用描画装置 透明導電用 ITO インク 株式会社 アルバック ULVAC, Inc. Ink-jet Equipment ITO シクロドデセン溶媒 インクジェットタイプ ITO NANOMETAL INK () Ink-jet Type 高精度インクジェット装置 ID-22D S-2 ITO によ
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- えみ たつざわ
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1 用描画装置 透明導電用 ITO インク 株式会社 アルバック ULVAC, Inc. Ink-jet Equipment ITO シクロドデセン溶媒 インクジェットタイプ ITO NANOMETAL INK () Ink-jet Type 高精度インクジェット装置 ID-22D S-2 ITO により23 焼成での ITO 成を実現しました ITO NANOMETAL INK enables to form ITO films at the curing temperature of 23. ITO 中の粒子の TEM 像 平均粒径nm TEM image of nanoparticles in ITO NANOMETAL INK Average particle size is nm Specification of ITO NANOMETAL INK(Standard Grade) 濃度 2wt% Concentration: 2wt% ❶減圧 真空 焼成 :23 min Pa Annealing in vacuum of Pa at 23 for min ❷大気焼成 23 3min Annealing in air at 23 for 3min 厚 Film thickness 2nm 真空 Pa Rs Ω Curing temperature in vacuum (Pa) Electric resistivity vs. curing temperature in vacuum of ITO NANOMETAL INK films Curing temperature as low as ITO の透過率 Transparency of ITO NANOMETAL INK films Transparency as high as 9% at the wavelength of nm 1.E-1 厚 2nm Film thickness 2nm Curing temperature in vacuum 1.E-1 3 S-2 描画領域 Print Area 1mm 7mm ヘッド数 Head 1個 最大 Max 個 1個 着弾精度 Drop Position Accuracy <±2µm <±µm DPN 機能 Drive per Nozzle ー 高精度タイプ Precision Type 液滴観察 Drop Analysis Module 高精度タイプ Precision Type 描画モード Print Mode BMP ファイル入力モード BMP File Input Mode LSLモード/BMPファイル入力モード LSL Mode/BMP File Input Mode () CAD BMP 変換機能 基板アライメントカメラ Substrate Alignment Camera ステージ加熱 Stage Heater 最大7 Standard Equipment Max7 外形寸法 / 重量 Overall Size/Weight W D9 H1mm/ Approx. 約2kg W23 D23 H2mm/ Approx. 約3kg 東日本営業部 TEL 西日本営業部 TEL FP DPV Global Business Unit TEL 株式会社 アルバック マテリアル事業部 ULVAC, Inc., Materials Division 東日本営業部 TEL 西日本営業部 TEL Overseas Sales Department TEL URL ID-22D お問い合わせは Wavelength nm 機種名 Model FPD PV 営業統括部 Transparency ( ) Resistivity (Ω cm) 9 1.E-2 仕様 Specification 焼成方法の一例 ２段階焼成 ITO のととの関係 23 焼成が可能 透明導電用 ITO インク mpa s Viscosity: mpa An example of the curing condition (2-step Annealing) 1.E-3 2 ITO 仕様 標準 当カタログの記載内容は性能向上等の目的により 予告なしに変更することがあります This catalog is subject to change without notice to reflect performance improvements, etc. NE27/2123ADP アルバック独自のガス中蒸発法により作製されたは ナノ粒子が溶剤中に凝 集することなく安定に分散した新しいタイプの導電性インクです インクジェット法により ダイレクトに微細配線パターンの形成が可能です NANOMETAL INKs are produced by the Gas Evaporation Method. These newly developed inks consist of metal nanoparticles dispersed stably and not aggregated in some organic solvent. The inks enable to form electro-conductive fine patterns directly by printing processes such as ink-jet printing.
