溶剤保持量 / 推奨フィルター Chemical compound name 溶剤名 CAS Number 分子式分子量 (u) 沸点 ( ) TLV-TWA 暴露限界 (ppm) TLV-STEL 短時間暴露限界 (ppm) 推奨フィルター保持量 (TLV 50% 時 ) (Oxirane,

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ありおきかつもと
4 years ago
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1 短時間 (Oxirane, 2- (C alkyloxy)methyl derivs) Alkyl(C12-14)glycidyl ether オキシレンモノ ( アルキルオキシ ) メチル誘導体又は脂肪族グリシジルエーテル A 1,1-DICHLOROETHANE 1,1 ジクロロエタン C2H4CL A 1 1,2-CHLOROTOLUENE 1,2 クロロトルエン C7H7CL A 4 1,2-DICHLOROBENZENE 1,2 ジクロロベンゼン C6H4CL A 4 1,2-DICHLOROETHANE** 1,2 ジクロロエタン C2H4CL A 3 1,2-DICHLOROETHYLENE 1,2 ジクロロエチレン C2H2CL A 2 1,4-DIOXANE 1,4 ジオキサン C4H8O A TRICHLORO ETHANE 1,1,1 トリクロロエタン C2H3CL A 4 2 BUTOXY ETHANOL 2 ブトキシエタノール C6H14O A 4 2-PENTANONE 2- ペンタノン C5H10O A 3 ACETIC ACID 酢酸 C2H4O A 2 ACETONE アセトン C3H6O A 1 ACETONITRILE アセトニトリル C2H3N A 1 Acrylonitrile アクリロニトリル C3H3N 77 2 AD Aliphatic polyamines しかん族ポリアミン KD AMMONIA 30% アンモニア NH K 2 AMMONIUM SULFIDE (SOL %) 硫化アンモニウム N2H8S KD 2 Aqua regia 王水 HNO3+3 HCl BED Benzonitrile ベンゾニトリル C7H5N K bisphenol-epichlorohydrin epoxy resin Boron Trifluoride Diethyl Ether Complex ビスフェノール -A エピクロルヒドリン樹脂三ふっ化ほう素ジエチルエーテル錯体 A C2H BE Bromine 臭素 Br BE BROMOCHLOROMETHANE ブロモクロロメタン CH2BRCL A 2 BUTYL ACETATE ブチルアセテート C6H12O A 4 Caesium セシウム AD CARBON TETRACHLORIDE 四塩化炭素 CCL A 3 CHLORINE 塩素ガス CL BE CHLOROBENZENE クロロベンゼン C6H5CL A 4 Chloroform クロロホルム CHCl A Cresol クレゾール C7H8O A Cycloaliphatic polyamines しかん式ポリアミン KD CYCLOHEXANE シクロヘキサン C6H A 3 CYCLOHEXANONE シクロヘキサノン C6H10O A 3 短時間

