角度 130 超硬合金製を使用した 以下の実験では 先端 ３ スクライブ時の亀裂伸展挙動 角度以外は同じ形状である ３ １ ガラスにおける亀裂伸展 474 このホイールを用いて 速度 10 mm/s 荷重 24.6 N でスクラ 高速度カメラを用いて ガラスをスクライブした際の亀裂伸展 イブ実験を行
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- こうしょ だいほうじ
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1 473 論 文 スクライブによる硬脆材料の亀裂伸展挙動 留井直子* 村上健二* 橋本多市* 福西利夫* Crack propagation behavior of hard-brittle materials by wheel scribing Naoko TOMEI, Kenji MURAKAMI, Taichi HASHIMOTO a Toshio FUKUNISHI 板ガラスの切断に用いられてきた スクライブ+ブレイク 技術を電子部品用材料の切断に応用することで 高効率 な切断が実現でき すでに実用化されつつある しかし スクライブ現象については未だ解明されていないところが 多い 本研究では 電子部品材料として使用されるアルミナ 単結晶 Si 単結晶 SiC におけるスクライブ時の亀裂 伸展挙動について調査し ガラスとの比較を行った その結果 アルミナと単結晶 Si では ガラスと同様に 負荷時 に伸展する亀裂 1st Crack と除荷後に伸展する亀裂 2 Crack の痕跡が確認されたが 単結晶 SiC では 1st Crack の痕跡のみであった Key words : scribing a breaking, wheel scribing, crack propagation, hard-brittle materials １ 緒 言 が薄く チップサイズが極めて小さい電子部品用材料の切断 スクライビングホイールと呼ばれる回転工具を用いた スク に対しても有効であると考えられる そこで ガラスよりも硬い ライブ+ブレイク 技術は 液晶用パネルをはじめとした板ガラ 電子部品用基板を切断するために セラミックス専用のスクラ スの切断に広く使用されており すでに生産ラインにおいて イビングホイール Tougheel タフィール を開発し アルミナ 技術が確立している 1) 4) 図 1 に スクライブ ブレイク 技術 をはじめとした基板材料の切断について報告してきた 6) の概略図を示す スクライブ工程 図 1 (a) では スクライビン しかしながら 基板に適したスクライブ条件を選ぶことは非 グホイールにより ガラス表面にスクライブラインと呼ばれる塑 常に重要であるにもかかわらず スクライブ時の亀裂伸展挙 性変形を形成する その際 塑性変形域の下には引張応力 動についての研究はわずかである 本報では 電子部品とし が発生し この応力によって板厚方向に垂直なクラックが生じ て使用されている材料のなかから ガラスと違い 粒界が存在 5) る 次のブレイク工程 図 1 (b) では 曲げ応力を加えるこ する材料の代表としてアルミナ また異方性を有する材料の とにより スクライブ工程で形成された垂直クラックを伸展させ 代表として単結晶 Si を選択し ガラススクライブ時の亀裂伸展 てガラスを分離する 挙動と比較を行った また 異方性だけでなく オフ角を有す る単結晶 SiC についても 切断面の観察によりスクライブ時の スクライビングホイール 挙動を考察したので その結果について報告する スクライブライン ２ 実験方法 Median 垂直クラック crack 曲げ応力 Glass shee t (a) スクライブ工程 (a) スクライブ 曲げ応力 ２ １ ガラスにおける亀裂伸展挙動 ガラススクライブ時の亀裂伸展挙動を明らかにするため 高 (b) ブレイク工程 (b) ブレイク 図 1 スクライブ ブレイク 技術の概略図 速度カメラを用いてスクライブの様子を観察した スクライブ実 験に使用したスクライビングホイールの概略図を図 2 に示す ホイールは 外径 2.0 mm 厚さ 0.65 mm 穴径 0.8 mm 先端 この切断技術の利点は ダイシング加工で発生するカーフ ロスが発生しないこと 乾式で高速切断が可能であることであ このような利点を有する スクライブ+ブレイク 技術は 基板 * 三星ダイヤモンド工業株式会社 大阪府摂津市香露 園 MITSUBOSHI DIAMOND INDUSTRIAL CO. LTD. 学会受付日 2018 年 3 月 26 日 採録決定日 2018 年 6 月 28 日 22 2 mm 利点の 1 つである 0.8 mm る また レーザ加工のような熱影響が基板に残らないことも t0.65 mm 図 2 スクライビングホイールの概略図
2 角度 130 超硬合金製を使用した 以下の実験では 先端 ３ スクライブ時の亀裂伸展挙動 角度以外は同じ形状である ３ １ ガラスにおける亀裂伸展 474 このホイールを用いて 速度 10 mm/s 荷重 24.6 N でスクラ 高速度カメラを用いて ガラスをスクライブした際の亀裂伸展 イブ実験を行った 板厚 0.7 mm の無アルカリガラス Eagle を撮影した 各時間での画像を図 4 に示す 図中 亀裂先端 XG Corning を使用し 高速度カメラにより定点観察を行っ を破線で示した 黒い円状に見える部分がホイールである た 観察方法を図 3 に示す 高速度カメラの設定は 500fps 図中 左から右方向へスクライブした frames per seco とした まず スクライビングホイール負荷時に亀裂が伸展した 図 4(a) この時の亀裂を 1st Crack とする 1st Crack は板厚方 向の伸展が一旦停止し 0.08 s 後も停止したままであった 図 光源 ホイール 4(b) その後 再び亀裂伸展が開始し 図 4(c) 1.0 s 後に テーブル ガラス は板厚の 50%以上の深い亀裂伸展が確認された 図 4(d) この時 スクライビングホイール通過後に伸展した亀裂を X Y Z 2 Crack とする このときのガラスの切断面を図 5(a)に示す 1st Crack と 2 Crack の位置を矢印で示す ラ ホイール ホイール ガラス テーブル Z 0s 光源 X 図 3 ガラスの亀裂伸展観察方法の概略図 ２ ２ アルミナにおける亀裂伸展挙動 ガラス板厚 ラ 亀裂先端 1st Crack アルミナ基板での亀裂伸展挙動を観察するため 板厚 (a) 0 s mm の 96%アルミナ基板 A476T 京セラ でスクライブ 実験を行った スクライビングホイールは 先端角度 140 の 0.08 s セラミックス専用ホイールを使用し 速度 100 mm/s 荷重 22.5 N でスクライブした後 ハンドブレイク 手で分離 を行った そ の 後 光 学 顕 微 鏡 KH7700 Hirox と レ ー ザ 顕 微 鏡 VK9700 KEYENCE を用いて 切断面を観察した 以降の 切断面の観察は同様である 1st Crack 500 μm ２ ３ 単結晶 Si における亀裂伸展挙動 単結晶材料での亀裂伸展挙動を観察するため 板厚 0.42 (b) 0.08 s mm の単結晶 Si について 面でスクラ 0.2 s イブ実験を行った スクライビングホイールは 先端角度 145 の超硬合金製を使用した 速度 100 mm/s 100 と 111 面 は荷重 2.7 N 110 面は荷重 2.2 N とし 110 面と平行にス クライブした後 メカブレイクを行った ２ ４ 単結晶 SiC における亀裂伸展挙動 さらに 単結晶材料での亀裂伸展挙動を観察するため 板 2 Crack 厚 0.36 mm オフ角 4 の単結晶 4H-SiC 新日鉄住金マテリ (c) 0.2 s アルズ について 0001 面の Si 面でスクライブ実験を行っ た スクライビングホイールは 先端角度 150 のセラミックス 1.0 s 専用ホイールを使用した 速度 100 mm/s 1100 面に平行 にスクライブする際は荷重 7.2 N 垂直にスクライブする際は 荷重 5.5 N とし スクライブ後 メカブレイクを行った スクライビングホイールの先端角度とスクライブ荷重につい ては 板厚方向に垂直なクラックが可能な限り深く伸展し か つ水平方向のクラックが伸展しない条件を選択した また ア ルミナ 単結晶 SiC は硬く超硬合金製ホイールではすぐに摩 2 Crack (d) 1.0 s 耗してしまうため 工具摩耗が抑制できるセラミックス専用ホイ ールを使用した 図 4 ガラススクライブ時の亀裂伸展挙動 24.6 N 23
