平成 30 年 4 月版材料創造研究センター利用案内簡易版 ( 詳細版もあります )

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しじんありはら
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1 平成 30 年 4 月版材料創造研究センター利用案内簡易版 ( 詳細版もあります )

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3 目次 1. 装置および利用料金一覧 2 2. ご利用の流れ 3 3. ご利用料金 3 4. 技術相談お問い合わせ先 3 5. 材料創造研究センターの所有装置マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析計高速液体クロマトグラフ質量分析計ガスクロマトグラフ質量分析装置フーリエ変換 - 核磁気共鳴装置電子スピン共鳴装置電界放出形走査型電子顕微鏡エネルギー分散型 X 線分析装置付走査型電子顕微鏡走査型プローブ顕微鏡顕微ラマン測定装置動的光散乱測定装置 X 線小角散乱装置 X 線広角回折装置示差走査熱量測定装置熱機械分析装置元素分析装置装置配置図 9 発行者材料創造研究センター管理責任者問合せ電話 : , ccmruser@chem.cst.nihon-u.ac.jp H P:

Center for Creative Materials Research 材料創造研究センター

管理しています理工学部の研究のための利用が主目的ですが, 学外利用も積極的に推進し, 都心の材料研究拠点として,

装置および利用料金一覧装置区分測定単位料金 [ 円 ] マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型

高速液体クロマトグラフ質量分析装置 (LC/MS) 3 時間 6,000 ガスクロマトグラフ質量分析装置

終夜 18,000 電子スピン共鳴装置 (ESR) 半日 12,000 電界放出形走査型電子顕微鏡 (FE-SEM)

(SEM/EDX) EDX 測定 1 時間 2,000 走査型プローブ顕微鏡装置 (SPM) 1 時間 500

(SAXS) 4 時間 4,000 X 線広角回折装置 (WAXS) 1 時間 2,700 示差走査熱量測定装置

(18,000) 400 MHz フーリエ変換核磁気共鳴装置 (FT-NMR) 積算 5 時間超過 5,000 5

4 Center for Creative Materials Research 材料創造研究センター材料創造研究センターは, 日本大学理工学部の共同利用研究施設として, 物質材料を対象とした各種測定装置を運用, 管理しています理工学部の研究のための利用が主目的ですが, 学外利用も積極的に推進し, 都心の材料研究拠点として, 材料研究の発展に寄与したいと考えています 1. 装置および利用料金一覧装置区分測定単位料金 [ 円 ] マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析装置 (MALDI-TOF/TOF MS) 1 時間 3,500 ライセンス制オペレタ制高速液体クロマトグラフ質量分析装置 (LC/MS) 3 時間 6,000 ガスクロマトグラフ質量分析装置 (GC/MS) 3 時間 6, MHz フーリエ変換核磁気共鳴装置 (FT-NMR) 10 分 600 終夜 18,000 電子スピン共鳴装置 (ESR) 半日 12,000 電界放出形走査型電子顕微鏡 (FE-SEM) 1 時間 5,000 エネルギー分散型 X 線分析装置付 SEM 1 時間 1,000 走査型電子顕微鏡 (SEM/EDX) EDX 測定 1 時間 2,000 走査型プローブ顕微鏡装置 (SPM) 1 時間 500 顕微ラマン分光装置 1 時間 5,000 動的光散乱測定装置 (DLS) 1 時間 1,000 X 線小角散乱装置 (SAXS) 4 時間 4,000 X 線広角回折装置 (WAXS) 1 時間 2,700 示差走査熱量測定装置 (DSC) 3 時間 2,000 熱機械分析装置 (TMA) 1 時間 1,000 20,000 1 件 (18,000) 400 MHz フーリエ変換核磁気共鳴装置 (FT-NMR) 積算 5 時間超過 5,000 5 時間毎 (4,500) CHN 1 件 12,000 元素分析 Ash 同時分析 1 件 4,000 S 1 件 12,000 *:() 内の料金は, 依頼者が測定を行いますが, プローブ変更などのオペレータを必要とする測定の場合に適用します装置使用料測定料 - 2 -

2. ご利用の流れ当センターの測定装置は, ライセンス制とオペレータ制を導入しています 2.. 1.

