分科会資料

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さみらちづ
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1 研究評価委員会次世代半導体材料プロセス基盤 (MIRAI) プロジェクト ( 事後評価 ) 分科会議事要旨日時 : 平成年月日 ( 木 ) ~ 平成年月日 ( 月 ) ~ 場所 : 全国町村議員会館 ( 階第 ~ 会議室 ) 東京都千代田区一番町番地出席者 ( 敬称略順不同 ) < 分科会委員 > 分科会長白木靖寛東京都市大学総合研究所教授東京大学名誉教授分科会長代理杉山進立命館大学立命館グローバルイノベーション研究機構教授委員安達隆郎エルピーダメモリ株式会社取締役委員岡田龍雄九州大学大学院システム情報科学研究院電気システム工学部門教授委員鈇田博日新イオン機器株式会社新事業推進室室長委員笹子勝パナソニック ( 株 ) セミコンダクター社生産本部プロセス開発センター次世代技術グループチームリーダー委員佐野伸行筑波大学大学院数理物質科学研究科電子物理工学専攻教授委員塩野登 ( 財 ) 日本電子部品信頼性センター理事委員角南英夫広島大学名誉教授委員平井義彦大阪府立大学大学院工学研究科電子数物系専攻教授委員渡部俊太郎東京理科大学総合研究機構教授 < 推進者 > 中山亨 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部部長古室昌徳 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部プログラムマネージャー宮田典幸 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部主任研究員小野英輝 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部主査河本滋 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部主査吉木政行 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部主幹寺澤伸二 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部主査島津高行 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部主査宇佐美典也 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部主査一色俊之 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部職員佐藤義竜 NEDO 電子材料ナノテクノロジー部職員 <オブザーバー > 矢野友三郎経済産業省産業技術環境局研究開発課研究開発調整官小竹幸浩経済産業省商務情報政策局情報通信機器課課長補佐 1

2 山森英史経済産業省商務情報政策局情報通信機器課係長 < 実施者 > 渡辺久恒株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 代表取締役社長 (PL) 金山敏彦独立行政法人産業技術総合研究所ナノ電子デバイス研究センター理事太田裕之独立行政法人産業技術総合研究所ナノ電子デバイス研究センター研究チーム長手塚勉株式会社東芝研究開発センター LSI 基盤技術ラボラトリー主任研究員最上徹株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部部長熊代成孝株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部 NSI プロジェクト耐外部擾乱デバイスプログラムプログラムマネージャー粟野祐二株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部 NSI プロジェクトカーボン配線プログラムプログラムマネージャー大橋啓之株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部 NSI プロジェクト光配線プログラムプログラムマネージャー平本俊郎株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部 NSI プロジェクトロバスト Tr プログラムプログラムマネージャー西田彰男株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部 NSI プロジェクトロバスト Tr プログラムグループリーダー二瓶瑞久株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部 NSI プロジェクトカーボン配線プログラムグループリーダー酒井忠司株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第四研究部 NSI プロジェクトカーボン配線プログラムグループリーダー森一朗株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第三研究部取締役部長茂村弘之株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第三研究部次世代マスクプロジェクト EUV マスクプログラム主管研究員井谷俊郎株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 第三研究部次世代マスクプロジェクト EUV リソプログラム主管研究員笠間邦彦技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構 (EUVA) 研究部部長小川眞佐志技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構 (EUVA) 専務理事高木宏株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 企画部国プロジェクト課担当課長湊修株式会社半導体先端テクノロジーズ (Selete) 企画部取締役部長岡崎信次技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構 (EUVA) 総務部部長栗原啓志郎技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構 (EUVA) 光源戦略策定会議議長住谷明技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構 (EUVA) 研究部平塚研究室室長堀田和明技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構 (EUVA) 研究部御殿場研究室室長 < 企画調整 > 田島義守 NEDO 総務企画部課長代理 < 事務局 > 2

