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1/10 レジナス化成環境管理物質管理基準 (Ver.14) レジナス化成株式会社 2016 年 10 月

2/10 レジナス化成環境管理物質管理基準 Ver.14 No. 環境管理物質名 レジナス化成管理基準 備考 1 カドミウム及びカドミウム化合物 意図的な使用を禁止且つ容器 包装材は1+2+3+4で 許容濃度 5ppm 未満 100ppm 未満であること 2 鉛及び鉛化合物 意図的な使用を禁止且つ容器 包装材は1+2+3+4で 許容濃度 100ppm 未満 100ppm 未満であること 3 水銀及び水銀化合物 意図的な使用を禁止且つ容器 包装材は1+2+3+4で 許容濃度 2ppm 未満 100ppm 未満であること 4 六価クロム化合物 意図的な使用を禁止且つ容器 包装材は1+2+3+4で 許容濃度 100ppm 未満 100ppm 未満であること 表面処理用途は適用外 5 ポリ塩化ビフェニル (PCB) 類および 意図的な使用を禁止且つ 特定代替品 許容濃度 50ppm 未満 6 ポリ塩化ナフタレン (PCN) 類 意図的な使用を禁止 7 ポリ塩化ターフェニル (PCT) 類 意図的な使用を禁止且つ許容濃度 50ppm 未満 8 短鎖塩素化パラフィン (SCCP) 意図的な使用を禁止且つ 炭素鎖長 8~13の短鎖型塩 許容濃度 1000ppm 未満 素化パラフィン 9 その他の有機塩素系化合物 意図的な使用を禁止 難燃剤用途 10 ポリブロモビフェニル (PBB) 意図的な使用を禁止且つ許容濃度 1000ppm 未満 11 ポリブロモジフェニルエーテル (DecaB 意図的な使用を禁止且つ DEを含む )(PBDE) 許容濃度 1000ppm 未満 12 その他の有機臭素系化合物 意図的な使用を禁止 難燃剤用途 13 三置換有機スズ化合物 ( トリフ チルスス (TBT) 意図的な使用を禁止且つ 化合物, トリフェニルスス (TPT) 化合物を含む ) 許容濃度 1000ppm 未満 ( スス 元素として ) 14 ジブチルスズ (DBT) 化合物 意図的な使用を禁止且つ許容濃度 1000ppm 未満 ( スス 元素として ) 15 ジオクチルスズ (DOT) 化合物 意図的な使用を禁止且つ 繊維 布材への添加剤用途 許容濃度 1000ppm 未満 ( スス 元素として ) 16 石綿 ( アスベスト ) 意図的な使用を禁止 17 特定アゾ化合物 意図的な使用を禁止且つ 別表 1 包装材料は適用外 許容濃度 30ppm 未満 繊維 布材料 皮革製品用途 18 ホルムアルデヒド 意図的な使用を禁止 木工製品用途 19 ポリ塩化ビニル (PVC) およびPVC 混合 意図的な使用を禁止 車載機器取付用吸着盤等の用途 20 ベリリウム及びベリリウム化合物 意図的な使用を禁止 ( 酸化ベリリウム ベリリウム銅 ) 21 特定フタル酸エステル (DEHP DBP BBP 意図的な使用を禁止 別表 2 DIBP DINP DIDP DNOP DNHP DIHP DHNU P DMEP DIPP DPP その他) 22 オゾン層破壊物質 意図的な使用を禁止 設備用冷媒は適用外 23 放射性物質 意図的な使用を禁止 24 ヒ素及びヒ素化合物 ( 五酸化二ヒ素 意図的な使用を禁止且つ 液晶パネルのガラス消泡剤 三酸化二ヒ素 ) 許容濃度 1000ppm 未満 用途 25 ビスマス化合物 意図的な使用を禁止且つ 別表 4 許容濃度 1000ppm 未満 26 ニッケル 意図的な使用を禁止 皮膚に長時間接触するものに限る 27 セレン及びセレン化合物 意図的な使用を禁止 28 フッ素系温室効果ガス 意図的な使用を禁止 設備用冷媒は適用外 ( ハイト ロフルオロカーホ ン (HFC) ハ ーフルオロカーホ ン (PFC) 6フッ化硫黄 (SF6)) 