3 475 により伸展する この違いが伸展速度に関係していると考えら れるが メカニズムの解明には至っておらず今後の課題とした い Crack ３ ２ アルミナにおける亀裂伸展 次にアルミナにおける亀裂伸展挙動を考察するために ガ 板厚 : 0.635mm 板厚 : 0.7mm 1st 2 Crack ラスとアルミナの切断面の比較を行った 各切断面を図 5 に 示す ガラスと同様に アルミナにおいても 1st Crack と 2 Crack と考えられる 2 本の亀裂の停止線 図中 赤矢印 が確 認された そこで 1st Crack と 2 Crack 部分の切断面比較を 100 m 100 m スクライブ荷重: 24.6 N スクライブ荷重: 32 N (b) アルミナ (a) ガラス 図 5 ガラスとアルミナの切断面 検討した 通常 表面や切断面の状態を比較する場合 線粗さや面 粗さを用いることが多い しかしアルミナの切断面では うねり や気孔の影響から 線粗さや面粗さでは違いを明確にするこ とが困難であった しかしながら 図 5(b)の光学顕微鏡の結 高速度カメラの動画から求めた亀裂深さと時間の関係 図 果から 光学的に違いがあることは確かであったため 光量ヒ 6(a) 板厚方向の亀裂伸展速度と時間の関係 図 6(b) をそ ストグラムによる比較を行った まず 予備実験として 研磨加 れぞれ示す 図 6(a)の結果から 亀裂の深さは時間とともに 飽和していることがわかる また 図 6(b)の結果から 1st Crack 2-1 の伸展速度は 10 mm s であるのに対し 2 Crack の伸展速 工前後の焼結 cbn 粒径 10 um を用いて光量ヒストグラムを 比較した結果を図 7 に示す 図 7(a)に研磨前の cbn の光量 測定領域 (b)に 2000 で研磨したものを示す 光量ヒストグ 度は 1~10-2 mm s-1 であった しかしながら 1st Crack は ラムの結果 図 7(c) から 研磨前はブロードであったヒストグ 1frame で伸展しているため 伸展速度はそれ以上であると考 ラムが 研磨後はシャープになっていることが確認された こ えられる つまり ホイール負荷時に伸展する 1st Crack の亀 裂伸展速度に比べて ホイール通過後に伸展する 2 Crack の亀裂伸展速度は 2 桁以上遅いことがわかった st 1 Crack はホイール負荷時の引張応力が駆動力となって 伸展する 5)のに対し 2 Crack はホイール通過後の残留応力 れは 研磨により 粒子の面がそろったために同じ光量の pixel 数が増え 光量ヒストグラムがシャープになったものと考 えられる 同じ方法で アルミナ切断面における 1st Crack 部と 2 Crack 部の測定を行った 結果を図 8 に示す 図 8(a)にアルミ ナの切断面 (a)の画像中 破線の四角で囲んだ 1st Crack と 2 Crack 部分の拡大画像を(b)に示す 1st Crack と 2 Crack での切断面の違いを明らかにするため それぞれの領域に おける光量ヒストグラムを比較した (a) 亀裂深さと時間 (a) 研磨前の測定領域 (b) 研磨後の測定領域 研磨前 研磨後 ピクセル数 光量 24 (b) 亀裂伸展速度と時間 (c) 光量ヒストグラム 図 6 亀裂伸展と時間との関係 図 7 焼結 cbn 研磨前後の光量ヒストグラム
4 m 1st Crack 2 Crack Thickness (c) 1st Crack の測定領域 (d) 2 Crack の測定領域 (a) アルミナの切断 1st Crack 2 Crack (e) 光量ヒストグラム (b) 切断面の拡大図 図 8 アルミナの切断面と光量ヒストグラム ホイール角度 140 スクライブ荷重 22.5 N 1st Crack の光量測定領域を(c) 2 Crack の領域を(d)に トグラムを比較した 結果を図 9 に示す 140 と同様に 2 それぞれ灰色の四角で示す 光量ヒストグラムの結果(e)から Crack の領域に比べて 1st Crack の領域は光量ヒストグラムが 1 st Crack ではシャープなピークが見られるのに対し 2 st Crack では ブロードであった つまり 1 Crack の面では粒 子の面がそろっているため 光の反射と散乱が起きているの に対し 2 Crack の面では粒子の面がそろっていないため シャープであった このことから 亀裂伸展に関しては工具の 角度が違っても同じ現象が起きていると考えられる これらの結果から アルミナスクライブ時の亀裂伸展挙動に ついて考察したモデルを図 10 に示す 均質で粒界のないガ ラス 図 10(a) とは異なり アルミナは粒子で構成されているた 散乱が多いと考えられる さらに 工具の形状による違いを確認するため 120 の工 め亀裂伸展の経路が異なると考えられる アルミナでは スク 具を用いてスクライブを行い 1st Crack と 2 Crack の光量ヒス ライビングホイールが基板に押込まれ 塑性変形域が形成さ せる その下から 1st Crack が伸展するが 亀裂伸展速度が速 いため 亀裂は粒内を進む そのため 切断後の 1st Crack 部 1st Crack 2 Crack 分は粒子の面がそろった状態であったと考えられる 一方 2 Crack では亀裂伸展速度が遅いため 破壊に必 要なエネルギーが低いと考えられる粒界を亀裂が伸展する その結果 切断後の 2 Crack 部分は粒子の面がそろってい (a) 1st Crack の測定領域 (b) 2 Crack の測定領域 ない状態になったものと考えられる 塑性変形域 1st Crack 2 Crack (c) 光量ヒストグラム 図 9 アルミナの光量ヒストグラム ホイール角度 120 スクライブ荷重 14.3 N (a) ガラス (b) アルミナ 図 10 ガラスとアルミナの亀裂伸展挙動のモデル図 25
5 477 (110) (110) (110) (a) 100 面 100 m 100 m (b) 110 面 図 11 単結晶 Si の各結晶面における切断面 (c) 111 面 100 m 3.3 単結晶 Si の亀裂伸展異方性を有する単結晶材料をスクライブした際の亀裂伸展挙動を確認するため, 単結晶 Si の (100),(110),(111) 面, それぞれの面を (110) 面に平行にスクライブし切断した. 切断面の画像を図 11 に示す. 単結晶ウエハに対する結晶面の状態を, 各面の上部に記載している. 上部左がウエハ表面から見た図, 上部右がウエハを右側面から見た板厚方向の図である. 図中, それぞれの結晶面が存在する方向を矢印で示している. 切断面の写真から, どの面においても, 基板表面に対し垂直な面で切断されていることが確認された.(100) 面 ( 図 11(a)) と (111) 面 ( 図 11(c)) では, ガラスやアルミナと比較的類似した切断面になっており,1 st Crack と予想される痕跡がみられた. 一方,(110) 面 ( 図 11(b)) は, 切断面全体に板厚の垂直方向に筋がみられ,1 st Crack のような停止線らしきものは確認できなかった. ここで Si 単結晶の各面における表面自由エネルギーは, {111} : mj/cm 2,{110} : mj/cm 2,{100} : mj/cm 2 である 7).(110) 面より表面自由エネルギーの低い (111) 面が切断面に対し斜めに存在する (100) 面 ( 図 11(a)) は, 亀裂が垂直に伸展しにくいと予想される. (a) Line 1 (b) Line 2 計測ライン計測ライン 一方,(110) 面 ( 図 11(b)) では斜めの位置に存在する面が, 表面自由エネルギーがより高い (100) 面である. また,(111) 面 ( 図 11(c)) では斜めの位置に低エネルギーの面が存在しないため垂直に亀裂伸展しやすいと考えられる. そこで, 垂直に亀裂伸展しにくいと予想される (100) 面の切断面について, さらに詳細な調査を行った. 切断面のプロファイルを図 12 に示す. 