3 竹下満 NEDO 評価部部長寺門守 NEDO 評価部主幹吉崎真由美 NEDO 評価部主査松下智子 NEDO 評価部職員室井和幸 NEDO 評価部主査 < 一般傍聴者 > 4 名議事次第 ( 公開セッション ) 1. 開会分科会の設置について資料の確認 2. 分科会の公開について 3. 評価の実施方法 4. 評価報告書の構成について 5. プロジェクトの概要説明プロジェクト第 ~ 期全体概要第期の概要 ( 非公開セッション ) 第 Ⅰ Ⅱ 期成果の実用化事業化の見通し 6. プロジェクトの詳細説明次世代半導体材料プロセス基盤技術開発新構造極限 CMOS トランジスタ関連技術開発新探究配線技術開発特性ばらつきに対し耐性の高いデバイスプロセス技術開発次世代半導体露光プロセス基盤技術開発次世代マスク基盤技術開発 EUV 光源高信頼化技術開発 7. 全体を通しての質疑 ( 公開セッション ) 8. まとめ講評 9. 今後の予定 10. 閉会 3

4 議事要旨 <1 日目 4 月 14 日 ( 木 )> ( 公開セッション ) 1. 開会分科会の設置について資料の確認開会宣言( 事務局 ) 事務局室井主査より分科会の設置について資料及びに基づき説明があった白木分科会長挨拶出席者( 委員推進者実施者事務局 ) の紹介 ( 事務局推進者 ) 配布資料の確認( 事務局 ) 2. 分科会の公開について事務局より資料に基づき説明し今回の議題のうち議題第 Ⅰ Ⅱ 期成果の実用化事業化の見通し議題プロジェクトの詳細説明および議題 7 全体を通しての質疑を非公開とすることが了承された 3 評価の実施方法 4. 評価報告書の構成について評価の手順および評価報告書の構成を事務局より資料 ~ 資料の内容に基づき説明し事務局案どおり了承された 5. プロジェクトの概要説明プロジェクト第 ~ 期全体概要推進者 ( 古室 ) より資料に基づき説明が行われた第期の概要推進者 ( 古室 ) 及び実施者 ( 渡辺 ) より資料に基づき説明が行われた事業の位置付け必要性研究開発マネジメント研究開発成果実用化事業化の見通し説明に対し以下の質疑応答が行われた主な質疑応答質問知財権ライセンスに関するストラテジーはどうなっているか? 回答日本型バイドール法にしたがい基本的には公開ライセンスする方向であるすなわち発明者の帰属元の判断による質問 EUV の分野を選んでそこに注力するというストラテジーをどういうふうに決めたのか? 回答当時 EUV 関係のさまざまなプロジェクトがあった中で EUVA がウシオコマツニコンキヤノン等の企業と一緒に露光システムの開発を行ってきたそれを継続して 7 年間の成果としてニコンは機をキヤノンは SFET 装置を作って MIRAI プロジェクト (EUV マスク ) に供した質問配線技術でのメインストリームは金属配線であるがその部分はこの MIRAI では取り上げなかったその技術については他に対処する部隊あるいは組織があるからこの MIRAI ではカーボンナノチューブと光配線のほうに注力したということか? 4

5 回答その通りである金属配線は第 Ⅲ 期ではテーマでは取り上げていないが第 Ⅱ 期で Low-k カッパー (Cu) の配線技術カッパーのめっき等界面材料の開発等を行い Selete に移管した Selete で発塵問題界面問題劣化問題 TDDB 問題を改良しモジュール技術として開発しそれをプログラム参加企業に技術移管した質問第 Ⅲ 期の 6 つのテーマの目標としているデザインルールはそれぞれどうなっているのか分かりにくいので明確にして欲しい回答 MIRAI が始まった当初は 7 年後まではなかなか見えていなかったことで 45 ナノ以細とか 45 ナノを超えてのようにぼかした表現だった研究開発が進むにつれて技術の先行きも見えてきて次の技術は何をすべきかが分かってきたので基本計画の最終目標にハーフピッチ 32 ナノに対応する技術とうたったただし中間評価等で EUV に関しては 22 ナノに向けても対応すべきところは対応すべしとの提言を受けて EUV 等では 22 ナノに対してどの程度の適応性があるかを挙げた質問関連して 6つのテーマそれぞれで目標とするデザインルールはいくつなのか? 回答当初 45 ナノ以細というのは基本計画の第 1 行に書いてあり全体を通している思想はそれ以上のものではないしかし立てたときはそういう目標でオーソライズされたものの 45 ナノでよいのかという時代になり 32 ナノに変えたものもあるし EUV のようにほぼ 22 ナノに変えたのもあるユニバーサルな知見を得るということを最優先に考えた質問ファブライトなど外に委託するというのが増えているが事業目的から考えてそれをポジティブに思っているかネガティブに思っているか? 回答 1NEDO ファブライト化といっても国内に最先端の技術は残し国内に先導的なファブは残して海外に一部を生産委託すると理解している回答 2 実施者一言で言えば日本の携帯からスパコンまであらゆる製品で搭載するチップの低消費電力化同時に高速化に貢献することが一番大事なことであると考えてきた要するにこのミッションに貢献したかどうかということがプロジェクトに問われていることだと考えてきた生産委託をどこでするかという議論が最近盛んに出ているがたとえば SoC はそれ自身の市場規模の大小よりもシステムのキーコンポーネントとして重要でありそれに寄与するかどうかが問われていたと認識している質問前提としては基本的には日本の産業に寄与するということではないか? 回答その通りであり日本製のスパコンから携帯まで幅広いエレクトロニクスの発展に寄与してきたと理解している質問海外とのベンチマークはどうか? 回答全部 1 番だとは言わないがトップレベルであるただトップであることよりもそれが事業で役立つ知見を有しているかどうかが問題であり特に知見の方が重要だと思っている質問どのようなプロセスで研究テーマが設定されているのか? 2007 年ごろはバリスティック CMOS が 5