ライセンス登録発行申請者には, 登録願の写しをお送りし, 登録完了とします 2.

ご利用料金ご利用料金には, 以下の使用者区分により, 料金に対する料率を適用します装置使用測定依頼が終了後, 材料創造研究センターが指定する期日までに, 理工学部会計課にお支払いください使用者区分料率 1. 日本大学理工学部及び短期大学部 ( 船橋校舎 ) に所属する者 10 % 2.

5 2. ご利用の流れ当センターの測定装置は, ライセンス制とオペレータ制を導入していますライセンス制導入装置のライセンス取得ライセンス取得継続の場合新規の場合装置利用講習は, 装置担当者又は装置担当者が認定した者から装置利用講習受講してください装置利用登録願の記入提出指定用紙に必要事項を記入し, センターへご提出ください装置担当者が承認後, センターに登録しますライセンス登録発行申請者には, 登録願の写しをお送りし, 登録完了とします測定ライセンス制導入装置オペレータ制導入装置測定予約測定申込書サンプルの提出担当オペレータが確認します測定オペレータが測定 NMR は, 依頼者測定の場合もあります装置使用報告書提出測定結果の報告, サンプルの返却測定申込書に受領確認サインをお願いします 3. ご利用料金ご利用料金には, 以下の使用者区分により, 料金に対する料率を適用します装置使用測定依頼が終了後, 材料創造研究センターが指定する期日までに, 理工学部会計課にお支払いください使用者区分料率 1. 日本大学理工学部及び短期大学部 ( 船橋校舎 ) に所属する者 10 % 2. 日本大学理工学部及び短期大学部 ( 船橋校舎 ) と他学部の共同 10 % 3. 日本大学他学部に所属する者 50 % 4. 上記以外の者 100 % 4. 技術相談お問い合わせ先日本大学理工学部理工学研究所材料創造研究センター ccmruser@chem.cst.nihon-u.ac.jp 電話番号 : ,0870 センター装置を利用した結果を報告する際は, 実験項または謝辞への記載をお願いします例 :xxxx was performed in the Center for Creative Materials Research, CST, Nihon University

5. 材料創造研究センターの所有装置 5-1 マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析計 Matrix-assisted assisted laser desorption/ionization time-of of-flight/time

マトリックス支援レーザー脱離イオン化法 2 台の飛行時間型質量分析装置合成高分子から生体由来試料まで多岐にわたる試料の質量数を高感度高精度に測定測定 : ライセンス制 5-2 高速液体クロマトグラフ質量分析計 Liquid Chromatography-Mass

の試料量があれば分子量, 構造情報が得られる. 溶媒に溶けない化合物の測定は出来ない.

6 5. 材料創造研究センターの所有装置 5-1 マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析計 Matrix-assisted assisted laser desorption/ionization time-of of-flight/time flight/time-of of-flight flight mass Spectrometer ter 日本電子社製 JMS-S3000 測定分子量 Linear mode: ~500,000 Da Reflector mode: ~30,000 Da マトリックス支援レーザー脱離イオン化法 2 台の飛行時間型質量分析装置合成高分子から生体由来試料まで多岐にわたる試料の質量数を高感度高精度に測定測定 : ライセンス制 5-2 高速液体クロマトグラフ質量分析計 Liquid Chromatography-Mass Spectrometer ter アジレントテクノロジーズ社製 LC/MSD TOF 1100 システム測定質量範囲:m/z 50 ~ 12,000 分解能:13,000 以上ナノモル(10-9 mol) からピコモル (10-12 mol) の試料量があれば分子量, 構造情報が得られる. 溶媒に溶けない化合物の測定は出来ない. 測定 : ライセンス制 5-3 ガスクロマトグラフ質量分析装置 Gas Chromatography Mass Spectrometer ter 島津製作所社製 GCMS-QP2010 測定質量範囲:m/z 1.5 ~ 1,090 オーブン温度: 最高 450 試料気化室温度: 最高 450 GLC インターフェース加熱温度 : 最高 350 イオン源:EI イオン化電圧:10~200V 加熱温度: 独立温調 100~300 分析ロッド: プリロッド四重極測定 : ライセンス制 - 4 -

5-4 フーリエ変換 - 核磁気共鳴装置 Fourier-Transform Nuclear Magnetic Resonance 日本電子社製 ECX-400 測定核種: 1 H, 19 F, 31 P~ 15 N 温度可変範囲:-100 ~

01 ステップ位相シフト時間:400ns 位相切り替え時間:100ns 測定 : ライセンス制, 受託測定可 5-5 電子スピン共鳴装置 Electron Spin Resonance 日本電子社製 JES-RE2X 基準周波数:8.