2 短時間 CYCLOHEXENE シクロヘキセン C6H A 3 CYCLOHEXYLAMINE シクロヘキシルアミン C6H13N A 2 CYCLOPENTANE シクロペンタン C5H A 2 DIACETONE ALCOHOL ジアセトンアルコール C6H12O A 3 DICHLOROETHYL ETHER ジクロロエチルエーテル C4H8CL2O A 2 DIETHYL ETHER ジエチルエーテル C4H10O A 1 DIETHYL KETONE ジエチルケトン C5H10O A 3 DIETHYLAMINE ジエチルアミン C4H11N A 1 DIISOBUTYL KETONE ジイソブチルケトン C9H18O A 4 DIISOPROPYL ETHER ジイソプロピルエーテル C6H14O A 3 DIISOPROPYLAMINE ジイソプロピルアミン C6H15N A 1 Dimethylacetamide ジメチルアセトアミド C4H9NO AD ether エチルエーテル C4H10O A ETHYL ACETATE 酢酸エチル C4H8O A 3 ETHYL ALCOHOL エチルアルコール C2H6O A 1 ETHYL BENZENE エチルベンゼン C8H A 4 ETHYL FORMATE エチルホーメイト C3H6O A 2 ETHYLAMIL KETONE エチルアミルケトン C8H16O A 3 Ethylamine エチルアミン C2H5NH2 : ABEKD ETHYLENE GLYCOL エチレングリコール C2H6O A 3 Ethylphenol エチルフェノール C8H10O A FORMIC ACID 98% ギ酸 H2CO AD 3 Gasoline ガソリン A Glutaraldehyde グルタルアルデヒド C5H8O ~ A HYDROCHLORIC ACID 37% 塩酸 HCL (TLV-C) BED 3 Hydrofluoric acid フッ化水素 ( フッ酸 ) : BED Hydrogen 水素 H BE HYDROGEN CHLORIDE 塩化水素 HCN (TLV-C) BED 2 HYDROGEN FLUORIDE 48% フッ化水素 HF (TLV-C) BED 2 Hydrogen peroxide 過酸化水素 H2O BE HYDROGEN SULFIDE 硫化水素 H2S BE 1 ISOAMYL ACETATE イソアミルアセテート C7H14O A 4 ISOAMYL ALCOHOL イリアミルアルコール C5H12O A 3 ISOBUTYL ACETATE 酢酸イソブチル C6H12O A 4 短時間

3 短時間 isobutyl alcohol イソブチルアルコール C4H10O 108 A Isoflurane イソフルラン C3H20ClF AD Isooctane イソオクタン C8H A ISOPENTANE イソペンタン C5H A 2 ISOPROPYL ACETATE 酢酸イソプロピル C5H10O A 3 ISOPROPYL ALCOHOL イソプロピルアルコール C3H8O A 2 Kerosene ケロシン ~300 AD Lead powder 鉛粉 AD METHACRYLIC ACID メタクリル酸 C4H6O A 3 METHYL ACETATE 酢酸メチル C3H6O A 2 METHYL ALCOHOL メチルアルコール CH4O A 1 Methyl ethyl ketone メチルエチルケトン C4H8O A Methyl ethyl ketone peroxide メチルエチルケトンペルオキシド C8H16O 未満 0.2 A METHYL IODIDE ヨウ化メチル CH3I BED METHYL ISOPROPYL KETONE メチルイソプロピルケトン C5H10O A 3 METHYL METHACRYLATE メチルメタクリル酸 C5H8O A 3 Methylamine メチルアミン CH5N ABEKD METHYLCYCLOHEXANE メチルシクロヘキサン C7H A 3 Modified aliphatic polyamines 変性脂肪族ポリアミン KD Modified aromatic polyamine 変性芳香族ポリアミン KD Modified cycloaliphatic polyamines 変性脂環式ポリアミン KD Modified polyamide amine 変性ポリアミドアミン KD N BUTYL ALCOHOL N ブチルアルコール C4H10O A 3 N Butyl amine エヌ - ブチルアミン ABEKD N propylamine エヌ - プロピルアミン ABEKD N,N-DIMETHYLFORMAMIDE ジメチルホルムアミド C3H7NO A N-AMYL ACETATE N- アミルアセテート C7H14O A 4 N-BUTYLAMINE N- ブチルアミン C4H11N (TLV-C) A 1 N-HEPTANE N- ヘプタン C7H A 3 N-HEXANE N- ヘキサン C6H A 3 NITRIC ACID 69% 硝酸 HNO BED 2 NITROETHANE ニトロエタン C2H5NO BE 2 NITROMETHANE ニトロメタン CH3NO BE 2 Nitrous oxide 亜酸化窒素 ( 笑気ガス ) N2O AD 短時間

