方法の併記が必須である

8 8/10 水銀及びその化合物許容濃度 :2ppm 未満測定基準 : (1) 前処理 1. 密閉容器内で加圧酸分解法 ( マイクロウエーフ分解法例えば EPA 3052:1996 を含む ) 2. 加熱気化 - 冷原子吸光法 3. 環流冷却器付分解フラスコを ( ケルタール法 ) を用いた硫酸硝酸での湿式分解法を用いる (2) 測定法 Cd.Pb の方法と同様であるが還元気化原子吸光法或いは水素化発生装置付 ICP-AES(ICP-OES) ICP-MS による分析が考えられる六価クロム化合物許容濃度 :100ppm 未満測定基準 : T-Cr が 100ppm 以上 ( 定量下限が 30ppm を保証できるものであれば良いものと数る ) の時は六価クロムを分析する T-Cr の場合 Cd や Pb と同時の前処理でかまわない (1) 前処理 1. 溶出法 ( 温水抽出法アルカリ抽出法 ( 例えば EPA 3060A)) (2) 測定法 1. シフェニルカルハシト吸光光度法 2. フレーム原子吸光法 3.ICP 発光分析法 ( 鉄共沈法 ) 上記の他にも前処理と測定装置の組み合わせにより六価クロムの定量下限が 5ppm 未満であることを保証できるものであれば良いものとする PBB/PBDE 許容濃度 :1000ppm 未満測定基準 : (1) 前処理 1. 試料をトルエンテトラヒドロフラン等の試料溶解に適した有機溶剤を用い又ソックスレー抽出法などの適切な抽出法を用い溶解又は膨潤させて PBB,PBDE を抽出する (2) 測定法 1.GC-MS

9 9/10 容器包装材料に関する追加事項物質名 : 重金属 ( カドミウム鉛六価クロム水銀 ) 許容濃度 : 水銀カドミウム六価クロム鉛の重金属の許容濃度は包装を構成する各部材インキ塗料毎にて重金属の合計 100ppm 未満とする但しプラスチック ( ゴムを含む ) 塗料インキの部位におけるカドミウム鉛の許容濃度はカドミウム及びカドミウム化合物鉛及び鉛化合物の規定も満足することクロムについてはまず総クロム量として分析し 4 元素合計で 100ppm 未満であることを確認するこの場合カドミウムや鉛と同時の前処理でも構わない総クロム量として分析の結果 4 元素合計で 100ppm 以上の場合には総クロムの測定値を合計値から差し引いた値が 100ppm 未満であることを確認するさらにクロムが六価クロムであるかどうかの検出判定を行い最終的に六価クロムが検出されないこと測定基準 : (1) 前処理カドミウム鉛についてはそれぞれの方法に準ずる総クロムはカドミウムの方法に準ずる水銀については主に下記の 3 種類の方法が挙げられる 1. 密閉容器内での加圧酸分解法 ( マイクロウェーブ分解法 ( 例えば EPA 3052:1996) を含む ) 2. 加熱気化ー冷原子吸光法 3. 還流冷却器付き分解フラスコ ( ケルダール法 ) を用いた硫酸硝酸での湿式分解法などを用いるいずれの方法においても水銀が揮発しないよう注意を払うことまた沈殿物が生じた場合は何らかの方法で溶解して溶液化することが必要である (2) 測定装置カドミウム鉛総クロムについてはそれぞれの方法に準ずる水銀についてはカドミウム鉛の方法と同様であるが予め低濃度の混入が予想される場合還元気化原子吸光法あるいは水素化発生装置付き ICP-AES(ICP-OES) ICP-MS 法による分析が適当と考えられる容器包装材料の識別 : 業務用製品に用いるもの ( レジナス化成製品の輸送に用いられるもの ) 例えば容器カートン ( 箱 ) 緩衝材保護袋 ( シート ) ポリ袋封筒仕切り / スペーサー印刷インキ粘着テープラベル結束バンドなど

10 10/10 版制改訂日改訂内容初版初版制定 2 版 SS-00259(SIXTH EDITION) に基づき管理物質追加 3 版 SS-00259(SIXTH EDITION) 及びJGPSSI 製品含有化学物質管理ガイドライン ( 第 1.1 版 ) を包含した環境管理物質に拡大 4 版 SS-00259の改訂 (SEVENTH EDITION) に伴いレジナス化成環境管理物質管理基準をVer.4に改訂 SS-00259の改訂 (EIGHT EDITION) 及びJGPSSI 製品含有化学 5 版物質管理ガイドラインからジョイントインダストリーガイドライン (JIG) に対象物質を移行するためレジナス化成環境管理物質管理基準をVer.5に改訂適用範囲を第二工場から第二工場及び第三工場に拡大ジョ 6 版イントインダストリーガイドライン (JIG) の改訂 (JIG-101 Ed 2.0 和訳版 ) に伴いレジナス化成環境管理物質管理基準をVer.6に改訂 SS-00259の改訂 (NINE EDITION) 及びジョイントインダス 7 版トリーガイドライン (JIG) の改訂 (JIG-101 Ed 3.0 和訳版 ) に伴いレジナス化成環境管理物質管理基準を Ver.7に改訂 8 版 SS-00259の改訂 (TENTH EDITION) に伴いレジナス化成環境管理物質管理基準をVer.8に改訂 9 版 SS-00259の改訂 (ELEVENTH EDITION) 及びジョイントインダストリーガイドライン (JIG) の改訂 (JIG-101 Ed 4.1 和訳版 ) に伴いレジナス化成環境管理物質管理基準をVer.9 に改訂 10 版レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.10に改訂 SS-00259の改訂(TWELFTH EDITION) に伴う許容濃度の追記実状に沿った適用除外項目( 包装材料 ) の追記 11 版レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.11に改訂 SS-00259の改訂(13 EDITION) に伴う許容濃度の追加対象物質アンチモンおよびアンチモン化合物の削除 12 版レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.12に改訂 SS-00259の改訂(14 EDITION) に伴う物質及び許容濃度の追加 13 版レジナス化成環境管理物質管理基準の対象物質を見直しビスマス及びビスマス化合物をGADSL 対象 6 物質及びビスマス-テルル化合物に限定したビスマス化合物とした ( 別表 4 追加 ) 14 版レジナス化成環境管理物質管理基準の対象物質を見直し水銀及び水銀化合物の許容濃度を100ppmから2ppmに変更したまた測定法の項から代替方法に関する記述を削除した

グリーン調達基準書

グリーン調達基準書第 11 版制定 2003 年 9 月 1 日改訂 2015 年 6 月 10 日日本トムソン株式会社 NIPPON THOMPSON CO.,LTD. はじめに日本トムソン株式会社は 1998 年度より企業の社会的責任として環境に配慮した企業活動を行ない環境負荷を低減し豊かな地球環境の実現に貢献するを基本理念として企業活動を行っております弊社は環境に配慮した製品をお客様にお届けすることが