29 ハイト ロクロロフルオロカーホ ン (HCFC) 意図的な使用を禁止 設備用冷媒は適用外製品に搭載する ( 組み込む ) 用途 30 パーフルオロオクタンスルホン酸 ( 塩意図的な使用を禁止 を含む )(PFOS) 31 2-(2H-1,2,3-ヘ ンソ トリアソ ール-2-イル )-4,6- 意図的な使用を禁止 CAS No.3846-71-7 シ -tert-フ チルフェノール (UV-320) 32 2-(2H-ヘ ンソ トリアソ ール-2-イル )-4,6-シ -Ter 意図的な使用を禁止 CAS No.25973-55-1 t-ヘ ンチルフェノール (UV-328) 33 塩化コバルト 意図的な使用を禁止 湿度指示薬用途 34 ヘキサブロモシクロドデカン (HBCDD) 意図的な使用を禁止且つ 及び全ての主要ジアステレオ異性体 許容濃度 1000ppm 未満 35 過塩素酸塩 意図的な使用を禁止 36 リン酸トリス (2-クロロエチル)(TCEP) リン酸意図的な使用を禁止且つ 難燃剤用途 トリス (1-メチル-2-クロロエチル)(TCPP) リン酸許容濃度 1000ppm 未満トリス (1,3-シ クロロ-2-フ ロヒ ル)(TDCPP) 37 フマル酸ジメチル 意図的な使用を禁止且つ許容濃度 0.1ppm 未満

38 アルミノ珪酸塩 耐火セラミック繊維 意図的な使用を禁止 39 ジルコニアアルミノ珪酸塩 耐火セラ意図的な使用を禁止 ミック繊維 40 ホウ酸及び特定ホウ酸ナトリウム 意図的な使用を禁止 別表 3 包装材料は適用外 41 [4-{ ヒ ス (4-シ メチルアミノフェニル) メチレン }-2,5-シク意図的な使用を禁止 ロヘキサシ エン-1-イリテ ン ] シ メチルアンモニウムクロリト ( 別名 :C.I ヘ イシックハ イオレット3) 42 4-(1,1,3,3-テトラメルブチル ) フェノ意図的な使用を禁止 ール 43 ビス (2-メトキシエチル) エーテル 意図的な使用を禁止 44 N,N-ジメチルアセトアミド (DMAC) 意図的な使用を禁止 45 2,2'-シ クロロ-4,4'-メチレンシ アニリン (MOCA) 意図的な使用を禁止 46 パーフルオロオクタン酸 (PFOA) その意図的な使用を禁止 塩及びそのエステル 47 多環芳香族炭化水素 (PAH) 意図的な使用を禁止 48 エチレングリコールジメチルエーテル意図的な使用を禁止 (EGDME) 49 リン酸トリキシリル (TXP) 意図的な使用を禁止 50 N-フェニルヘ ンセ ンアミンとスチレンおよび2,2,4-トリ意図的な使用を禁止 コ ムへの添加剤は適用外 メチルヘ ンテンの反応生成物 (BNST) 51 10-エチル-4,4-シ オクチル-7-オキソ-8-オキサ-3,5- 意図的な使用を禁止シ チア-4-スタンナテトラテ カン酸 2-エチルヘキシル (DOTE) 52 10-エチル-4,4-シ オクチル-7-オキソ-8-オキサ-3,5- 意図的な使用を禁止且つシ チア-4-スタンナテトラテ カン酸 2-エチルヘキシルと10-エ許容濃度 1000ppm 未満チル-4-[[2-[(2-( エチルヘキシル ) オキシ )-2-オキソエチル ] チオ ]-4-オクチル-7-オキソ-8-オキサ-3,5-シ チア-4 -スタンナテトラテ カン酸 2-エチルヘキシル ] を構成要素とする物質 (DOTEとMOTEを構成要素とする物質 ) 3/10