切断面にはガラスやアルミナで見られた 1 st Crack と考えられる層が確認された. プロファイルの結果から, その層は表面に対しほぼ垂直であった. さらにその下には, 約 34 の面が存在しており, この面は (111) 面であると考えられる. つまり, ガラスやセラミックスと同様に, 亀裂伸展速度の速い 1 st Crack は, エネルギー的に優位ではない (110) 面で伸展することが可能であるが,2 Crack は伸展速度が遅いためエネルギー的に優位な (111) 面で伸展すると考察される. このことから, 単結晶基板のスクライブでは, 必ずしも亀裂を伸展させることが望ましいわけではなく,1 st Crack のみを形成した方が, より平滑で垂直な切断面が得られやすいと考えられる. そのためには, スクライブ荷重の細かな制御が重要であると予想される. 3.4 単結晶 SiC の亀裂伸展立方晶である単結晶 Si との違いを確認するため, 単結晶 4H-SiC の (0001) 面を (1100) 面に平行, 垂直それぞれスクライブし切断した. 単結晶 4H-SiC はオフ角を有するため, 結晶面とスクライブの位置関係を図 13 に示す.(0001) 面が第 2 オリフラと逆の方向に 4 傾いた状態で,(1100) 面に平行にスクライブしたラインを Line A,(1100) 面に垂直, すなわち (1120) 面に平行にスクライブしたラインを Line B とした. オフ角 : (a) Line 1 (b) Line 2 Line A {1100} {1120} 第 1 オリフラ (0001) Si 面 Line B 第 2 オリフラ 第 1 オリフラ 第 2 オリフラ 図 12 単結晶 Si(100) 面における切断面 (110) 面の形状プロファイル 図 13 単結晶 4H-Si の結晶面とスクライブラインの 位置関係 26
6 478 Line A と Line B の切断面を図 14 に示す. ここで, 図 14(a) の Line A((1100) 面 ) の両端は,Line B((1120) 面 ) に相当し, 図 14(b) の Line B の両端は Line A に相当する. 第 1 オリフラに平行な Line A((1100) 面 ) で切断した面は, 基板表面に対し垂直に切断されていることが確認された. 一方, 第 2 オリフラに平行な Line B((1120) 面 ) で切断した面は, オフ角の影響を受けて, 第 2 オリフラと逆方向に 4 傾いていた. オフ角の影響を受けた Line B について, さらに詳細に調べた. 切断面の基板表面付近について形状プロファイルを図 15 に示す. 基板表面から約 10 m の位置に亀裂の停止線と思われる線が確認された.3. 3 項までのガラス, アルミナ, 単結晶 Si(100) 面とは異なり, 停止線が 1 つであることから, 単結晶 4H-SiC(0001) 面では,1 st Crack だけが伸展し,2 Crack は伸展していないと考えられる. また,1 st Crack と考えられる領域が 2.0~3.8 傾いていることから,(1120) 面に沿って伸展していると考えられ, この点においても Si の結果とは異なる.1 st Crack が傾く原因として, 以下の 2 つが考えられる.1 つは, 表面が (0001) 面ではなく 4 ずれているために, 刃先押込み時の押込み量や塑性変形が左右非対称になっている可能性である. もう 1 つは,Si と比べ亀裂伸展に優位な面の角度が小さいことである. しかしながら, オフ角を有する基板の亀裂伸展に関してはオフ角の大きさの影響をはじめ不明点が多く, これらの解明を今後の課題としたい. Scribing load : 7.2 N 4 4 板厚板厚 200 m Line Bの切断面 Line Bの切断面 (a) Line A (1100) 面 Scribing load: 5.5 N 200 m Line Aの切断面 Line Aの切断面 (b) Line B (1120) 面図 14 単結晶 4H-Si の切断面 4. 結言本研究では種々の材料についてスクライブした際の亀裂伸展挙動を観察し考察した. ガラススクライブの結果, ホイール (a) 第 2 オリフラ側 10 m 計測ライン 10 m (b) 第 2 オリフラ反対側 (a) 第 2 オリフラ側 (b) 第 2 オリフラ反対側 図 15 単結晶 4H-SiC(0001) 面における (1120) 面の形状プロファイル 計測ライン 負荷時に伸展する 1 st Crack の亀裂伸展速度に比べて, ホイール除荷後に伸展する 2 Crack の亀裂伸展速度は 2 桁以上遅いことがわかった. 焼結体であるアルミナでは, 上記の伸展速度の違いにより, 1 st Crack では粒内を亀裂伸展し,2 Crack は粒界を亀裂伸展していると考えられる. 単結晶 Si も同様の傾向が見られ, その伸展速度の違いから,2 Crack はエネルギーの低い結晶面で伸展すると考えられる. 一方, オフ角を有する単結晶 SiC では, オフ角に平行な (1100) 面では垂直に亀裂伸展するが, オフ角に直交する (1120) 面では,1 st Crack がオフ角の影響を受け約 4 傾いて伸展することが確認された. 5. 参考文献 1) Y. MIYAKE : Separation technology for FPD glass, J. Jpn. Soc. Abras. Technol., 45, 7 (2001) 342 (in Japanese). 2) N. TOMEI : Cutting Technology of Glass Sheet by Scribing a Breaking, NEW GLASS, 30, 112 (2014) 37 (in Japanese). 3) Chwan-Huei Tsai a Bo-Wen Huang : Diamo scribing a laser breaking for LCD glass substrates, J. Mater. Processing Technol., 198 (2008) ) N. TOMEI, K MAEKAWA, H. WAKAYAMA a H. TOMIMORI : A study on scribing with a breakless wheel 1 st Report ; Observation of crack propagation using a high-speed camera, J. Jpn. Soc. Abras. Technol., 53, 11 (2009) 684 (in Japanese). 5) N. TOMEI, K. MURAKAMI, T. FUKUNISHI, S. YOSHIDA a J. MATSUOKA : Direct observation of crack propagation in a liquid crystal display glass substrate during wheel scribing, J. Appl. Glass Sci., 00 (2017) 1. 6) N. TOMEI, K. MURAKAMI, T. HASHIMOTO, M. KITAICHI, S. HIRANO a T. FUKUNISHSI : Development of a Scribing Wheel for Cutting Ceramic Substrates a its Wheel Scribing a Breaking Technology, J. Jpn. Soc. Abras. Technol., 59, 12 (2015) 705 (in Japanese). 7) D. T. J. Hurle : A mechanism for twin formation during Czochralski a encapsulated vertical bridgman growh of III-V compa semicouctors, J. Cry. Growth., 147(1995)
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Non-linea factue mechanics き裂先端付近の塑性変形 塑性域 R 破壊進行領域応カ特異場 Ω R R Hutchinson, Rice and Rosengen 全ひずみ塑性理論に基づいた解析 現段階のひずみは 除荷がないとすると現段階の応力で一義的に決まる 単純引張り時の応カーひずみ関係 ( 構成方程式 ): ( ) ( ) n () y y y ここで α,n 定数, /