2 用描画装置 透明導電用 ITO インク 株式会社 アルバック ULVAC, Inc. Ink-jet Equipment ITO シクロドデセン溶媒 インクジェットタイプ ITO NANOMETAL INK () Ink-jet Type 高精度インクジェット装置 ID-22D S-2 ITO により23 焼成での ITO 成を実現しました ITO NANOMETAL INK enables to form ITO films at the curing temperature of 23. ITO 中の粒子の TEM 像 平均粒径nm TEM image of nanoparticles in ITO NANOMETAL INK Average particle size is nm Specification of ITO NANOMETAL INK(Standard Grade) 濃度 2wt% Concentration: 2wt% ❶減圧 真空 焼成 :23 min Pa Annealing in vacuum of Pa at 23 for min ❷大気焼成 23 3min Annealing in air at 23 for 3min 厚 Film thickness 2nm 真空 Pa Rs Ω Curing temperature in vacuum (Pa) Electric resistivity vs. curing temperature in vacuum of ITO NANOMETAL INK films Curing temperature as low as ITO の透過率 Transparency of ITO NANOMETAL INK films Transparency as high as 9% at the wavelength of nm 1.E-1 厚 2nm Film thickness 2nm Curing temperature in vacuum 1.E-1 3 S-2 描画領域 Print Area 1mm 7mm ヘッド数 Head 1個 最大 Max 個 1個 着弾精度 Drop Position Accuracy <±2µm <±µm DPN 機能 Drive per Nozzle ー 高精度タイプ Precision Type 液滴観察 Drop Analysis Module 高精度タイプ Precision Type 描画モード Print Mode BMP ファイル入力モード BMP File Input Mode LSLモード/BMPファイル入力モード LSL Mode/BMP File Input Mode () CAD BMP 変換機能 基板アライメントカメラ Substrate Alignment Camera ステージ加熱 Stage Heater 最大7 Standard Equipment Max7 外形寸法 / 重量 Overall Size/Weight W D9 H1mm/ Approx. 約2kg W23 D23 H2mm/ Approx. 約3kg 東日本営業部 TEL 西日本営業部 TEL FP DPV Global Business Unit TEL 株式会社 アルバック マテリアル事業部 ULVAC, Inc., Materials Division 東日本営業部 TEL 西日本営業部 TEL Overseas Sales Department TEL URL ID-22D お問い合わせは Wavelength nm 機種名 Model FPD PV 営業統括部 Transparency ( ) Resistivity (Ω cm) 9 1.E-2 仕様 Specification 焼成方法の一例 ２段階焼成 ITO のととの関係 23 焼成が可能 透明導電用 ITO インク mpa s Viscosity: mpa An example of the curing condition (2-step Annealing) 1.E-3 2 ITO 仕様 標準 当カタログの記載内容は性能向上等の目的により 予告なしに変更することがあります This catalog is subject to change without notice to reflect performance improvements, etc. NE27/2123ADP アルバック独自のガス中蒸発法により作製されたは ナノ粒子が溶剤中に凝 集することなく安定に分散した新しいタイプの導電性インクです インクジェット法により ダイレクトに微細配線パターンの形成が可能です NANOMETAL INKs are produced by the Gas Evaporation Method. These newly developed inks consist of metal nanoparticles dispersed stably and not aggregated in some organic solvent. The inks enable to form electro-conductive fine patterns directly by printing processes such as ink-jet printing.
3 Ag により23 焼成での Ag 成を実現しました L-Ag中に分散するAgナノ粒子の TEM 像 平均粒径約3nm L-Ag NANOMETAL INK Average particle size is 3nm 焼成後のL-Agの断面 SEM像 1 焼成 Cross sectional SEM image of L-Ag NANOMETAL INK film cured at 1 2 Ag の温度依存性 Agバルク1.μΩ cm 2 3 固形分濃度 wt% Ag concentration: wt% mpa s Viscosity: mpa s 3 密度 1.7g/cm3 溶媒 テトラデカン Solvent: Tetradecane 厚 1μm 焼成時間 min.??????: min. 型名 2 Ag 濃度 1 溶媒 Type Ag content Solvent 内は沸点 Boiling point 2 温度 3 Temperature 固形分濃度 wt% Au concentration: wt% mpa s Viscosity: mpa s 焼成時間 min??????: min. Viscosity L-Ag1T L-Ag1TeH 3wt% -wt% トルエン Toluene 111 テトラデカン Tetradecane 23 mpa s -1mPa s 比重 1.7g/cm3 2 焼成 Curing temperature of 2 μω cm Resistivity: μω cm 厚.μ m Film thickness.