6 果たして本当に実現可能かという議論がふつふつとわき上がっていたころでそのようなときにあえて野心的なテーマを立ち上げたことにいささか不思議な感じがする回答一般論で言えばプロジェクトを起こそうというときは産業界のヒアリング等で情報収集し希望を聞いた上でその辺の技術問題を整理するために先導研究調査等をまず行うその後産業界有識者の先生方経産省の方々と調査結果を議論してプロジェクトの骨格を固めるその調査である程度の大きな項目で設定しある程度自由度を入れて公募するそれを有識者の採択委員会で判断して取り上げていく質問そういう委員会のメンバーに海外の研究リーダーは入るか? 回答海外の有識者を入れないというルールはないが今まで現実的には入れた例は極めて少ない質問各参加企業は成果を国際コンソーシアムに持ち込んで議論していく際に外国の企業に対して開示制限はあるか? 回答少なくとも NEDO 事業が終了した後に関しては制限はない承継した企業の自主判断になる質問この MIRAI のプロジェクトのテーマと成果の観点でポジショニングはどう変わっていったのか? 絞り込む過程をどうマネージしてきたか? 回答 1 実施者多数の候補材料を選んでスクリーニングするそのなかで特性や集積化の問題から落ちていくその過程でだめなデータも残しこれも報告書にした強引に 1 個に絞るよりもたくさんの知見を提供したほうがコンソーシアムとしては望ましいと考えた回答 2NEDO サブテーマの継続可否判断は基本的には NEDO がイニシアチブを取って判断するその際は他プロジェクトとの重複の有無や産業界からのニーズの変化等も考慮する質問人材育成は非常に重要であるプロジェクトに参加した若手研究員が企業に戻って経験を活かせるポジションについて企業に貢献しているのかどうかというのをフォローするのは NEDO の義務であると考える自分の印象では必ずしも企業に帰ってここで育った人が中心になって企業を支えているとようになっているとは思えない回答 1 実施者人材育成というミッションはあったが具体的な目標は必ずしも設定されていなかった世界に通用する人材が育ったと思うがそれぞれの企業に戻って世界相手に活躍する舞台を与えられているかというと十分ではないように思える大学へ転身した人は大いに活躍しているように見えるが企業に戻った場合は個人的な活躍が目立ちにくいがキーパーソンになっているようだ回答 2NEDO このようなプロジェクトを進めるときに技術そのものが生まれてくるということも大変期待しているが共通のコンセプトを持ちそれを持ち帰りプロジェクト OB として活躍してもらうということも期待しているただそれを受けとめる受け皿のほうがややそういう状況でなくなってしまっているということをやや遺憾に思っている質問プロジェクトで投下した資産をどのような形で回収するのかプロフィットをどこで得るのか? 回答 1 ファブライトとはいえまだこの技術を最先端のものについては生かし挑戦すると Selete の参加メンバーが言っている以上我々としてはそれを信じてそこで回収してくれることを期待している自社ブランド製品をどこで作るかということまで含めて技術を持っていることというのが付 6