θ T [N] φ T os φ mg T sin φ mg tn φ T sin φ mg tn φ θ 0 sin θ tn θ θ sin φ tn φ φ θ φ mg θ f J mg f π J mg π J J 4π f mg 4π f () () /8
![θ T [N] φ T os φ mg T sin φ mg tn φ T sin φ mg tn φ θ 0 sin θ tn θ θ sin φ tn φ φ θ φ mg θ f J mg f π J mg π J J 4π f mg 4π f () () /8](/thumbs/90/101831562.jpg "θ T [N] φ T os φ mg T sin φ mg tn φ T sin φ mg tn φ θ 0 sin θ tn θ θ sin φ tn φ φ θ φ mg θ f J mg f π J mg π J J 4π f mg 4π f () () /8")
[N/m] m[g] mẍ x (N) x. f[hz] f π ω π m ω πf[rd/s] m ω 4π f [Nm/rd] J[gm ] J θ θ (gm ) θ. f[hz] f π ω π J J ω 4π f /8 θ T [N] φ T os φ mg T sin φ mg tn φ T sin φ mg tn φ θ 0 sin θ tn θ θ sin φ tn φ φ θ
ホームシアター固定フレームカーブドスクリーン リュネット (Lunette) シリーズ ユーザーガイド重要 : 安全に使用するための注意事項 ご使用前に このユーザーガイドをご一読ください 正しく使用することで長くお使いいただけます 1. スクリーンは 照明スイッチ コンセント 家具 窓などの障害物
ホームシアター固定フレームカーブドスクリーン リュネット (Lunette) シリーズ ユーザーガイド重要 : 安全に使用するための注意事項 ご使用前に このユーザーガイドをご一読ください 正しく使用することで長くお使いいただけます 1. スクリーンは 照明スイッチ コンセント 家具 窓などの障害物がない空間を選んで取り付けてください 2. スクリーンを壁に取り付ける場合 重量のある大きな絵画を取り付けるのと同様に
室 日 A B C D E F G H I J K L M N O P Q セッションプログラム 第 1 日第 2 日第 3 日 午前午後午前午後午前午後 デジタルエンジニアリング A05 A08 ナノ表面研削 / ELID 研削 C05 C08 サイバーフィールド構築技術 (1) F02 F04 サイバーフィールド構築技術 (2) F06 F09 高能率 高精度化のための切削工具 (1) G01
Microsoft Word - 第1回講義資料.docx
1. 転位と塑性変形 1.1 転位身の周りに存在する金属 (metals) 及び合金 (alloys) は結晶である. 結晶の塑性変形 (Plastic deformation) を微視的観点から理解すると, ある特定の結晶学的な面に沿って特定の方向に原子が移動することである この面をすべり面 (slip plane), 方向をすべり方向 (slip direction) という. 通常, 金属の結晶内部には原子の並びが線上に乱れた領域が存在し,
Siマイクロマシニングと集積化技術.PDF
ケミカル エンジニアリング(化学工業社) 25 年 9 月号 pp.731-735. シリコンマイクロマシニングと集積化技術 佐々木実*1 金森義明*2 羽根一博*3 Minoru Sasaki, Yoshiaki Kanamori, Kazuhiro Hane 東北大学大学院工学研究科 *1 助教授 工学博士 *2 助手 工学博士 *3 教授 工学博士 １ はじめに LSI に代表される半導体産業の黎明期にフォト
結晶粒と強度の関係
SPring-8 金属材料評価研究会 218 年 1 月 22 日 @AP 品川 転載不可 アルミニウムにおける 置換型固溶元素が引張変形中の 転位密度変化に及ぼす影響 兵庫県立大学材料 放射光工学専攻〇足立大樹 背景 放射光を用いた In-situ XRD 測定により 変形中の転位密度変化を高時間分解能で測定可能となっており 結晶粒径による転位増殖挙動の変化について明らかにしてきた * * H.
EOS: 材料データシート(アルミニウム)
EOS EOS は EOSINT M システムで処理できるように最適化された粉末状のアルミニウム合金である 本書は 下記のシステム仕様により EOS 粉末 (EOS art.-no. 9011-0024) で造形した部品の情報とデータを提供する - EOSINT M 270 Installation Mode Xtended PSW 3.4 とデフォルトジョブ AlSi10Mg_030_default.job
王子計測機器株式会社 LCD における PET フィルムの虹ムラに関する実験結果 はじめに最近 PETフィルムはLCD 関連の部材として バックライトユニットの構成部材 保護シート タッチセンサーの基材等に数多く使用されています 特に 液晶セルの外側にPET フィルムが設けられる状態
2015.02 王子計測機器株式会社 LCD における PET フィルムの虹ムラに関する実験結果 はじめに最近 PETフィルムはLCD 関連の部材として バックライトユニットの構成部材 保護シート タッチセンサーの基材等に数多く使用されています 特に 液晶セルの外側にPET フィルムが設けられる状態のとき 表示画面を偏光メガネを通して見たときに干渉色いわゆる虹ムラが発生する場合があることはよく知られています
報道関係者各位 平成 24 年 4 月 13 日 筑波大学 ナノ材料で Cs( セシウム ) イオンを結晶中に捕獲 研究成果のポイント : 放射性セシウム除染の切り札になりうる成果セシウムイオンを効率的にナノ空間 ナノの檻にぴったり収容して捕獲 除去 国立大学法人筑波大学 学長山田信博 ( 以下 筑
報道関係者各位 平成 24 年 4 月 13 日 筑波大学 ナノ材料で Cs( セシウム ) イオンを結晶中に捕獲 研究成果のポイント : 放射性セシウム除染の切り札になりうる成果セシウムイオンを効率的にナノ空間 ナノの檻にぴったり収容して捕獲 除去 国立大学法人筑波大学 学長山田信博 ( 以下 筑波大学 という ) 数理物質系 系長三明康郎 守友浩教授は プルシャンブルー類似体を用いて 水溶液中に溶けている
新技術説明会 様式例
フレキシブル太陽電池向け微結晶シリコン薄膜の低温成長 山口大学工学部電気電子工学科技術専門職員河本直哉 背景 軽量で安価なプラスチックなどポリマー基板上の微結晶 Si 建材一体型太陽電池の実現 フレキシブル ディスプレイ プラスチック上に微結晶 Si を実現することで製品の軽量化 低価格化が実現される 現在の目標 : 軟化点 250 程度のプラスチック基板での高品質微結晶 Si 形成プロセスの開発
テレコンバージョンレンズの原理 ( リアコンバーター ) レンズの焦点距離を伸ばす方法として テレコンバージョンレンズ ( テレコンバーター ; 略して テレコン ) を入れる方法があります これには二つのタイプがあって 一つはレンズとカメラ本体の間に入れるタイプ ( リアコンバーター ) もう一つ
テレコンバージョンレンズの原理 ( リアコンバーター ) レンズの焦点距離を伸ばす方法として テレコンバージョンレンズ ( テレコンバーター ; 略して テレコン ) を入れる方法があります これには二つのタイプがあって 一つはレンズとカメラ本体の間に入れるタイプ ( リアコンバーター ) もう一つはレンズの前に取り付けるタイプ ( フロントコンバーター ) です 以前 フロントコンバーターについて書いたことがありました
研究成果報告書
① ア ニ ー ル 温 度 の 違 い に よ る ナ ノ 構 造 制御 論文④ ⑤関連 シード層として Ti を用い Ag/Ti 薄膜を MgO(001)基板上に室温蒸着させた後にアニ ール処理を施す その際 アニール条件 温 度 時間 を変えた場合の基板上に形成され る Ag ナノ構造の変化について調べた Fig.1 の薄膜表面の原子間力顕微鏡 AFM 像に見られるように (a)ti シード層
問題 2-1 ボルト締結体の設計 (1-1) 摩擦係数の推定図 1-1 に示すボルト締結体にて, 六角穴付きボルト (M12) の締付けトルクとボルト軸力を測定した ボルトを含め材質はすべて SUS304 かそれをベースとしたオーステナイト系ステンレス鋼である 測定時, ナットと下締結体は固着させた