µm Au のととの関係 Au NANOMETAL INK films L-Ag シリーズ仕様 Specifications of L-Ag series Viscosity vs. temperature of Ag NANOMETAL INK Viscosity (mpa s) Au film formed by Au NANOMETAL INK 厚 1μm Film thickness 1μm 焼成時間 min. Curing time: min. Au の概観 Film thickness:1μm 焼成時間 min Curing time: min. TEM image of Au nanoparticles dispersed in Au NANOMETAL INK 1 FIB-SIM image of Ag NANOMETAL INK film Cured at 23 Au中に分散するAuナノ粒子の TEM 像 L-Ag NANOMETAL INK films 12 Ag の FIB-SIM 像 23 焼成 Au NANOMETAL INK enables to form Au films at the curing temperature of 2. L-Ag のととの関係 Ag electronic circuit pattern directly on a PI substrate by printing with Ag NANOMETAL INK using ink-jet equipment (cured at 23 ) Ag NANOMETAL INK films Au により2 焼成での Au 成を実現しました Curing temperature as low as 1 C Au トルエン溶媒 Au シクロドデセン溶媒 インクジェットタイプ Au NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) Au NANOMETAL INK () Ink-jet Type 1 焼成タイプのを実現しました PI 基板上に形成した Ag 配線 23 焼成 Ag の L-Ag トルエン溶媒 L-Ag テトラデカン溶媒 インクジェットタイプ L-Ag NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) L-Ag NANOMETAL INK (Solvent: Tetradecane) Ink-jet Type Ag NANOMETAL INK enables to form Ag films at the curing temperature of 23. Ag トルエン溶媒 Ag テトラデカン溶媒 インクジェットタイプ Ag NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) Ag NANOMETAL INK (Solvent: Tetradecane) Ink-jet Type Ag NANOMETAL INK Ag中に分散するAgナノ粒子の TEM 像 Curing Temperature PET 基板上に形成した L-Ag 配線 Ag electronic circuit pattern directly on a PET substrate by printing with L-Ag NANOMETAL INK using ink-jet equipment 保管は冷暗所で行って下さい 記載されている仕様は予告無く変更することがあります Keep in a dark cold place. Specifications are subject to change. 2 厚.µm Film thickness.µm 焼成時間 min Curing time: min
4 Ag により23 焼成での Ag 成を実現しました L-Ag中に分散するAgナノ粒子の TEM 像 平均粒径約3nm L-Ag NANOMETAL INK Average particle size is 3nm 焼成後のL-Agの断面 SEM像 1 焼成 Cross sectional SEM image of L-Ag NANOMETAL INK film cured at 1 2 Ag の温度依存性 Agバルク1.μΩ cm 2 3 固形分濃度 wt% Ag concentration: wt% mpa s Viscosity: mpa s 3 密度 1.7g/cm3 溶媒 テトラデカン Solvent: Tetradecane 厚 1μm 焼成時間 min.??????: min. 型名 2 Ag 濃度 1 溶媒 Type Ag content Solvent 内は沸点 Boiling point 2 温度 3 Temperature 固形分濃度 wt% Au concentration: wt% mpa s Viscosity: mpa s 焼成時間 min??????: min. Viscosity L-Ag1T L-Ag1TeH 3wt% -wt% トルエン Toluene 111 テトラデカン Tetradecane 23 mpa s -1mPa s 比重 1.7g/cm3 2 焼成 Curing temperature of 2 μω cm Resistivity: μω cm 厚.μ m Film thickness.µm Au のととの関係 Au NANOMETAL INK films L-Ag シリーズ仕様 Specifications of L-Ag series Viscosity vs. temperature of Ag NANOMETAL INK Viscosity (mpa s) Au film formed by Au NANOMETAL INK 厚 1μm Film thickness 1μm 焼成時間 min. Curing time: min. Au の概観 Film thickness:1μm 焼成時間 min Curing time: min. TEM image of Au nanoparticles dispersed in Au NANOMETAL INK 1 FIB-SIM image of Ag NANOMETAL INK film Cured at 23 Au中に分散するAuナノ粒子の TEM 像 L-Ag NANOMETAL INK films 12 Ag の FIB-SIM 像 23 焼成 Au NANOMETAL INK enables to form Au films at the curing temperature of 2. L-Ag のととの関係 Ag electronic circuit pattern directly on a PI substrate by printing with Ag NANOMETAL INK using ink-jet equipment (cured at 23 ) Ag NANOMETAL INK films