7 加価値になっていくはずだという立場でプロジェクトをやっている回答 2 ファブレスとかファブライトとは関係ないテーマも数多くやっていて特にばらつき問題などは今日明日の生産に寄与していると思う先端中の先端の技術 EUV にしてもこの MIRAI プロジェクトでやったのはまずマスクの検査修正あるいはその周辺の技術でありこれをまともにそのまま日本の企業がマスクメーカーレジストメーカーその他検査機器メーカーがまともに受けて本当に実用化しようと挑戦が続いているコメント昔は 1 つの技術を開発すればそれがほとんどの集積回路に使われた極めてユニバーサルな技術がほとんどだったが最近は集積回路そのものの役割ターゲットが違って多様化してきたために技術のターゲットが違ってきて非常に多様化しているしたがって MIRAI で研究開発してきた技術というのがどの分野にどのくらい使われそうだどの分野に役に立ちそうだというそのスコープをかいていただくとわかりやすい回答その通りであるこのテーマをこの会社この人で進めてあとは横で協力してもらう EUV に最初に興味をもつのはメモリ事業で SoC 分野では時間的な期待が遅いので矛盾があるように見えるが長期的にはいつかその SoC にも適用されるだろうどのテーマでも成果の持つユニバーサル的な知見を有効に活用するにはテーマ毎に参加企業の努力が異なるのでこのやり方しかなかったのではないかと考えている非公開セッション ( 非公開のため省略 ) 非公開資料取扱説明第 Ⅰ Ⅱ 期成果の実用化事業化の見通し実施企業 8 社 6. プロジェクトの詳細説明次世代半導体材料プロセス基盤技術開発新構造極限 CMOS トランジスタ関連技術開発 < 日目月日 ( 月 )> 非公開セッション ( 非公開のため省略 ) 6. プロジェクトの詳細説明次世代半導体材料プロセス基盤技術開発新探究配線技術開発特性ばらつきに対し耐性の高いデバイスプロセス技術開発次世代半導体露光プロセス基盤技術開発次世代マスク基盤技術開発 EUV 光源高信頼化技術開発 7. 全体を通しての質疑公開セッション 7

8 8. まとめ講評各評価委員から以下の講評があった渡部委員 3 年 5 年の間に世の中のトレンドが変わってしまってあまりタイムリーではなかったというようなことはたまにあるにしても非常によくがんばってやったと思う前半の最先端デバイスプロセスやばらつきの評価では知見として共有することが重要である EUV は開始当初は大学でやっているような基礎研究がプロジェクトになるのかとを思っていたが企業が真剣に取り組んでおり安心したマスクやレジストの検討を同時に行ったことは非常によかったし世界的にこの分野を巻き込んだことはたしかである非常にインパクトのあるプロジェクトであった平井委員マスクや EUV について限られた時間限られた予算の中で非常に多大な成果が得られた光源についてはメイドインジャパンとしてものになるところまでもっていっていただきたいと強く思うマスク技術に関してもそこで見つけた知見を機材メーカー等に是非フィードバックしていただきたいデバイスについては特にばらつきに関する検討は非常にすばらしい仕事でこれをデータベース化するなりソフトウェアのライセンスとして実用化してほしい全体のマネジメントとしてはいろいろな他の国のプロジェクトも含めてものづくり日本の新たな技術としてまた新しいプロジェクトにうまくパッチワークを向けていって続けて日本の国の力を示していただきたい角南委員自分の専門に一番近い CMOS デバイスに限って話したいモビリティという観点で出した世界トップあるいはトップレベルのデータというはすばらしいがそれだけでは製品設計者は見向きもしない本当に集積回路の性能を上げるためにはどのくらい電流を流せるかということに尽きる最終的にはドライバビリティが次の段階にあってそこで初めて検討の俎上に上るいろいろな方式にトライするのは最初の段階では正解でありテクノロジー知見としての技術開発はこの段階では成功だと思う次は是非ドライバビリティに是非進んでいただきたいもう1つのアプリケーションであるメモリの場合集積密度が重要ここで提案されたデバイスはゲートのところだけは非常に小さく出来るように見えるが自己整合をどう使うかソースドレインに対するコンタクトをどうするかなど課題は多い実用化に向けた第 2 段階を MIRAI の後継プロジェクトでやらないのであればメーカー自身が MIRAI の知見を活かして次の展開を図ってほしい塩野委員デバイスや配線の要素技術に絞った研究だけでなく実用化のためにはインテグレーションまで必要だろうと思っていたが MIRAI は基礎研究でありインテグレーションは Selete で実施するという話だったので納得した Selete はこの研究成果を生かして本当にインテグレーションを日本としてやっていただきたいそれぞれ個別の研究成果は学会や研究レベルでは世界のトップレベルであると思うが標準化活動も重要である NEDO も日本版のロードマップのようなものも以前発表したがこういう成果を基に日本版ロードマップを充実させていただきたいまた今回の重要な成果をレポートとしてまとめて世界に発信して日本の意見として是非主張してほしい 8