問題 2-1 ボルト締結体の設計 (1-1) 摩擦係数の推定図 1-1 に示すボルト締結体にて, 六角穴付きボルト (M12) の締付けトルクとボルト軸力を測定した ボルトを含め材質はすべて SUS304 かそれをベースとしたオーステナイト系ステンレス鋼である 測定時, ナットと下締結体は固着させた 測定データを図 1-2 に示す データから, オーステナイト系ステンレス鋼どうしの摩擦係数を推定せよ
FT-IRにおけるATR測定法
ATR 法は試料の表面分析法で最も一般的な手法で 高分子 ゴム 半導体 バイオ関連等で広く利用されています ATR(Attenuated Total Reflectance) は全反射測定法とも呼ばれており 直訳すると減衰した全反射で IRE(Internal Reflection Element 内部反射エレメント ) を通過する赤外光は IRE と試料界面で試料側に滲み出した赤外光 ( エバネッセント波
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不静定力学 Ⅱ 骨組の崩壊荷重の計算 不静定力学 Ⅱ では, 最後の問題となりますが, 骨組の崩壊荷重の計算法について学びます 1 参考書 松本慎也著 よくわかる構造力学の基本, 秀和システム このスライドの説明には, 主にこの参考書の説明を引用しています 2 崩壊荷重 構造物に作用する荷重が徐々に増大すると, 構造物内に発生する応力は増加し, やがて, 構造物は荷重に耐えられなくなる そのときの荷重を崩壊荷重あるいは終局荷重という
構造力学Ⅰ第１２回
第 回材の座屈 (0 章 ) p.5~ ( 復習 ) モールの定理 ( 手順 ) 座屈とは 荷重により梁に生じた曲げモーメントをで除して仮想荷重と考える 座屈荷重 偏心荷重 ( 曲げと軸力 ) 断面の核 この仮想荷重に対するある点でのせん断力 たわみ角に相当する曲げモーメント たわみに相当する ( 例 ) 単純梁の支点のたわみ角 : は 図 を仮想荷重と考えたときの 点の支点反力 B は 図 を仮想荷重と考えたときのB
1.1 テーラードブランクによる性能と歩留りの改善 最適な位置に最適な部材を配置 図 に示すブランク形状の設計において 製品の各 4 面への要求仕様が異なる場合でも 最大公約数的な考えで 1 つの材料からの加工を想定するのが一般的です その結果 ブランク形状の各 4 面の中には板厚や材質
第部 1 レーザ加工を活用した工法転換ノウハウ 第 1 章 コスト削減 1.1 テーラードブランクによる性能と歩留りの改善 最適な位置に最適な部材を配置 図 1-1-1 に示すブランク形状の設計において 製品の各 4 面への要求仕様が異なる場合でも 最大公約数的な考えで 1 つの材料からの加工を想定するのが一般的です その結果 ブランク形状の各 4 面の中には板厚や材質の仕様が不十分になる場合や 反対に十分すぎる場合が生じました
α α α α α α
α α α α α α 映像情報メディア学会誌 Vol. 71, No. 10 2017 図 1 レーザビーム方式 図 3 PLAS の断面構造 図 3 に PLAS の断面構造を示す PLAS はゲート電極上の チャネル部の部分的な領域のみをフォトマスクとエッチン グなしに結晶化することが可能である 従来のラインビー ム装置はゲート電極上 テーパー上 ガラス上などの表面 の結晶性制御の課題がある
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力のつり合い反力 ( 集中荷重 ) V 8 V 4 X H Y V V V 8 トラス部材に生じる力 トラスの解法 4k Y 4k 4k 4k ' 4k X ' 30 E ' 30 H' 節点を引張る力節点を押す力部材に生じる力を表す矢印の向きに注意 V 0k 反力の算定 V' 0k 力のつり合いによる解法 リッターの切断法 部材 の軸力を求める k k k 引張側に仮定 3 X cos30 Y 04
Microsoft Word - 建築研究資料143-1章以外
4. ブレース接合部 本章では, ブレース接合部について,4 つの部位のディテールを紹介し, それぞれ問題となる点や改善策等を示す. (1) ブレースねらい点とガセットプレートの形状 (H 形柱, 弱軸方向 ) 対象部位の概要 H 形柱弱軸方向にガセットプレートタイプでブレースが取り付く場合, ブレースの傾きやねらい点に応じてガセットプレートの形状等を適切に設計する. 検討対象とする接合部ディテール
Microsoft PowerPoint - elast.ppt [互換モード]
![Microsoft PowerPoint - elast.ppt [互換モード]](/thumbs/82/86104681.jpg "Microsoft PowerPoint - elast.ppt [互換モード]")
弾性力学入門 年夏学期 中島研吾 科学技術計算 Ⅰ(48-7) コンピュータ科学特別講義 Ⅰ(48-4) elast 弾性力学 弾性力学の対象 応力 弾性力学の支配方程式 elast 3 弾性力学 連続体力学 (Continuum Mechanics) 固体力学 (Solid Mechanics) の一部 弾性体 (lastic Material) を対象 弾性論 (Theor of lasticit)
Microsoft PowerPoint - 材料加工2Y0807V1pdf.ppt
第 7 回目圧延 生命医科学部医工学科バイオメカニクス研究室 ( 片山 田中研 ) IN6N 田中和人 E-ail: 内線 : 648 圧延の定義回転する上下ロール間に素材をかみこませ, 厚さや断面積の小さな板, あるいは形材等をつくる方法圧延の歴史 5 世紀末 : レオナルド ダ ビンチ 6 世紀 : 棒や板材の圧延 8 世紀末 : 動力に蒸気力を利用ロール, ハウジングの大型化ロールの多段化 世紀
03マイクロ波による光速の測定
マイクロ波による光速の測定 小河貴博石橋多郎高田翔宮前慧士 指導者 : 仲達修一 要旨本研究では, マイクロ波を用いて光速を測定するための装置を製作し, その装置を用いて, 波長を測定することによって光速を算出する方法の妥当性を検討した また, 複数の測定方法を考案してより良い測定方法を探った その結果, 自作の実験装置とマイクロ波を用いた測定方法の妥当性を明らかにすることができた In our research,
<4D F736F F F696E74202D F192E897E18CA48B8689EF5F8E9B926E976C EF CADDC4DEB1B3C4816A2E B8CDD8AB B83685D>
原子力学会水化学部会第 12 回定例研究会 PWR 環境における強加工ステンレス 鋼の SCC 進展速度 平成 23 年 3 月 7 日 ( 株 ) 原子力安全システム研究所 寺地巧 山田卓陽 宮本友樹 有岡孝司 INSS Fukui Japan 2 背景 :PWR 主要系統における応力腐食割れ (SCC) Ni 基合金 (600 合金など ) の SCC 蒸気発生器伝熱管 原子炉容器上蓋管台 蒸気発生器入り口管台
本日話す内容
6CAE 材料モデルの VV 山梨大学工学部土木環境工学科吉田純司 本日話す内容 1. ゴム材料の免震構造への応用 積層ゴム支承とは ゴムと鋼板を積層状に剛結 ゴム層の体積変形を制限 水平方向 鉛直方向 柔 剛 加速度の低減 構造物の支持 土木における免震 2. 高減衰積層ゴム支承の 力学特性の概要 高減衰ゴムを用いた支承の復元力特性 荷重 [kn] 15 1 5-5 -1-15 -3-2 -1 1
Electrical Steel Sheet for Traction Motor of Hybrid/Electrical Vehicles Abstract 15 years have passed since the first commercial hybrid electric vehicle (HEV) was sold. Meanwhile, the market has been expanding
1. 災害調査の概要 1.1 災害の種類塩酸供給バルブからの塩酸漏洩 略 1.4 災害概要清掃工場の汚水処理設備施設において, 純水設備へ塩酸を供給するため, 塩酸貯槽 (6 m 3 ) から 35% 濃度の塩酸をマグネットポンプにて圧送していたところ, 塩酸貯槽のレベル異常 ( 水