4/10 別表 1 アゾ化合物の分解により発生してはならないアミン一覧 CAS No. アミン 92-67-1 4-アミノジフェニル (4-animodiphenyl) 92-87-5 ベンジジン (Benzidine) 95-69-2 4-クロロ-o-トルイジン (4-chloro-o-toluidine) 91-59-8 2-ナフチルアミン (2-naphthylamine) 97-56-3 o-アミノアゾトルエン (o-aminoazotoluene) 99-55-8 2-アミノ-4-ニトロトルエン (2-amino-4-nitrotoluene) 106-47-8 p-クロロアニリン (p-chroloaniline) 615-05-4 2,4-ジアミノアニソール (2,4-diaminoanisole) 101-77-9 4,4'-ジアミノジフェニルメタン (4,4'-diaminodiphenylmethane) 91-94-1 3,3'-ジクロロベンジジン (3,3'-dichlorobenzidine) 119-90-4 3,3'-ジメトキシベンジジン (3,3'-dimethoxybenzidine) 119-93-7 3,3'-ジメチルベンジジン (3,3'-dimethylbenzidine) 838-88-0 3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノジフェニルメタン (3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane) 120-71-8 p-クレシジン (p-cresidine) 101-14-4 4,4'-メチレン-ビス-(2-クロロアニリン )(4,4'-methylene-bis-(2-chloroanilene)) 101-80-4 4,4'-オキシジアニリン (4,4'-oxideaniline) 139-65-1 4,4'-チオジアニリン (4,4'-thiodianiline) 95-53-4 o-トルイジン (o-toluidine) 95-80-7 2,4-トルイレンジアミン (2,4-toluylenediamine) 137-17-7 2,4,5-トリメチルアニリン (2,4,5-trimethylaniline) 90-04-0 o-アニシジン (o-anisidine) 60-09-3 4-アミノアゾベンゼン (4-aminoazobenzene)

5/10 別表 2 特定フタル酸エステル ( フタレート ) 一覧 略称 CAS No. 名称 DEHP 117-81-7 フタル酸ビス (2- エチルヘキシル ); フタル酸ジ -2- エチルヘキシル DBP 84-74-2 フタル酸ジブチル ; フタル酸ジ -n- ブチル BBP 85-68-7 フタル酸ブチルベンジル ; フタル酸 n- ブチルベンジル DIBP 84-69-5 フタル酸ジイソブチル ; フタル酸ジ -i- ブチル DINP 28553-12-0 フタル酸ジイソノニル ; フタル酸ジ-i-ノニル 68515-48-0 DIDP 26761-40-0 フタル酸ジイソデシル ; フタル酸ジ-i-デシル 68515-49-1 DNOP 117-84-0 フタル酸ジ -n- オクチル DNHP 84-75-3 フタル酸ジヘキシル ; フタル酸ジ -n- ヘキシル DIHP 71888-89-6 炭素数 7 を主成分とする炭素数 6 ~ 8 の分岐アルキルを有するフタル酸 ジアルキル DHNUP 68515-42-4 炭素数 7 ~ 11 の分岐および直鎖アルキルを有するフタル酸ジアルキル DMEP 117-82-8 フタル酸ビス (2- メトキシエチル ) DIPP 605-50-5 フタル酸ジイソペンチル - 84777-06-6 分岐および直鎖のフタル酸ジペンチル - 776297-69-9 フタル酸 -n- ペンチル - イソペンチル DPP 131-18-0 フタル酸ジペンチル - 68515-50-4 分岐および直鎖のフタル酸ジヘキシル 別表 3 特定ホウ酸ナトリウム一覧 CAS No. 名 称 10043-35-3 ホウ酸 11113-50-1 ホウ酸 12179-04-3 七酸化二ナトリウム四ホウ素五水和物 ; 四ホウ酸二ナトリウム無水物 1330-43-4 七酸化二ナトリウム四ホウ素 ; 四ホウ酸二ナトリウム無水物 1303-96-4 四ホウ酸ナトリウム十水物 ; 四ホウ酸二ナトリウム無水物 12267-73-1 七酸化二ナトリウム四ホウ素水和物 ; 四ホウ酸二ナトリウム水和物