9 佐野委員データは世界トップレベルで非常にユニークで貴重な情報がたくさん含まれていてすばらしい成果を挙げられたただ各テーマにおいて全体として見たときにどういう方向最終的には何をターゲットにして何を明確にしたいのかというところで若干あいまいなものもあったとの印象を持ったごく一部だが私の専門に近い分野では目新しいものはどこにあるだろうかというようなものも含まれていたプロジェクトの開始時に研究動向をしっかり把握して研究のテーマやターゲット研究に携わる人材を適切に設定することが非常に重要である笹子委員特にロバストトランジスタ関係など技術的には時代に合った最先端の成果が出たと認識している EUV のマスク等は非常にいい結果である副次的には技術者の育成にもつながったと思う一方で CNT と UCMOS ではこれが将来本当にメインストリームになるのかという懸念が残るファブライトファブレスについて議論になったがたとえファブライトファブレスになっても技術を保持することは必須であると思うテーマ設定には常にタイムリーに見直して半年くらいで見直すことも重要だろう最後に全体的にはもっと先の基礎研究について NEDO にフォローをお願いしたい鈇田委員日本の技術者研究者は非常に優秀でレベルが高い今回の成果は技術的な成果としてはすばらしいものがある解析計測的な技術は比較的デザインルールに依存せずある微細なデザインルール以降にユニバーサルに実用化出来るという点で非常に意味があるプロセス関係では配線に関しては今の段階では妥当だと思うトランジスタ関係はインテグレーションと一緒にやることが重要そうすることで出てくる課題も違うし解決するものが違ってくるモジュール開発までいって初めてプロセスとしての開発ということになるこのようなコンソーシアムの 10 年で 455 億円という予算は例えば海外の 7,000 億円などの規模に比べると決して大きくはない今後日本の中でコンソーシアムを組む場合は日本のデバイスメーカーだけではなくて当然海外も含めて考えないと必要な資金を集めるのは難しいだろう岡田委員サブテーマそれぞれすばらしい結果が出ているマスクの検査技術や修正については実用化の出口が見えた成果が出ている光源については 2 方式のどちらの方式も実用化することを期待しているパワーの問題でも最後までがんばってほしい他の半導体のプロセスについてもいろいろな解析の方法や検査技術について非常にすばらしい成果が出ていて非常に感動した今回の第 Ⅲ 期の評価には直接は関係しないが MIRAI プロジェクトは日本の半導体技術の競争力強化に向けて 10 年間走ってきたが残念ながらその間ファブレス化など日本の半導体産業の環境が変化し当初掲げられた目標に必ずしも合致していないのが少し残念だ大学でも半導体プロセスを研究している学生も多いので今後も日本の製造技術として是非がんばってほしい安達委員個々の成果はどれも世界一流かもっと先を行っておりすばらしいと評価するしかしここ 10 年間ここ数年間をとっても日本の半導体業界を取り巻く環境が大きく変わってしまったためにせっかくの成果が活かされるのかどうかわからないのは非常に残念だと思う半導体業界は動きが早い分野なのでプロジェクトのテーマの決め方に少し課題があると思う時間とともにそのターゲット自体がずれてきてしまうことが多々あるのがこの業界であるこのようなプロジェクトを推進する場合目標値ゴールを適宜見直していくスキームが必要である NEDO には 9