災害調査報告書 清掃工場の汚水処理設備における塩酸漏洩災害 独立行政法人労働安全衛生総合研究所 1 1. 災害調査の概要 1.1 災害の種類塩酸供給バルブからの塩酸漏洩 1.2 1.3 略 1.4 災害概要清掃工場の汚水処理設備施設において, 純水設備へ塩酸を供給するため, 塩酸貯槽 (6 m 3 ) から 35% 濃度の塩酸をマグネットポンプにて圧送していたところ, 塩酸貯槽のレベル異常 ( 水位検出による塩酸量の不足
使用した装置と試料 装置 : 位相差測定装置 KOBA-W 使用ソフト : 位相差測定 Eソフト 専用治具 : 試料引張治具 試料 : 表 1の各フィルムを測定 ( 測定は室温 3 ) 表 1 実験に用いた試料 記号 材質 厚さ (μm) 光軸角 Ω( ) 備考 pc4 ポリカーボネート 6 87.
1.4 王子計測機器株式会社 光弾性係数に関する実験結果 はじめに高分子材料において観測される複屈折を分類すると 配向複屈折 応力複屈折および形態複屈折があります その中で形態複屈折は 樹脂中に微細な繊維状物質が配列した場合などに見られるもので 通常の高分子材料では無視できます 一方向に引張荷重を負荷する一軸伸長変形の場合に観測される複屈折は 図 1のように配向複屈折と応力複屈折の合計になります 光弾性係数は
ナノ多結晶ダイヤモンド球状圧子による微小破壊強度評価技術
特別論文 ナノ多結晶ダイヤモンド球状圧子による微小破壊強度評価技術 Microfracture Strength Evaluation Technique Using Nano-polycrystalline Diamond Spherical Indenter * 角谷均濱木健成 Hitoshi Sumiya Kensei Hamaki Katsuko Harano 原野佳津子 ナノ多結晶ダイヤモンドから作製した球状圧子を用いた微小破壊強度評価技術を開発した
3D プリンタにより作製した樹脂部品の強度に関する研究 尾形正岐 阿部治 長田和真 西村通喜 山田博之 渡辺誠 Study on Strength of Resin Materials Processed by Fused Deposition Modeling Printer Masaki OGA
3D プリンタにより作製した樹脂部品の強度に関する研究 尾形正岐 阿部治 長田和真 西村通喜 山田博之 渡辺誠 Study on Strength of Resin Materials Processed by Fused Deposition Modeling Printer Masaki OGATA, Osamu ABE, Kazuma OSADA, Michiyoshi NISHIMURA,
Microsoft PowerPoint - zairiki_3
材料力学講義 (3) 応力と変形 Ⅲ ( 曲げモーメント, 垂直応力度, 曲率 ) 今回は, 曲げモーメントに関する, 断面力 - 応力度 - 変形 - 変位の関係について学びます 1 曲げモーメント 曲げモーメント M 静定力学で求めた曲げモーメントも, 仮想的に断面を切ることによって現れる内力です 軸方向力は断面に働く力 曲げモーメント M は断面力 曲げモーメントも, 一つのモーメントとして表しますが,
hetero
ヘテロ接合型太陽電池の原理 構造 製造プロセス及び研究開発 / 技術動向 ( その 1) 平成 29 年 11 月 APT 代表 村田正義 ヘテロ接合型太陽電池の原理 構造 あ ( 出典 )https://www.panasonic.com/jp/corporate/technology-design/technology/hit.html ヘテロ接合型太陽電池セルの歴史 1980 年に当時の三洋電機
スライド 1
第 1 週 : 焼結 および粉末と焼結体の諸性質の測定 焼結 収縮を伴わない焼結 ネックの曲率半径 : s ネック表面積 : A X ネック体積 : V R l 収縮率 : 0 l 0 4 X R X R 3 収縮を伴う焼結 ネックの曲率半径 : s ネック表面積 : ネック体積 : V A 4 X R X R X 4R l h s X 収縮率 : l 0 R R 4 3 R 初期段階における焼結機構と焼結速度式
16 (16) poly-si mJ/cm 2 ELA poly-si super cooled liquid, SCL [3] a-si poly-si [4] solid phase crystalization, SPC [5] mJ/cm 2 SPC SCL (di
![16 (16) poly-si mJ/cm 2 ELA poly-si super cooled liquid, SCL [3] a-si poly-si [4] solid phase crystalization, SPC [5] mJ/cm 2 SPC SCL (di](/thumbs/82/84964999.jpg "16 (16) poly-si mJ/cm 2 ELA poly-si super cooled liquid, SCL [3] a-si poly-si [4] solid phase crystalization, SPC [5] mJ/cm 2 SPC SCL (di")
(15) 15 ELA により形成された poly-si 結晶成長様式 - グレイン形状と水素の関係 - Crystal Growth Mode of Poly-Si Prepared by ELA -Relationship between the Grain Morphology and ydrogens- Naoya KAWAMOTO (Dept. of Electrical and Electronic
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科目名学科 学年 組学籍番号氏名採点結果 016 年度材料力学 Ⅲ 問題 1 1 3 次元的に外力負荷を受ける物体を考える際にデカルト直交座標 - を採る 物体 内のある点 を取り囲む微小六面体上に働く応力 が v =- 40, = 60 =- 30 v = 0 = 10 v = 60 である 図 1 の 面上にこれらの応力 の作用方向を矢印で記入し その脇にその矢印が示す応力成分を記入しなさい 図
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2003.4 2 3 2003.4 m m m m m m m m m m m 4 m m m m m m m m 5 2003.4 1 1 1 1 6 1 1 1 7 2003.4.102003.5.9 N A O S H I M A C A L E N D A R 2003. A P R I L / M A Y 1 2003.4 1 1 10 1 1 11 2003.4 12 CAMERA REPORT
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2004 No.615 2 2004.10 3 2004.10 1 1 1 1 1 4 1 1 1 1 5 2004.10 6 2 7 2004.10.162004.11.15 N A O S H I M A C A L E N D A R 2004. O C T O B E R / N O V E M B E R 1 2004.10 1 1 1 1 1 10 3 1 1 11 2004.10 12
2002.3 2
2002 No.584 2002.3 2 Q A 3 2002.3 1 1 1 1 1 4 1 1 1 1 1 1 5 2002.3.104.9 N A O S H I M A C A L E N D A R 2002. M A R C H / A P R I L 1 2002.3 1 1 1 1 8 1 1 1 9 2002.3 10 CAMERA REPORT 11 2002.3 22 1 12
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2003.2 2 1 1 1 3 2003.2 1 1 1 4 1 1 5 2003.2.102003.3.9 N A O S H I M A C A L E N D A R 2003. F E B R U A R Y / M A R C H 1 2003.2 8 CAMERA REPORT 9 2002.2 1 1 1 1 1 1 1 1 10 1 1 1 1 1 1 1 11 2003.2 1
