お客様との技術の架け橋 SANWA VACUUM CO.,LTD. R&D EQUIPMENT GROUP 会社案内 company profile 三和真空株式会社
企業理念 会社設立以来 お客様が求めるニーズとメーカーが作り出したシーズを結びつける技術の架け橋となって参りましたが 今後は技術の架け橋に加え自社で技術を保有し真空業界のトータルプロバイダーとして より深くお客様へ寄与できる企業を目指して参ります 会社概要 社 名 三和真空株式会社 所 在 地 143-0013 東京都大田区大森南 4-6-15 テクノFRONT 森ヶ崎 307 TEL:03-5735-5656 FAX:03-5735-5655 設 立 1988 年 5 月 24 日 代表取締役 鹿村健 資 本 金 45,000 千円 関 連 会 社 三和精密工業株式会社株式会社ユーテック有限会社タス工業 技 術 提 携 株式会社アールバキュームラボ 取 引 銀 行 東京都民銀行浜松町支店三菱東京 UFJ 銀行田町支店みずほ銀行浜松町支店 < テクノ FRONT 森ヶ崎外観 > < アクセス MAP> < 電車でお越しの場合 > 東京モノレール昭和島駅下車徒歩 12 分 JR 大森駅東口バスターミナル 2 番京浜急行バス森ケ崎行き乗車終点より徒歩 5 分 JR 蒲田駅東口バス乗り場 5 番京浜急行バス森ケ崎行き乗車終点より徒歩 5 分 京浜急行平和島駅前バス停京浜急行バス森ケ崎行き乗車終点より徒歩 5 分 三和真空株式会社
Vacuum Part 真空ポンプ 真空計 真空バルブ 金属ベローズ 各種フランジ 電流導入端子 Vacuum Unit 真空装置の開発 設計 製造 改造 修理 メンテナンス Vacuum Processing 真空チャンバー 排気配管 特殊精密加工 自社開発真空部品事業 オリジナル商品事業 オリジナル加工事業 MEMS センサ事業 自社開発商品 NW 継ぎ手 フレキ関連他 国内 試作 / 開発製品の生産海外 量産 / 原価低減製品の生産 自社開発 MEMS センサ ( 平成 25 年 9 月 10 日より開始いたしました ) 真空科学 研究用機器事 海外 販売代理店業務英国 : OXFORD APPLIED RESEARCH 社 (VSW-Atomtech 社 ) 表面科学 ナノサイエンス研究機器メーカー 国内 販売代理店業務 株式会社ユーテック真空成膜装置製造メーカー 株式会社アールバキュームラボ電流導入端子 / 宇宙開発 / 超高真空 / 研究開発装置メーカー 入江工研株式会社金属ベローズ / 大型ゲートバルブを得意とする真空部品メーカー
Original Vacuum Part NW-KF 継ぎ手規格部品 クランプ SC-Series クランプ SCC-Series センターリング SCR-Series アウターリンク 付センターリンク SCRO-Series ショートフランジ SF-20-Series ロングフランジ SF-50-Series ブランクフランジ SBF-Series フレキシブルチューブ SFT-Series
Original Vacuum Part Processing 試作から量産まで対応 真空部品加工 真空チャンハ ー SUS/AL 製 各種部品 排気配管 / 基板ホルダーなど 精密機械加工材料 :SUS AL Mo Ta etc 溶接 : アルゴン溶接樹脂加工 : テフロン /PEEK など検査 :He リークディテクター 超高真空チャンバー 1 超高真空チャンバー 2 主要設備機械汎用フライス汎用旋盤ボール盤サーキュラ超音波洗浄機 500 400 300 He リークディテクター HELEN M-212LD 協力工場 20 社含む Ta 電極加工 内面 #400 研摩 + 電解研磨仕上げ 丸チャンバー側面穴加工 Tig 溶接ビート 旋盤加工 Maxφ750mm 角チャンハ ー Tig 溶接
Vacuum System Partner 開発 設計 製造 改造 修理 メンテナンスまで対応 株式会社ユーテック本社 : 千葉県流山市西平井 956-1 中央研究所 : 埼玉県八潮市伊勢野 485-1 製膜技術のプロ集団です特注品装置の製作を 20 年以上続けており多種多様な装置製作でお客様の開発をお手伝いします フィルム用 CVD 装置 有機 EL 蒸着装置 Si 酸化膜 CVD 装置 溶液気化 CVD 装置 複合材料 RTA 装置 プラズマ発光モニター EMICON PET ボトル用 DLC コーティング装置
