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4 装置構成 4 インチ 6 インチの Si を含む種々の基板を用いることを可能に 本ハブは 4 インチ 6 インチの Si を含む種々の基板を用いることを可能にし 薄膜の形成からマイクロナノ加工を行うことができる装置群と評価装置群から構成しています ナノリソグラフィー装置群 A1 A2 高速高精度電子ビーム描画装置 超高精細高精度電子ビーム描画装置 ELS-F125HS 縮小投影型露光装置 NSR-2205i11D 株 エリオニクス 露光装置 ステッパー 加速電圧 125kV を採用し かつ最小ビーム径をφ1.7nm にすることで最小加工線幅 5nm が可能 株 ニコン 解像度 350nm 以下 露光倍率 1 5 A3 レーザー直接描画装置 A4 レーザー描画装置 DWL2000 マスクレス露光装置 D-light DL-1000GS/KCH 株 ナノシステム ソリューションズ 厚膜レジストにも対応可能 Heiderberg Instruments Mikrotechnik フォトマスク作製可 最小描画サイズ 0.6 μm A5 両面マスクアライナー A6 手動両面マスクアライナ SUSS MA6 BSA ズース マイクロテック 株 高性能手動両面マスクアライナ 厚いレジストにも対応 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 紫外線露光装置 A7 高速マスクレス露光装置 A8 SUSS DELTA80T3/VP レジスト塗布装置 ズース マイクロテック 株 汎用性に優れたスピンコータシステム スプレーコータ A10 マイクロマシン /MEMS 用スプレーコーター ウシオ電機 株 A11 ウエハスピン剥離 洗浄装置 KSC-150CBU 株 カナメックス ケミカル洗浄 純水洗浄 メガソ ニックや 2 流体 スピン乾燥を行 う枚葉式ウエハスピン洗浄装置 ウエハスピン現像装置 KD-150CBU 株 カナメックス フォトレジスト塗布用 ウェハスピン洗浄装置 二種類のレジスト塗布可能 エッジリンス機能 レジスト現像装置 ウエハスピンコータ KRC-150CBU 株 カナメックス A9 マスクアライナー MA-10 型 ミカサ 株 φ4 インチまでの不定形 試料に対応する実験用マス クアライナ A12 用途 フォトレジスト EB レジス トのアルカリ現像 リンス スピ ン乾燥 ウェハ汚染計測装置 Agilent 7700x ICP-MS システム アジレント テクノロジー 株 Si 基板上の汚染物質を 分析可能

5 ナノ材料加工 創製装置群 B1 多元スパッタ装置A B2 多元スパッタ装置B B3 電子線蒸着装置 自動蒸着装置 EB1200 汎用スパッタリング装置 EB1100 キャノンアネルバ 株 10kW4 連 E 型電子銃搭載 の各種金属成膜装置 キャノンアネルバ 株 加熱温度 800 を実現した スパッタリング装置 4元 A 3 元 B PMC 搭載 B5 プラズマ CVD 装置 B6 SiO2 厚膜形成用プラズマ CVD 装置 Model:MPX-CVD 住友精密工業 株 B8 B9 MEMS 用高速シリコンエッチング装置 RIE-800iPB-KU サムコ 株 ボッシュプロセスを導入した MEMS 用 高速シリコンエッチング装置 13.56MHz, 400kHz RF 電源搭載 B10 ドライエッチング装置 高密度プラズマドライエッチング 装置 NLD-570 株 アルバック B11 リアクティブイオンエッチング装置 RIE-10NR-KF サムコ 株 汎用性ドライエッチング装置 シリコン酸化膜犠牲層 ドライエッチングシステム B13 シリコン犠牲層エッチング装置 X-SYS-3B Xactic 社製 Xetch X3B 住友精密工業 株 XeF2 ガスにより Si を高選択比 エッチングが可能 B16 FREGAT ズース マイクロテック 株 基板接合前の 2 枚の基板のアライメント や UV インプリントに対応 波長 1.23 μm の短パルスレーザー を集光し 精密な加工を実現 SUSS SB8e ズース マイクロテック 株 プログラマブル接合チャンバを備え た半自動基板接合装置 SUSS MA/BA8 Gen3 紫外線ナノインプリント ボンドアライメント装置 株 東京インスツルメンツ 基板接合装置 シリコン犠牲層 ドライエッチングシステム B17 電子サイクロトロン 共鳴イオンビーム加工装置 ECR イオンシャワー装置 EIS-1200 株 エリオニクス ECR プラズマにより直進性の良い ビームが得られ微細加工が可能 シリコン酸化膜犠牲層エッチング装置 MLT-SLE-0x 住友精密工業 株 HF ガスによりシリコン酸化膜を 選択的にエッチングが可能 赤外フェムト秒レーザー加工装置 石英 ガラス 金属酸化物など多種材料 に対応したドライエッチング装置 B14 磁気中性線放電 ドライエッチング装置 B12 NVision40PI エスアイアイ ナノテクノロジー 株 高性能 FIB と FE-SEM の複合装置 TEOS テトラエトキシシラン により 酸化シリコンを高速で成膜 深堀りドライエッチング装置 集束イオンビーム 走査電子顕微鏡 B18 レーザダイシング装置 Mahoh Dicer ML200 株 東京精密 ドライプロセスによるダイシ ングマシン 薄ウエハの切断可能しかも 高速切断可 300mm/sec