10 MIRAI のような R&D ファウンダリーを今後も日本に作ること非常に期待している杉山分科会長代理日本の半導体産業は基幹技術の粋たるものでありこの MIRAI のプロジェクトは日本としてやらなければいけないプロジェクトである大変すばらしい成果が多々あり世界のトップの技術が成果として出ており大変うれしく思った極限トランジスタでは CMOS という構造開発であり計画の中に実証というところまであるので是非 CMOS 構造にして新しい集積化をにらんだ構造を出してほしかった CNT 配線についても目標をクリアしていただきたかったばらつき関係では利用価値が大変高い成果でありどのように利用するかあるいは日本の技術としてどのようなまとめ方をするかということが今後の課題である最後の EUV の光源についてこれは半導体技術というよりも光と機械と電気の総合技術であると思うその観点からすると半導体材料プロセス基盤技術という設定で少し領域が広くなりすぎているのではないかと思う EUV 光源開発だけでも 1 つの大きなテーマであり 1 つのプロジェクトとして世界をリードできる世界ナンバーワンの技術になるのではないかと思っている半導体に関する研究開発は経営戦略に大変大きく影響されるためプロジェクトを設定するときに技術屋だけでなく経営戦略の視点も入れて研究開発プロジェクトを設計すべきである白木分科会長 MIRAI というプロジェクトが第期を設定して日本の半導体産業における技術のプレゼンスを上げるという意味でスタートしたことは非常によかった渡辺プロジェクトリーダーの実行力と哲学に基づくリーディングが今日の成果をもたらしたと思うこのプロジェクトは最終的な LSI まできちっと仕上げることを約束したプロジェクトではなく要素技術開発として実施してきたすべての研究項目は目標達成ということになっているがオール優の学生というのは往々にして危ない本プロジェクトは MIRAI と Selete が合体するようなかたちで行われたために個別技術としてはいい成果が得られたがインテグレーションについてはまだ検討が終わってない成果の受け取り手である Selete が解散するのは非常に残念に思う光配線およびカーボンナノチューブの配線については当初大学研究的な内容を NEDO で実施することに疑問を持ったが結果を見ると大きなお金をかけてある程度実証実験まできちんとやったことは意義が大きい今後の展開が心配だがプロジェクトとしては当初の目標を達成したということなのでオール優の学生にならないように是非今後ともよろしくお願いいたしたい 9. 今後の予定その他 10. 閉会 10

11 配布資料資料研究評価委員会分科会の設置について資料 NEDO 技術委員技術委員会等規程資料研究評価委員会分科会の公開について ( 案 ) 資料研究評価委員会関係の公開について資料研究評価委員会分科会における秘密情報の守秘について資料研究評価委員会分科会における非公開資料の取り扱いについて資料 NEDOにおける研究評価について資料技術評価実施規程資料評価項目評価基準資料評点法の実施について ( 案 ) 資料評価コメント及び評点票 ( 案 ) 資料評価報告書の構成について ( 案 ) 資料事業原簿 ( 公開 ) 資料事業原簿 ( 非公開 ) 資料プロジェクトの概要説明資料 ( 公開 ) 資料第期成果の実用化事業化の見通し ( 非公開 ) 資料プロジェクトの詳細 ( 非公開 ) 新構造極限トランジスタ関連技術開発資料プロジェクトの詳細 ( 非公開 ) 新探究配線技術開発資料プロジェクトの詳細 ( 非公開 ) 特性ばらつきに対し耐性の高いデバイスプロセス技術開発資料プロジェクトの詳細 ( 非公開 ) 次世代マスク基盤技術開発資料プロジェクトの詳細 ( 非公開 ) 光源高信頼化技術開発資料今後の予定以上 11

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<835A E E A B83678F578C768C8B89CA E786C7378> 2017 年年会 ( 日本大学 ) ランチョンセミナーセラミックスカフェアンケート集計 1. セラミックスカフェはお役にたちましたか? 1 2) まあまあ 5% 1 1) 良かった 95% 1. セラミックスカフェはお役にたちましたか? 1-1) 良かった 1-2) まあまあ 1-3) あまりよくなかった 54 3 57 95% 5% 0% 自由意見渡利先生のご講演の中で強みを活かす伸ばす