Vacuum Part 真空バルブ 金属ベローズ 導入機 取扱メーカー ( 代理店業務 ) 本社 : 東京都千代田区丸の内 3-1-1 国際ヒ ル 813 工場 : 埼玉県 ( テクニカルセンター ) 愛媛県 ( 内子工場 中山工場 ) 海外拠点 : 韓国韓国支店 / 中国常州入江精工有限公司 溶接ベローズ成形ベローズアングルバルブ 直進 回転 磁気結合式導入機コスラーズ Ⅱ ゲートバルブ超大型角型高真空ゲートバルブ FFT_Valve 2013 年超モノづくり部品大賞 奨励賞 受賞 OLED( 照明系 ) 有機薄膜太陽電池向け CVD スパッタなどに使われております FFT_Valve はフィルム状のフレキシブル基板の量産に対応したバルブです フィルム出入口のシール形状及びシール材の工夫で密閉性を高めながら シール材の粘着性を抑えて FFT_Valve 解放時におこるフィルムのバタつきを低減し スムーズにフィルムを送り込むことができるようになりました フィルムロール交換の際も プロセス室を高真空に保つことができ 巻取り部の調整やロール交換作業が簡単になり ロール交換後の装置立ち上げ時間の短縮に貢献できます
MeiVac マグネトロンスパッタソース & 基板ヒーター 米国 MeiVac 社 QUALITY VACUUM COMPONENTS MAK マグネトロンスパッタソース MAK マグネトロンスパッタソースは コンパクトで 取付けが容易 ターゲットはマグネットにより保持されていますので脱着が簡単です モデルは 1.3 2 3 4 6inch です MAK マグネトロンスパッタソースは 最小限の電力と RF 電力の少ない反射でカソードに DC 電力だけでなく RF 電力を供給するシールドされた電路を備えています MAK マグネトロンスパッタソースは ターゲットへの集束プラズマを減少させることなく高い圧力 (600mtorr) で作動するだけでなく低い圧力 (0. 5 mtorr) でも作動させることが出来る独特の特徴を持っています 冷却水ラインと高電圧経路が分離 マグネットと冷却水ラインが分離 ターゲットの交換が簡単 DC RF モードで作動 動作圧力 :0.5 ー 600 mtorr HV( 高真空 ) UHV( 超高真空 )
基板ヒーター MeiVac 社製高温基板ヒーターは 薄膜積層の間 基板に一定で均一な加熱を供給します 酸素雰囲気中で温度を 950 まで加熱することが出来ます 最大温度と高圧で酸素と他の反応ガスに耐えるように設計されています 長い寿命でメンテナンスがほとんど必要ありません ニッケルをベースとした材料は 高温に耐えることを可能します この非常に信頼できる基板ヒーターは 高温基板処理のための卓越した製品として認められています UHV に適合 O2 雰囲気に適合 優れた温度の均一性 最高 950 まで加熱 スパッタリング レーザーアプレーション イオンビーム蒸着 ECR MOCVD 等 < 仕様 > サイズ 2 3" 4" 6" 最高温度 950 950 950 950 温度均一性 ±1% ±1% ±2% ±2% 均一性領域 1.25" 2.25" 4" 6" 950 までの立上がり時間 ( 大気中 ) 12min 13min 22min 30min 最大電流 10A 9A 14A 14A 最大電圧 45V 85V 85V 135V 入力パワー AC/DC AC/DC AC/DC AC/DC ヒーター抵抗 5Ω 10Ω 6Ω 10Ω
Vacuum Part ミニ e- ヒ ームエハ ホ レータ サーマルカ スクラッカー ヒ エソ カ スト ーサ ー 取扱メーカー ( 代理店業務 ) 英国オックスフォードアプライドリサーチ社 表面科学 ナノサイエンス研究用機器製品 薄膜成膜の為の UHV/HV コンポーネントを得意としております ミニ e- ビームエバポレータミニ e- ビームエバポレータ EG シリーズは高純度膜の作製に適しており 蒸着レートは高度な制御が可能で 多くの材料に対して 0.1~50A /min の範囲でコントロール出来ます 数 nmの薄膜作製 半導体ドーピング 冷却効率でコンタミネーションフリーの設計 材料はロッドまたはルツボ充填の選択 標準搭載のフラックスモニタリングプレートにより精密な膜厚コントロールが可能 1 4ポケットのタイプ 4ポケットタイプは各ポケットの独立制御で同時蒸着も可能なタイプあり サーマルガスクラッカー TC シリーズサーマルガスクラッカーは電子ビーム加熱技術を利用し ガス分子を低パワーで効率良く解離させるユニットです " ソフト " 基板クリーニング 酸化物 窒化物 表面活性 ゼロダメージ水素クリーニング H O NH3 高い解離効率 超クリーンオペレーション 非常に低いパワー (<60W) バックアップフィラメント標準装備 低メンテナンス ピエゾエレクトリックガスドーザー PLV1000 UHV の装置に適合したオールメタル極微量リークバルブで内蔵された圧電素子を用いて制御されます 極微量ガス導入 MBE ガス導入 ガスパルシング システム圧力コントロール リモートコントロール オールメタル 極微量コントロール PC コントロール