1µW ~ 200mW 可変キャビティーモード:TE 011 円筒形検波方式: ホモダインクリスタル検波測定 : ライセンス制 5-6 電界放出形走査型電子顕微鏡 Field Emission sion Electron

7 5-4 フーリエ変換 - 核磁気共鳴装置 Fourier-Transform Nuclear Magnetic Resonance 日本電子社製 ECX-400 測定核種: 1 H, 19 F, 31 P~ 15 N 温度可変範囲:-100 ~ +180 周波数範囲:10 ~ 950MHz,0.01Hz ステップ周波数シフト時間:500ns 周波数切り替え時間:100ns 位相精度:0 ~ 360,0.01 ステップ位相シフト時間:400ns 位相切り替え時間:100ns 測定 : ライセンス制, 受託測定可 5-5 電子スピン共鳴装置 Electron Spin Resonance 日本電子社製 JES-RE2X 基準周波数:8.8 ~ 9.6GHz 感度: / T(100kHz 磁場変調 ) 分解能:47mG(100kHz 変調時 ) 周波数安定度: マイクロ波出力:0.1µW ~ 200mW 可変キャビティーモード:TE 011 円筒形検波方式: ホモダインクリスタル検波測定 : ライセンス制 5-6 電界放出形走査型電子顕微鏡 Field Emission sion Electron Gun-Scanning Electron Microscope 日立ハイテクノロジーズ社製 S-4500 電子銃: 冷陰極電界放出形電子銃倍率高倍率モード : 50 ~ 500,000 低倍率モード : 20 ~ 1,500 分解能 1.5nm( 加速電圧 15kV WD=4mm) 4.0nm( 加速電圧 1kV WD=3mm) 加速電圧:0.5~30kV(100V ステップ ) 測定 : ライセンス制 - 5 -

5-7 エネルギー分散型 X 線分析装置付 - 走査型電子顕微鏡 Energy Dispersive X-rayX spectrometry / Scanning Electron Microscope 日立ハイテクノロジーズ社製

セイコーインスツル社製 SPI3800N-SPA400 測定モード STM( 走査型トンネル顕微鏡 ) AFM( コンタクトAFM モード ) DFM( ダイナミックフォースモード ) 最小観察エリア 2nm 2nm(5,000 万倍

8 5-7 エネルギー分散型 X 線分析装置付 - 走査型電子顕微鏡 Energy Dispersive X-rayX spectrometry / Scanning Electron Microscope 日立ハイテクノロジーズ社製 S-3000N 倍率 15 ~ 300,000(65 段 ) 通常モード 5 ~ 300,000(75 段 )Low Mag モード分解能二次電子分解能 3.0nm( 高真空モード ) 反射電子分解能 4.0nm( 低真空モード ) 加速電圧:0.3 ~ 30kV(1171 段 ) 照射電流:10-12 ~ 10-7 A X 線分析範囲 :C 6 ~ U 92 測定 : ライセンス制 5-8 走査型プローブ顕微鏡 Scanning Probe Microscope セイコーインスツル社製 SPI3800N-SPA400 測定モード STM( 走査型トンネル顕微鏡 ) AFM( コンタクトAFM モード ) DFM( ダイナミックフォースモード ) 最小観察エリア 2nm 2nm(5,000 万倍 ) 表面の形状や性質を原子分子レベルの分解能で観察が可能測定 : ライセンス制 5-9 顕微ラマン測定装置 Raman Scanning Microscope レニショー社製 System-1000 分光器スペクトル分解能 :1 cm -1 スペクトル領域 :100 4,000 cm -1 空間分解能 :1 µm 深さ方向 :~ 2 µm 光源アルゴンレーザー [GLG3103] 発振波長 :514.5 nm 発振出力 : 40 mw 測定 : ライセンス制