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2003 No.602 2 2003.9 Q A Q A 3 1 4 2003.9 1 1 1 1 5 2003.9.102003.10.9 N A O S H I M A C A L E N D A R 2003. S E P T E M B E R / O C T O B E R 1 1 1 1 8 2003.9 2 11 1 1 9 2003.9 10 CAMERA REPORT 11 2003.9
画像類似度測定の初歩的な手法の検証
画像類似度測定の初歩的な手法の検証 島根大学総合理工学部数理 情報システム学科 計算機科学講座田中研究室 S539 森瀧昌志 1 目次 第 1 章序論第 章画像間類似度測定の初歩的な手法について.1 A. 画素値の平均を用いる手法.. 画素値のヒストグラムを用いる手法.3 C. 相関係数を用いる手法.4 D. 解像度を合わせる手法.5 E. 振れ幅のヒストグラムを用いる手法.6 F. 周波数ごとの振れ幅を比較する手法第
金属板材のスプリングバックを制御する V 曲げ加工 職業能力開発総合大学校精密機械システム工学科 教授小川秀夫 ( 平成 16 年度研究開発助成 AF ) キーワード : スプリングバック,V 曲げ加工, プレスブレーキ 1. 研究の目的と背景金属板材曲げ加工品の精度安定性を阻害する最
金属板材のスプリングバックを制御する V 曲げ加工 職業能力開発総合大学校精密機械システム工学科 教授小川秀夫 ( 平成 6 年度研究開発助成 AF-2004004) キーワード : スプリングバック,V 曲げ加工, プレスブレーキ. 研究の目的と背景金属板材曲げ加工品の精度安定性を阻害する最大の要因はスプリングバックである. スプリングバックを抑制する手段として多く行われている方法は, 曲げ加工終了時にパンチとダイによって曲げ部を方向に圧縮する方法である.
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- 第 章たわみ角法の基本式 ポイント : たわみ角法の基本式を理解する たわみ角法の基本式を梁の微分方程式より求める 本章では たわみ角法の基本式を導くことにする 基本式の誘導法は各種あるが ここでは 梁の微分方程式を解いて基本式を求める方法を採用する この本で使用する座標系は 右手 右ネジの法則に従った座標を用いる また ひとつの部材では 図 - に示すように部材の左端の 点を原点とし 軸線を
Microsoft Word - NJJ-105の平均波処理について_改_OK.doc
ハンディサーチ NJJ-105 の平均波処理について 2010 年 4 月 株式会社計測技術サービス 1. はじめに平均波処理の処理アルゴリズムの内容と有効性の度合いを現場測定例から示す まず ほぼ同じ鉄筋かぶりの密接鉄筋 壁厚測定時の平均波処理画像について また ダブル筋 千鳥筋の現場測定例へ平均波処理とその他画像処理を施し 処理画像の差について比較検証し 考察を加えた ( 平均波処理画像はその他の各処理画像同様
DocuPrint C5450 ユーザーズガイド
1 2 3 4 5 6 7 8 1 10 1 11 1 12 1 13 1 14 1 15 1 16 17 1 1 18 1 19 1 20 1 21 1 22 1 23 1 24 1 25 1 26 27 1 1 28 1 29 1 30 1 31 1 2 12 13 3 2 10 11 4 9 8 7 6 5 34 24 23 14 15 22 21 20 16 19 18 17 2 35
Nov 11
http://www.joho-kochi.or.jp 11 2015 Nov 01 12 13 14 16 17 2015 Nov 11 1 2 3 4 5 P R O F I L E 6 7 P R O F I L E 8 9 P R O F I L E 10 11 P R O F I L E 12 技術相談 センター保有機器の使用の紹介 当センターで開放している各種分析機器や計測機器 加工機器を企業の技術者ご自身でご利用できます
Microsoft Word - 卒論レジュメ_最終_.doc
指紋認証のマニューシャ抽出について 澤見研究室 I02I036 兼信雄一 I02I093 柳楽和信 I02I142 吉田寛孝 1. はじめに近年, キャッシュカードや暗証番号が盗用され, 現金が引き出されるような事件が相次いでいる. これらの対向策として人間の体の一部を認証の鍵として利用する生体認証に注目が集まっている. そこで我々は, 生体認証で最も歴史がある指紋認証技術に着目した. 指紋認証方式は,2
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2143-552010 1 2 () 1 2 3 456 78- Key Words 1 3 12007 2 3 508 19992008 1 23 4 43 2120107 4 2008 1992 2003 2005 1989 2008 4 2 2-1 10 4 4 6 5 4 5 2946 1 155 11 41 44 45 4 2-2 2003 1 21 2 1 3 4 5 6 7 3 2120107
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20 93-105 2010 2 () ' - 1 ( ) ( ' 2005) Key Words 2 1967 93 20 2010 1 94 1 ' 2002 2 2 1996 1996 1999 2 2 2 1993 1999 4 1 2 1985 1989 1986 1994 4 1 2 1 1 4 2 4 4 1 4 1966 4 10-1970 20 1993-1972 95 20 2010
1996 2000 2004 1984 2005 7150 000 9 500 9 4 13 10 95 11 11 12 20002004 9 70
14 2006 1 Key Words 2002 3 1 2 3 3 1 2 3 1969 1987 69 1996 2000 2004 1984 2005 7150 000 9 500 9 4 13 10 95 11 11 12 20002004 9 70 14 2006 1 15 71 72 1 22 6 32 9 200 6 3 1 2 2000 10 1 2003 10 2005 6 5 4
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1 77 5 Key words 1 23 3 11417 14310045 20022004 2 2003 20022005 20022004 2 10200511 3 2003 1152003 59 1995 3 32003 19932002 20032003 2005 20052005 4 1997 2000521986 2001 42001 3 1981 6 1 7 5 1000248 1632647
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21 119-132 2010 ( ) ' Key Words 119 21 2010 7 1962 2001 2001 2007 1982 1988 1997 2007 1997 1998 1863 1880 1 1998 1998 2001 1599 120 121 1599 1695 8 1695 1714 4 1714 1715 5 1715 100 1812 9 1812 1864 2001
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1499-1122007 1 ) ) ) ) ) (1) -- ) ) ) ) ) ) ( ) ) ' ) ) ) ) - 1) 2)' 3) Key words 19811994 1721 99 1420073 100 20012004 2005 2004 2002 33 34 10 1987 45 20002003 2002 1 1 2000 1 1 2001 2 200341 12004 2