Vacuum Part RF アトムソース 低コストイオンソース 低エネルギーイオンソース 取扱メーカー ( 代理店業務 ) 英国オックスフォードアプライドリサーチ社 表面科学 ナノサイエンス研究用機器製品 薄膜成膜の為の UHV/HV コンポーネントを得意としております RF アトムソース RF アトムソースは RF 放電を利用した中性ビームの発生源で極めて高い原子フラックスとイオン量ゼロの中性ビームを生み出します 窒化物 酸化物 N- ドーピング High-K 誘電体 水素原子クリーニング 高解離率 高品質膜 均一性 低コストイオンソース IG5 IG5 は低いガス流量レートで作動する冷陰極イオン源でイオンクリーニング スパッタリングアプリケーションに理想的です イオンクリーニング スパッタリングアプリケーション ビームエネルギー 1.0-5.0 kev 低いガス流量 フィラメントフリー 低エネルギーイオンソース LIon50 低エネルギーイオンソース LIon50 は電子衝撃を利用した低エネルギーガスイオンソースです 基板クリーニング 表面改質 エッチング ビームエネルギー 30 ev - 1 kev 狭いエネルギー幅 O2 のような活性ガスにも対応
Vacuum Part 取扱メーカー ( 代理店業務 ) 英国 VSW Atomtech 社 サドルフィールド型アトムソース 表面科学 ナノサイエンス研究用機器製品 薄膜成膜の為の UHV/HV コンポーネントを得意としております サドルフィールド型アトムソース VSW Atomtech 社製サドルフィールドファーストアトムビーム (FAB) ソースは電荷を持たない中性の直線ビームを成生します 不安定で低出力の従来の冷陰極の常識を変え ビームを中性化することでこれまで電荷粒子が問題になっていた誘電体や半導体への照射やエッチングプロセスにも適用が可能になりました FAB110 サドルフィールドファーストアトムソースは様々な材料のアトムビームエッチングとスパッタリングに効果的です FAB ソースの応用は Ar や Xe のような不活性ガスによる基板のクリーニング スパッタエッチングアトムビームスパッタ蒸着です CF4 SF6 C2F6 C3F8 CHF3 I2 のような活性ガスも半導体材料のミリングに利用されます 成膜前の基板クリーニング 常温接合前のサンプルのクリーニング 表面の活性化 半導体基板等のエッチング 微細加工 リアクティブアトムビームエッチング 電荷を持ったイオンによる衝撃と異なり 絶縁物や半導体試料にもチャージダメージなし ビームが電荷を持たないので電場や磁場中でも曲がらず直進します < 仕様 > 最大出力電流(mA) 2 ビームエネルギー(keV) 0.8-2.3 最大入力パワー(W) 100 最大プラズマ電流(mA) 40 ガス流量(sccm) 1セル 2セル 4 6 動作真空度(mbar) 1x10-3 冷却水(L/min 20 ) 2 寸法 (mm) 45x80x40
Vacuum Part 電流導入端子 超高真空実験装置 宇宙 / 衛星関連装置他 取扱メーカー ( 代理店業務 ) 株式会社アールバキュームラボ 本社 : 神奈川県相模原市中央区星が丘 1-11-3-302 下溝事業所 : 神奈川県相模原市南区磯部 1466 電流導入端子 BNC / MHV / SHV / SMA / 22 極端子 / CK2.4 極端子 カスタム製品 研究開発用装置 ( 超高真空 ) に関する事でしたらどんなことでもご相談下さい 水星探査衛星搭載チャンバシステム 小型科学衛星用チャンバシステム 宇宙 衛星 関連装置の開発を行なっております 水星探査計画 BepiColombo/PHEBUS 搭載予定 ( 極端紫外光分光チャンハ ーシステム ) 担当 国際宇宙ステーション/ きぼう日本実験棟搭載 ( フ ラス マ撮像カメラチャンハ システム ) ミッション 小型科学衛星 SPRINT-A EXCEED 搭載予定 ( 紫外線検出器チャンハ システム )
ウェハーのお取り扱いを開始しました 徹底した品質管理と優れた技術によりお客さまの用途に合わせてウエハをご用意致しますフルラインアップのサイズでご要望にお応えしております ウェハー WAFER サービス サイズ φ2 ~φ12 材質シリコン GaAS サファイア等伝導型 P 型 N 型ドープ材 Boron Phos Sb As その他 結晶方位 抵抗率 パーティクル 厚み 面状態等 お問い合わせください ( 尚 インゴットでの販売もしております ) また 膜付けも可能です 熱酸化膜ポリシリコン膜 ( ドープ ノンドープ ) タングステン Cu( メッキ ) レジストコーティング プラズマ SiN(Plasma Nitride) 等々 詳細お問い合わせください 三和真空株式会社 TEL:03-5735-5656 E-mail:info@sanwa-vacuum.co.jp http://www.sanwa-vacuum.co.jp WAFER SERVICE
三和真空株式会社 143-0013 東京都大田区大森南 4-6-15 テクノ FRONT 森ヶ崎 307 TEL : 03-5735-5656 FAX : 03-5735-5655 URL : http://www.sanwa-vacuum.co.jp MAIL : info@sanwa-vacuum.co.jp