5-10 動的光散乱測定装置 Dynamic Light Scattering Spectrometer 大塚電子社製 DLS-7000 光源:He-Ne レーザー 10mW ゴニオメータ:5 ~

4 10-3 ~ 3µm -1 並進拡散係数 :2 10-6 ~ 2 10-9 cm sec 静的光散乱法重量平均分子量 :3 10 2 ~ 2 10 7 Mw 慣性自乗半径 :20 ~ 1000 nm

9 5-10 動的光散乱測定装置 Dynamic Light Scattering Spectrometer 大塚電子社製 DLS-7000 光源:He-Ne レーザー 10mW ゴニオメータ:5 ~ 160, 精度 ±1 使用温度範囲:5 ~ 160 動的光散乱法粒径測定範囲 : ~ 3µm -1 並進拡散係数 : ~ cm sec 静的光散乱法重量平均分子量 : ~ Mw 慣性自乗半径 :20 ~ 1000 nm 測定 : ライセンス制 5-11 X 線小角散乱装置 Small-angle angle X-ray X Scattering アントンパール社製 SAXSess 測定試料: 液体, 紛体, 固体 ( 主にフィルム ) 測定領域:0.108 ~ 40.0 小角分解能:0.077 nm -1 温度制御範囲 -30 ~ 120,± 1 (15 ~ 25 ) 高分子材料の結晶性, 配向性評価ナノ粒子径や空孔径の解析測定 : ライセンス制 5-12 X 線広角回折装置 Wide-angle X-ray X Diffraction パナリティカル社製 X Pert PRO MPD 測定試料: 液体, 紛体, フィルム測定領域:3 ~ 160 結晶相の定性および格子定数, 結晶子サイズ, 残留応力などの測定測定 : ライセンス制 - 7 -

5-13 示差走査熱量測定装置 Differential Scanning Calorimeter セイコーインスツル社製 DSC-6100 温度範囲:-150 ~ 500 DSC 範囲 :±40

01 ~ 20 /min 測定雰囲気:N( その他雰囲気は要相談 ) 融点, ガラス転移点, 結晶化, キューリー点などの測定測定 : ライセンス制 5-14 熱機械分析装置

10 5-13 示差走査熱量測定装置 Differential Scanning Calorimeter セイコーインスツル社製 DSC-6100 温度範囲:-150 ~ 500 DSC 範囲 :±40 mw DSC 感度 :0.2µW プログラム速度:0.01 ~ 20 /min 測定雰囲気:N( その他雰囲気は要相談 ) 融点, ガラス転移点, 結晶化, キューリー点などの測定測定 : ライセンス制 5-14 熱機械分析装置 Thermomechanical Analyzer セイコーインスツル社製 TMA/SS-6000 温度範囲:-150 ~ 600 TMA 範囲 :±5 mm TMA 感度 :0.02µW プログラム速度:0.01 ~ 100 /min 最大試料形状:10φ 25 mm, mm 線膨張率, ガラス転移点, 軟化点などの測定測定 : ライセンス制 5-15 元素分析装置 Elemental Analyzer ジェイサイエンスラボ社製 JM10,JMSU10 測定元素:C,H,N,S 測定精度 0.3% 以内 (CHN 分析 ) 0.5% 以内 (S 分析 ) 標準温度設定燃焼炉 ;950 ( 最高 1200 ) 酸化炉 ;850 ( 最高 1200 ) 還元炉 ;550 ( 最高 999 ) 測定 : 受託測定 : オペレータ制 - 8 -

11 - 9 -

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13 平成 30 年 4 月作成

14 材料創造研究センター運営委員会問合せ住所 : 東京都千代田区神田駿河台号館電話 : , ccmruser@chem.cst.nihon-u.ac.jp H P :

2

1 = 2 3 r \ 1.1.1 Titrator 1.1 4 1.1.2 Polarograph 5 1.1.3.1 Electrolytic analyzer 1.1.3.2 Coulometric analyzer 6 1.1.4.1 ph ORP ph meter and ORP meter 7 ph ORP 1.1.4.2 Electrode type oxgen meter 8 DO

平成 30 年 4 月版 材料創造研究センター 利用案内 簡易版 ( 詳細版もあります )

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