4 短時間 NN dimethylethylamine エヌエヌ - ジメチルエチル ABEKD N-NONANE N- ノナン C9H A 4 N-OCTANE N- オクタン C8H A 4 N-PENTANE N- ペンタン C5H A 3 N-PROPYL ACETATE N- プロピルアセテート C5H10O A 3 Oxydol オキシドール H2O BE Petroleum ether 石油エーテル A+A A フィルターを 2 枚必要です HEPA が必要の場合は G タイプになります ( 例 :CR870 の場合 A2 枚 / 例 :G-3 の場合 A4 枚 +HEPA2 枚 ) Phenol フェノール A PHENOL COLD フェノール C6H6O AD 1 Phosphomolybdic リンモリブデン酸 BED Phosphoric acid リン酸 H3O4P ) 以下 1 3 BED Polyamide amine ポリアミドアミン KD Polythiol ポリチオール KD PYRIDINE ピリジン C5H5N A SEC BUTYL ALCOHOL SEC- ブチルアルコール C4H10O A 2 SEC-AMYL ACETATE SEC- アミルアセテート C7H14O A 4 SEC-BUTYL ACETATE SEC- ブチルアセテート C6H12O A 3 SEC-HEXYL ACETATE SEC- ヘキシルアセテート C8H16O A 4 Soldering はんだ AD STYRENE (MONOMER) スチレンモノマー C8H A 4 Sulfur Dioxide 二酸化硫黄 SO BE+HEPA (BED) SULFURIC ACID 90-98% 硫酸 H2SO MG/M3 3 MG/M3 BED 3 TERT-BUTYL ACETATE TERT- ブチルアセテート C6H12O A 4 TERT-BUTYL ALCOHOL TERT- ブチルアルコール C4H10O A 2 Tertialy amine トリエチルアミン ( 三級アミン ) C6H15N : KD TETRAHYDROFURAN テトラヒドロフラン C4H8O A 2 TOLUENE トルエン C7H A 4 Trichlorethylene トリクロロエチレン C2HCl A TRIETHYLAMINE トリエチルアミン C6H15N A 1 Triethylenetetramine トリエチレンテトラミン K trifluoroacetic acid トリフルオロ酢酸 C2HF3O AD TRIMETHYL BENZENE トリメチルベンゼン C9H A 3 Trimethylamine トリメチルアミン C3H9N ABEKD 短時間

5 短時間 Trimethylphosphine, PMe3 トリメチルフォスフィン P(CH3) AD Xylen キシレン C8H A XYLENE (ALL ISOMERS) キシレン C8H A 4 Xylenol キシレノール C8H10O A 短時間 TLV TWA( 時間荷重平均 ) 時間荷重平均として示されたを意味しほとんどすべての労働者が毎日繰り返し暴露しても悪影響を受けることがない通常 1 日 8 時間労働または週 40 時間労働に対しての時間荷重平均濃度である TLV STEL( 短時間 ) 1 日のどの 15 分間の時間加重平均もこの値を超えてはならないまたを超えない場合でも TLV TWA から STEL までの間の高濃度暴露が 1 日 4 回を超えないこと及びその高濃度暴露と次の高濃度暴露との間には少なくとも 60 分の間隔が必要であるとしている g Excellent g Good g Moderate 4 く 250 g Low f

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PowerPoint プレゼンテーション溶媒工業溶媒 Column : Equity-, 0 m x 0. mm ID,.0 µm Cat. No. : 0- Column : SPELCOWAX 0, 0 m x 0. mm ID,.0 µm Cat. No. : Column : Equity-0, 0 m x 0. mm ID,.0 µm Cat. No. : - Oven : ( min), /min to 0 ( min) Inj.:

溶剤保持量 / 推奨フィルター Chemical compound name 溶剤名 CAS Number 分子式 分子量 (u) 沸点 ( ) TLV-TWA 暴露限界 (ppm) TLV-STEL 短時間暴露限界 (ppm) 推奨フィルター 保持量 (TLV 50% 時 ) (Oxirane,

溶剤保持量 / 推奨フィルター Chemical compound name 溶剤名 CAS Number 分子式分子量 (u) 沸点 ( ) TLV-TWA 暴露限界 (ppm) TLV-STEL 短時間暴露限界 (ppm) 推奨フィルター保持量 (TLV 50% 時 ) (Oxirane,