別表 4 ビスマス化合物一覧 6/10 CAS No. 名 称 13702-38-0 ヒ酸 (As3O4) ビスマス塩 ( 1:1 ) 65229-22-3 酸化ビスマス鉛ルテニウム 12048-28-1 ビスマス- 鉛化合物 ( 1:1 ) 11116-83-9 ニビスマスニ鉛三ルテニウム三デカオキシド 69029-46-5 ビスマス豊富の鉛入りドロス 12688-64-1 ビスマス-ニッケル化合物 ( 1:1 ) 12048-36-1 ビスマス-テルル化合物

7/10 測定基準 カドミウム及びその化合物 許容濃度 :5ppm 未満 測定基準 : (1) 前処理前処理方法については 主に下記の 4 種類の方法が挙げられる 1. 硫酸存在下では灰化法 ( 例えば IEC 62321:2008) 2. 密閉容器内での加圧酸分解法 ( マイクロウェーブ分解法 ( 例えば EN 13346:2000 or EPA 3052:1996) を含む ) 3. 硝酸 過酸化水素水 塩酸による酸分解法 ( 例えば EPA 3050B Rev.2:1996) 4. 硫酸 硝酸 過酸化水素水での湿式分解法 ( 例えば BS EN 1122:2001) などを用いる 上記の全てにおいて 沈殿物 ( 不溶物 ) が生じた場合は 何らかの方法 ( アルカリ溶解法など ) で完全に溶解して溶液化することが必要である (2) 測定法測定法については 主に下記の 3 種類の方法が挙げられる 1. 誘導結合 - プラズマ発光分光分析装置 [ICP-AES(ICP-OES)]; 例えば EN ISO 11885:1998 2. 原子吸光分析装置 (AAS); 例えば EN ISO 5961:1995 3. 誘導結合 - プラズマ質量分析装置 (ICP-MS); 例えば IEC 62321:2008 上記の他にも前処理と測定装置の組み合わせにより カドミウムの定量下限が 5ppm 未満であることを保証できるものであれば 良いものとする なお カドミウム 鉛は上記の AAS 以外の方法では同時に分析可能である ( 注 ) EN 71-3:1994 ASTM F963-96a ASTM F963-03 ASTM D 5517 ISO 8124-3 に代表される溶出法は 前処理として不適用である 工業廃水試験法である (JIS K0102) の 55 項は測定法のみのため 前処理方法の併記が必須である 鉛及びその化合物 許容濃度 :100ppm 未満 測定基準 : (1) 前処理前処理方法については 主に下記の 4 種類の方法が挙げられる 1. 硫酸存在下では灰化法 ( 例えば IEC 62321:2008) 2. 密閉容器内での加圧酸分解法 ( マイクロウェーブ分解法 ( 例えば EN 13346:2000 or EPA 3052:1996) を含む ) 3. 硝酸 過酸化水素水 塩酸による酸分解法 ( 例えば EPA 3050B Rev.2:1996) 4. 硫酸 過酸化水素水での湿式分解法などを用いる 上記の全てにおいて 沈殿物 ( 不溶物 ) が生じた場合は 何らかの方法 ( アルカリ溶解法など ) で完全に溶解して溶液化することが必要である (2) 測定法測定法については 主に下記の 3 種類の方法が挙げられる 1. 誘導結合 - プラズマ発光分光分析装置 [ICP-AES(ICP-OES)]; 例えば EN ISO 11885:1998 2. 原子吸光分析装置 (AAS); 例えば EN ISO 5961:1995 3. 誘導結合 - プラズマ質量分析装置 (ICP-MS); 例えば IEC 62321:2008 上記の他にも前処理と測定装置の組み合わせにより 鉛の定量下限が 30ppm 未満であることを保証できるものであれば 良いものとする なお カドミウムと鉛は上記の AAS 以外の方法では同時に分析可能である ( 注 ) EN 71-3:1994 ASTM F963-96a ASTM F963-03 ASTM D 5517 ISO 8124-3 に代表される溶出法は 前処理として不適用である また EN 1122 は鉛に対する前処理法としては不適用である 工業廃水試験法である (JIS K0102) の 54 項は測定法のみのため 前処理方法の併記が必須である