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49 00 7 Key words 980 995 50 0005 90 997 99 990 994 99 99 99990 99 996 988988 994 99 995 995 995 994 984 988 986 997 997 00 995 00 5 7 5 5 999 997 997 998 6 998 999 997 997 998 0040000 994 996 000 00 5
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191-132009 1 ( ) ' Key Words 1 11 12007 2007 200520062 201120062 7558 4009 1 1920098 2007 2 2000 028 2005 1999 12 1999 13 1968 2 3 '1992 2007 2001 20052001 1977 2005 2005 2007 21 21 22 461927 3 13 1920098
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61 10 1990 Key words 1 102005 11 62 2000 1 1920 10 1892 63 1 1 19 100 1914 100 1 1 20 1 2 102005 11 64 1946 21 4 1947 1949 1947 22 1 3 1956 1959 1958 2 1964 65 2 10 1975 7080 70 2 1 1987 1990 40 1989 1989
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1991-1022009 1 2 () )--) 28 2827 1 2 Key Words 1 (1721 2000 20012001 20082009 91 1920098 92 20042004 2004 2001 12 2005 20082009 2005 3 1997 200820096 2007 2 20082009 93 20012001 12 2008 2009 19611966 1
e - カーボンブラック Pt 触媒 プロトン導電膜 H 2 厚さ = 数 10μm H + O 2 H 2 O 拡散層 触媒層 高分子 電解質 触媒層 拡散層 マイクロポーラス層 マイクロポーラス層 ガス拡散電極バイポーラープレート ガス拡散電極バイポーラープレート 1 1~ 50nm 0.1~1
Development History and Future Design of Reduction of Pt in Catalyst Layer and Improvement of Reliability for Polymer Electrolyte Fuel Cells 6-43 400-0021 Abstract 1 2008-2008 2015 2 1 1 2 2 10 50 1 5
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デンドリマー構造を持つアクリルオリゴマー 大阪有機化学工業 ( 株 ) 猿渡欣幸 < はじめに > アクリル材料の開発は 1970 年ごろから UV 硬化システムの確立とともに急速に加速した 現在 UV 硬化システムは電子材料において欠かせないものとなっており その用途はコーティング 接着 封止 パターニングなど多岐にわたっている アクリル材料による UV 硬化システムは下記に示す長所と短所がある
1611 原著 論文受付 2009 年 6 月 2 日 論文受理 2009 年 9 月 18 日 Code No. 733 ピクセル開口率の向上による医用画像表示用カラー液晶モニタの物理特性の変化 澤田道人 石川晃則 1) 松永沙代子 1) 1) 石川陽子 有限会社ムツダ商会 1) 安城更生病院放射
1611 原著 論文受付 2009 年 6 月 2 日 論文受理 2009 年 9 月 18 日 Code No. 733 ピクセル開口率の向上による医用画像表示用カラー液晶モニタの物理特性の変化 澤田道人 石川晃則 1) 松永沙代子 1) 1) 石川陽子 有限会社ムツダ商会 1) 安城更生病院放射線技術科 緒言 3D PET/CT Fusion 1 liquid crystal display:
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第 5 章核生成と相形態 目的 相変化時の核生成の基本を理解するとともに, 相形状が種々異なる理由を物理的観点から認識する. 5.1 核生成と成長 5.1.1 均一核生成 5.1. 不均一核生成 5.1.3 凝固 相変態 5.1.4 TTT 線図 5. 相形態 5..1 界面エネルギーと相形態 5.. 組織成長 演習問題 5.1 核生成と凝固 5.1.1 均一核生成 (homogeneous nucleation)
研究成果報告書
10m 2m Ge Si BaF2 ZnSZnSe Sb-Ge-Sn-S IIR-SF1 1 2 Tungsten SilicideWSi WSi () IIR-SF 1 Sb-Ge-Sn-S 0.85~11μm2.710μm 253 C Al Al 220μm He-Cd laser 1 Exposure Photoresist WSi (a) 500 nm Development RIE WSi
昆虫と自然 2010年12月号 (立ち読み)
食糞性コガネムシの輝く色 構造色のメカニズム 赤嶺 し Seago et al. ５ 真由美 近 雅博 は上記の単純 な多層膜による干渉とは異なる 干渉メカニズム circularly polarizing reflectors もこの範疇 に含めている このことについ ては後述する 2 Three-dimensional photonic crystals は 密に集まったオパー ルに類似した六角形の配列ある
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材料実験演習 第 6 回 2015.05.17 スケジュール 回 月 / 日 標題 内容 授業種別 時限 講義 演習 6,7 5 月 17 日 8 5 月 24 日 5 月 31 日 9,10 6 月 7 日 11 6 月 14 日 講義 曲げモーメントを受ける鉄筋コンクリート(RC) 梁の挙動その1 構造力学の基本事項その2 RC 梁の特徴演習 曲げを受ける梁の挙動 実験 鉄筋コンクリート梁の載荷実験レポート
液相レーザーアブレーションによるナノ粒子生成過程の基礎研究及び新規材料創成への応用 北海道大学大学院工学工学院量子理工学専攻プラズマ応用工学研究室修士 2年竹内将人
液相レーザーアブレーションによるナノ粒子生成過程の基礎研究及び新規材料創成への応用 北海道大学大学院工学工学院量子理工学専攻プラズマ応用工学研究室修士 2年竹内将人 研究背景 目的 液相レーザーアブレーション 液相に設置したターゲットに高強度レーザーパルスを照射するとターゲット表面がプラズマ化する ターゲットを構成する原子 分子が爆発的に放出され, ターゲット由来のナノ粒子ナノ粒子が生成される レーザー照射
エクリーガル A25GR-FS A25H-FS 取付説明書 施工する方へのお願い このたびは エクリーガル A25GR-FS A25H-FS をご採用いただき 誠にありがとうございます 取付前に本書をよくお読みいただき 正しく施工されるようお願いいたします 誤った取り付けは 施工時だけでなく使用時に
エクリーガル A25-FS A25-FS 取付説明書 施工する方へのお願い このたびは エクリーガル A25-FS A25-FS をご採用いただき 誠にありがとうございます 取付前に本書をよくお読みいただき 正しく施工されるようお願いいたします 誤った取り付けは 施工時だけでなく使用時に思わぬけがをする恐れがあります 本書の説明 注意事項をお守りください 本書は 2 モデルの製品共通の取付説明書です
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材料実験演習 第 6 回 2017.05.16 スケジュール 回 月 / 日 標題 内容 授業種別 時限 実験レポート評価 講義 演習 6,7 5 月 16 日 8 5 月 23 日 5 月 30 日 講義 曲げモーメントを受ける鉄筋コンクリート(RC) 梁の挙動その1 構造力学の基本事項その2 RC 梁の特徴演習 曲げを受ける梁の挙動 実験 鉄筋コンクリート梁の載荷実験レポート 鉄筋コンクリート梁実験レポート作成