6 ナノ材料分析 評価装置群 C1 超高分解能電界放出形 走査電子顕微鏡 C2 日立低真空分析走査 電子顕微鏡 SU6600 日立超高分解能電界放出形 走査電子顕微鏡 SU8000 株 日立ハイテクノロジーズ 株 日立ハイテクノロジーズ EDX EBSD を搭載 低真空モードでの観察可能 極低加速電圧 100V での 試料観察も可能 C3 高速液中原子間力顕微鏡 C4 高速原子間力顕微鏡 NanoLiveVision C6 共焦点レーザー走査型顕微鏡 FV1000 オリンパス 株 3 次元の蛍光イメージング ビデオレートでの蛍光画像取得可能 C9 全反射励起 蛍光イメージングシステム 長時間撮影 蛍光イメージングシステム C11 3D 測定レーザー顕微鏡 OLS4000 オリンパス 株 表面形状の評価 透明試料の評価も可能 C10 全自動水平型多目的X線回折装置 SmartLab 株 リガク オリンパス 株 分光エリプソメーター C12 分光エリプソメータ FE-5000 大塚電子 株 1 μm 以下の薄膜の膜厚と 光学定数を評価 波長範囲 nm ゼータ電位 粒径測定システム C14 微小電流測定用ウエーハマニュ アルプローバ Model 708fT 株 日本マイクロニクス C19 を計測器として用いる ダイナミック光散乱光度計 ダイナミック光散乱光度計 DLS-8000DH 大塚電子 株 微粒子の粒径を動的 光散乱により評価 C16 マイクロシステム アナライザ 触針式表面形状測定器 Dektak150 株 アルバック 表面粗さ 段差を ナノメートルの分解能で評価 プローバ JPK インスツルメンツ 2 つのレーザービームで粒子を 捕捉 pn レベルの力を測定 C17 Nano Tracker ゼータ電位 粒径測定システム 高感度仕様 ELSZ-2Plus 大塚電子 株 微粒子 平板 フィルムの ゼータ電位測定 ph タイトレータ付 触針式段差計 薄膜試料の逆格子マッピング インプレーン測定 反射率測定 微小部測定等多様な測定に対応 三次元粒子 トラッキングシステム C15 X線回折装置 C13 3D 測定レーザー顕微鏡 C8 原子間力顕微鏡 NanoWizard Ⅲ JPK インスツルメンツ 大気中 液中での AFM 様々な試料を観察可能 力学計測や試料切断も可能 株 生体分子計測研究所 10fps の動画観察可能な原子間力顕微鏡 共焦点レーザー走査型顕微鏡 走査型プローブ顕微鏡システム C5 分析走査電子顕微鏡 MSA-500-TPM2-20-D ポリテックジャパン 株 MEMS の動的特性 面外 面内 および表面形状を 3 次元で測定 C18 真空プローバ 真空マニュアルプローブシステム PLV50 カスケード マイクロテック 株 φ150mm 基板まで対応できる マニュアルプローブシステム 温調制御可能

7 ご利用ご希望の方は NO 装置名 品番 をご覧ください A13 液滴吐出描画装置 サブフェムトインクジェット加工装置 株 SIJ テクノロジ ST050 A14 有機現像液型 レジスト現像装置 KD(EB)-150CBU B4 真空蒸着装置 抵抗加熱蒸着装置 B7 熱酸化炉 チューブ炉 B15 レーザアニール装置 LAEX-1000 KrF エキシマレーザアニーリ ングシステム B19 ダイシングソー オートマチックダイシングソー DAD322 B20 真空マウンター 真空テープ貼り付け装置 B21 紫外線照射装置 LED 光源 UV フィルム硬化装置 LED-4082 テクノビジョン B22 エキスパンド装置 ウエハ拡張装置 TEX-21BG GR-5 対応 テクノビジョン B23 ウェッジワイヤボンダ 超音波熱圧着ウェッジワイヤーボンダー 7400D ハイソル 株 ウエスト ボンド社 B24 ボールワイヤボンダ 超音波熱圧着ボールワイヤー バンプボンダー 7700D ハイソル 株 ウエスト ボンド社 B25 ダイボンダ マニュアルエポキシボンダー B26 ナノインプリントシステム Eitre 3 B27 赤外透過評価検査 / 非接触厚み測定機 IRise-T 顕微鏡観察 測定装置 ユニバーサル測定顕微鏡 画像ユニット 株 ミツトヨ システム MF-UB2010C C19 パワーデバイスアナライザ 半導体パラメータアナライザ B1505A アジレント テクノロジー 株 C20 インピーダンスアナライザ プレシジョンインピーダンスアナライザ 4294A アジレント テクノロジー 株 C21 光ヘテロダイン 微小振動測定装置 MLD-230D-200K ネオアーク 株 C22 超微小材料 機械変形評価装置 超微小押し込み硬さ試験機 ENT-2100 株 エリオニクス C23 デジタルマイクロスコープ デジタルマイクロスコープ VHX-1000 株 キーエンス C24 セルテストシステム マルチスタット 1470E 型 周波数応答アナライザ 1260 型 C25 卓上顕微鏡 SEM 日立卓上顕微鏡 C26 マニュアルプローバ マニュアルプローバ 株 アポロウェーブ C27 RF プローブキット ZPROBE 株 アポロウェーブ C28 ネットワークアナライザ ベクトル ネットワーク アナライザ 10MHz to 14GHz 株 アポロウェーブ ROHDE&SCHWARZ 社製 C29 半導体パラメータアナライザ 半導体パラメータアナライザ 株 アポロウェーブ Keithley Instruments 社製 C7 株 カナメックス L-045E 株 サンバック MT-8x59-S 光洋サーモシステム 株 AOV 株 株 DISCO VTL CR 日本電気 株 ハイソル 株 ウエスト ボンド社 Obducat Technologies AB 社 株 モリテックス Solartron Analytical 社 Miniscope TM SCS 株 日立ハイテクノロジーズ 装置写真の著作権は各メーカーに所属します 無断の転載 複製を禁止します

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