8/10 水銀及びその化合物 許容濃度 :2ppm 未満 測定基準 : (1) 前処理 1. 密閉容器内で加圧酸分解法 ( マイクロウエーフ 分解法 例えば EPA 3052:1996 を含む ) 2. 加熱気化 - 冷原子吸光法 3. 環流冷却器付分解フラスコを ( ケルタ ール法 ) を用いた 硫酸 硝酸での湿式分解法を用いる (2) 測定法 Cd.Pb の方法と同様であるが 還元気化原子吸光法 或いは水素化発生装置付 ICP-AES(ICP-OES) ICP-MS による分析が考えられる 六価クロム化合物 許容濃度 :100ppm 未満 測定基準 : T-Cr が 100ppm 以上 ( 定量下限が 30ppm を保証できるものであれば良いものと数る ) の時は六価クロムを分析する T-Cr の場合 Cd や Pb と同時の前処理でかまわない (1) 前処理 1. 溶出法 ( 温水抽出法 アルカリ抽出法 ( 例えば EPA 3060A)) (2) 測定法 1. シ フェニルカルハ シ ト 吸光光度法 2. フレーム原子吸光法 3.ICP 発光分析法 ( 鉄共沈法 ) 上記の他にも前処理と測定装置の組み合わせにより 六価クロムの定量下限が 5ppm 未満であることを保証できるものであれば 良いものとする PBB/PBDE 許容濃度 :1000ppm 未満 測定基準 : (1) 前処理 1. 試料をトルエン テトラヒドロフラン等の試料溶解に適した有機溶剤を用い 又 ソックスレー抽出法などの適切な抽出法を用い 溶解又は膨潤させて PBB,PBDE を抽出する (2) 測定法 1.GC-MS

9/10 容器 包装材料に関する追加事項 物質名 : 重金属 ( カドミウム 鉛 六価クロム 水銀 ) 許容濃度 : 水銀 カドミウム 六価クロム 鉛の重金属の許容濃度は 包装を構成する各部材 インキ 塗料毎にて 重金属の合計 100ppm 未満とする 但し プラスチック ( ゴムを含む ) 塗料 インキの部位におけるカドミウム 鉛の許容濃度は カドミウム及びカドミウム化合物 鉛及び鉛化合物の規定も満足すること クロムについては まず総クロム量として分析し 4 元素合計で 100ppm 未満であることを確認する この場合 カドミウムや鉛と同時の前処理でも構わない 総クロム量として分析の結果 4 元素合計で 100ppm 以上の場合には 総クロムの測定値を合計値から差し引いた値が 100ppm 未満であることを確認する さらに クロムが六価クロムであるかどうかの検出判定を行い 最終的に 六価クロムが検出されないこと 測定基準 : (1) 前処理カドミウム 鉛については それぞれの方法に準ずる 総クロムはカドミウムの方法に準ずる 水銀については 主に下記の 3 種類の方法が挙げられる 1. 密閉容器内での加圧酸分解法 ( マイクロウェーブ分解法 ( 例えば EPA 3052:1996) を含む ) 2. 加熱気化ー冷原子吸光法 3. 還流冷却器付き分解フラスコ ( ケルダール法 ) を用いた 硫酸 硝酸での湿式分解法などを用いる いずれの方法においても 水銀が揮発しないよう注意を払うこと また 沈殿物が生じた場合は 何らかの方法で溶解して溶液化することが必要である (2) 測定装置カドミウム 鉛 総クロムについては それぞれの方法に準ずる 水銀については カドミウム 鉛の方法と同様であるが 予め低濃度の混入が予想される場合 還元気化原子吸光法 あるいは水素化発生装置付き ICP-AES(ICP-OES) ICP-MS 法による分析が適当と考えられる 容器 包装材料の識別 : 業務用製品に用いるもの ( レジナス化成製品の輸送に用いられるもの ) 例えば容器 カートン ( 箱 ) 緩衝材 保護袋 ( シート ) ポリ袋 封筒 仕切り / スペーサー 印刷インキ 粘着テープ ラベル 結束バンドなど