Au により2 焼成での Au 成を実現しました Curing temperature as low as 1 C Au トルエン溶媒 Au シクロドデセン溶媒 インクジェットタイプ Au NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) Au NANOMETAL INK () Ink-jet Type 1 焼成タイプのを実現しました PI 基板上に形成した Ag 配線 23 焼成 Ag の L-Ag トルエン溶媒 L-Ag テトラデカン溶媒 インクジェットタイプ L-Ag NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) L-Ag NANOMETAL INK (Solvent: Tetradecane) Ink-jet Type Ag NANOMETAL INK enables to form Ag films at the curing temperature of 23. Ag トルエン溶媒 Ag テトラデカン溶媒 インクジェットタイプ Ag NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) Ag NANOMETAL INK (Solvent: Tetradecane) Ink-jet Type Ag NANOMETAL INK Ag中に分散するAgナノ粒子の TEM 像 Curing Temperature PET 基板上に形成した L-Ag 配線 Ag electronic circuit pattern directly on a PET substrate by printing with L-Ag NANOMETAL INK using ink-jet equipment 保管は冷暗所で行って下さい 記載されている仕様は予告無く変更することがあります Keep in a dark cold place. Specifications are subject to change. 2 厚.µm Film thickness.µm 焼成時間 min Curing time: min
5 Ag により23 焼成での Ag 成を実現しました L-Ag中に分散するAgナノ粒子の TEM 像 平均粒径約3nm L-Ag NANOMETAL INK Average particle size is 3nm 焼成後のL-Agの断面 SEM像 1 焼成 Cross sectional SEM image of L-Ag NANOMETAL INK film cured at 1 2 Ag の温度依存性 Agバルク1.μΩ cm 2 3 固形分濃度 wt% Ag concentration: wt% mpa s Viscosity: mpa s 3 密度 1.7g/cm3 溶媒 テトラデカン Solvent: Tetradecane 厚 1μm 焼成時間 min.??????: min. 型名 2 Ag 濃度 1 溶媒 Type Ag content Solvent 内は沸点 Boiling point 2 温度 3 Temperature 固形分濃度 wt% Au concentration: wt% mpa s Viscosity: mpa s 焼成時間 min??????: min. Viscosity L-Ag1T L-Ag1TeH 3wt% -wt% トルエン Toluene 111 テトラデカン Tetradecane 23 mpa s -1mPa s 比重 1.7g/cm3 2 焼成 Curing temperature of 2 μω cm Resistivity: μω cm 厚.μ m Film thickness.µm Au のととの関係 Au NANOMETAL INK films L-Ag シリーズ仕様 Specifications of L-Ag series Viscosity vs. temperature of Ag NANOMETAL INK Viscosity (mpa s) Au film formed by Au NANOMETAL INK 厚 1μm Film thickness 1μm 焼成時間 min. Curing time: min. Au の概観 Film thickness:1μm 焼成時間 min Curing time: min. TEM image of Au nanoparticles dispersed in Au NANOMETAL INK 1 FIB-SIM image of Ag NANOMETAL INK film Cured at 23 Au中に分散するAuナノ粒子の TEM 像 L-Ag NANOMETAL INK films 12 Ag の FIB-SIM 像 23 焼成 Au NANOMETAL INK enables to form Au films at the curing temperature of 2. L-Ag のととの関係 Ag electronic circuit pattern directly on a PI substrate by printing with Ag NANOMETAL INK using ink-jet equipment (cured at 23 ) Ag NANOMETAL INK films Au により2 焼成での Au 成を実現しました Curing temperature as low as 1 C Au トルエン溶媒 Au シクロドデセン溶媒 インクジェットタイプ Au NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) Au NANOMETAL INK () Ink-jet Type 1 焼成タイプのを実現しました PI 基板上に形成した Ag 配線 23 焼成 Ag の L-Ag トルエン溶媒 L-Ag テトラデカン溶媒 インクジェットタイプ L-Ag NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) L-Ag NANOMETAL INK (Solvent: Tetradecane) Ink-jet Type Ag NANOMETAL INK enables to form Ag films at the curing temperature of 23. Ag トルエン溶媒 Ag テトラデカン溶媒 インクジェットタイプ Ag NANOMETAL INK (Solvent: Toluene) Ag NANOMETAL INK (Solvent: Tetradecane) Ink-jet Type Ag NANOMETAL INK Ag中に分散するAgナノ粒子の TEM 像 Curing Temperature PET 基板上に形成した L-Ag 配線 Ag electronic circuit pattern directly on a PET substrate by printing with L-Ag NANOMETAL INK using ink-jet equipment 保管は冷暗所で行って下さい 記載されている仕様は予告無く変更することがあります Keep in a dark cold place. Specifications are subject to change. 2 厚.µm Film thickness.µm 焼成時間 min Curing time: min