10/10 版制改訂日改訂内容 初版 2006.2.15 初版制定 2 版 2007.4.12 SS-00259(SIXTH EDITION) に基づき管理物質 18-20 追加 3 版 2007.6.29 SS-00259(SIXTH EDITION) 及びJGPSSI 製品含有化学物質管理 ガイドライン ( 第 1.1 版 ) を包含した環境管理物質に拡大 4 版 2008.4.21 SS-00259の改訂 (SEVENTH EDITION) に伴いレジナス化成環境 管理物質管理基準をVer.4に改訂 SS-00259の改訂 (EIGHT EDITION) 及びJGPSSI 製品含有化学 5 版 2009.4. 8 物質管理ガイドラインからジョイント インダストリー ガイドライン (JIG) に対象物質を移行するためレジナス化成環境管理物質管理基準をVer.5に改訂 適用範囲を第二工場から第二工場及び第三工場に拡大ジョ 6 版 2009.7. 3 イント インダストリー ガイドライン (JIG) の改訂 (JIG-101 Ed 2.0 和訳版 ) に伴い レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.6に改訂 SS-00259の改訂 (NINE EDITION) 及びジョイント インダス 7 版 2010.4. 26 トリー ガイドライン (JIG) の改訂 (JIG-101 Ed 3.0 和訳版 ) に伴い レジナス化成環境管理物質管理基準を Ver.7に改訂 8 版 2011.5.26 SS-00259の改訂 (TENTH EDITION) に伴いレジナス化成環境管 理物質管理基準をVer.8に改訂 9 版 2012.6.25 SS-00259の改訂 (ELEVENTH EDITION) 及びジョイント インダストリー ガイドライン (JIG) の改訂 (JIG-101 Ed 4.1 和訳版 ) に伴い レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.9 に改訂 10 版 2013.7.26 レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.10に改訂 SS-00259の改訂(TWELFTH EDITION) に伴う許容濃度の追記 実状に沿った適用除外項目( 包装材料 ) の追記 11 版 2014.9.8 レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.11に改訂 SS-00259の改訂(13 EDITION) に伴う許容濃度の追加 対象物質 アンチモンおよびアンチモン化合物 の削除 12 版 2015.9.24 レジナス化成環境管理物質管理基準をVer.12に改訂 SS-00259の改訂(14 EDITION) に伴う物質及び許容濃度 の追加 13 版 2016.2.8 レジナス化成環境管理物質管理基準の対象物質を見直し ビスマス及びビスマス化合物 をGADSL 対象 6 物質及びビスマス-テルル化合物に限定した ビスマス化合物 とした ( 別表 4 追加 ) 14 版 2016.10.25 レジナス化成環境管理物質管理基準の対象物質を見直し 水銀及び水銀化合物 の許容濃度を100ppmから2ppmに変更した また 測定法の項から代替方法に関する記述 を削除した