6 用描画装置 透明導電用 ITO インク 株式会社 アルバック ULVAC, Inc. Ink-jet Equipment ITO シクロドデセン溶媒 インクジェットタイプ ITO NANOMETAL INK () Ink-jet Type 高精度インクジェット装置 ID-22D S-2 ITO により23 焼成での ITO 成を実現しました ITO NANOMETAL INK enables to form ITO films at the curing temperature of 23. ITO 中の粒子の TEM 像 平均粒径nm TEM image of nanoparticles in ITO NANOMETAL INK Average particle size is nm Specification of ITO NANOMETAL INK(Standard Grade) 濃度 2wt% Concentration: 2wt% ❶減圧 真空 焼成 :23 min Pa Annealing in vacuum of Pa at 23 for min ❷大気焼成 23 3min Annealing in air at 23 for 3min 厚 Film thickness 2nm 真空 Pa Rs Ω Curing temperature in vacuum (Pa) Electric resistivity vs. curing temperature in vacuum of ITO NANOMETAL INK films Curing temperature as low as ITO の透過率 Transparency of ITO NANOMETAL INK films Transparency as high as 9% at the wavelength of nm 1.E-1 厚 2nm Film thickness 2nm Curing temperature in vacuum 1.E-1 3 S-2 描画領域 Print Area 1mm 7mm ヘッド数 Head 1個 最大 Max 個 1個 着弾精度 Drop Position Accuracy <±2µm <±µm DPN 機能 Drive per Nozzle ー 高精度タイプ Precision Type 液滴観察 Drop Analysis Module 高精度タイプ Precision Type 描画モード Print Mode BMP ファイル入力モード BMP File Input Mode LSLモード/BMPファイル入力モード LSL Mode/BMP File Input Mode () CAD BMP 変換機能 基板アライメントカメラ Substrate Alignment Camera ステージ加熱 Stage Heater 最大7 Standard Equipment Max7 外形寸法 / 重量 Overall Size/Weight W D9 H1mm/ Approx. 約2kg W23 D23 H2mm/ Approx. 約3kg 東日本営業部 TEL 西日本営業部 TEL FP DPV Global Business Unit TEL 株式会社 アルバック マテリアル事業部 ULVAC, Inc., Materials Division 東日本営業部 TEL 西日本営業部 TEL Overseas Sales Department TEL URL ID-22D お問い合わせは Wavelength nm 機種名 Model FPD PV 営業統括部 Transparency ( ) Resistivity (Ω cm) 9 1.E-2 仕様 Specification 焼成方法の一例 ２段階焼成 ITO のととの関係 23 焼成が可能 透明導電用 ITO インク mpa s Viscosity: mpa An example of the curing condition (2-step Annealing) 1.E-3 2 ITO 仕様 標準 当カタログの記載内容は性能向上等の目的により 予告なしに変更することがあります This catalog is subject to change without notice to reflect performance improvements, etc. NE27/2123ADP アルバック独自のガス中蒸発法により作製されたは ナノ粒子が溶剤中に凝 集することなく安定に分散した新しいタイプの導電性インクです インクジェット法により ダイレクトに微細配線パターンの形成が可能です NANOMETAL INKs are produced by the Gas Evaporation Method. These newly developed inks consist of metal nanoparticles dispersed stably and not aggregated in some organic solvent. The inks enable to form electro-conductive fine patterns directly by printing processes such as ink-jet printing.
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特長 パッケージ 製品の特長 サイドビュータイプ 無色透明樹脂 光電流 : 1.4mA TYP. (V CE =5V,Ee=1mW/cm 2 ) 鉛フリーはんだ耐熱対応 RoHS 対応 ピーク感度波長指向半値角素子材質はんだ付け方法 ESD 出荷形態 880nm 76 deg. Si 半田ディップ マニュアルはんだ実装工程に対応 はんだ付けについては はんだ付け条件をご参照ください 2kV (HBM
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Huawei G6-L22 QSG-V100R001_02
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土木工事共通仕様書（その２）
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