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1 ナノポーラスシリカ被覆酸化 チタン微粒子の合成と光触媒活性 Study on Synthesis and Photocatalytic Activity of Titanium Dioxide Particles Coated with Nanoporous Silica AT 研究所 第研究部 早稲田大学大学院 創造理工学研究科 宮川堅次 小川 Kenji Miyagawa Makoto Ogawa 誠 Summary Titanium dioxide particles coated with nanoporous silica were successfully prepared through the reaction of photocatalyst titania particles with aqueous mixture of Tetraethoxysilane(TEOS) and a surfactant and subsequent calcination. The structure of the products was identified by electron microscope observation, infrared spectra, and nitrogen adsorption/desorption isotherms. The thickness of the nanoporous silica layer was controlled by changing composition of the reaction mixture. The silica coating on the titania nanoparticles effectively suppressed the photocatalytic activity to decompose Methylene lue. The thickness of the silica shell affected the degree of modification of the catalytic ability. It was also found that formaldehyde at relatively low concentration was effectively removed with the coated titania particles. 要 旨 テトラエトキシシランと界面活性剤からなる水溶液と光触媒酸化チタンを反応させ これを焼成することによ り 光触媒の表面にナノポーラスシリカが析出した材料を合成することができ得られた 微粒子の特性は 電子顕微鏡観察 赤外分光法 および窒素ガス吸脱着法により解析し ナノポーラスシリカ 層の厚みは配合により制御でき得られたナノポーラスシリカ層で被覆されたの光触媒活 性をメチレンブルーで評価した結果 シリカシェル層の厚みを増すことで光触媒活性を抑制できることがわかっ 低濃度のホルムアルデヒドガスを効果的に分解除去できることも確認し. 緒 しかし 平面材料表面へのナノポーラスシリカ層の形成に関 言 する研究は多いが 粒子表面への形成に関する研究は限ら ナノポーラスシリカとは 従来の一般的な多孔質シリカと れている ナノポーラスシリカ層を機能性微粒子の表面 異なり 均一でnm前後の孔径からなる無数の細孔を持ち に形成することは 表面改質および触媒や吸着材料表面へ 大きな比表面積を有することを特徴とする多孔質シリカで の分子ふるいなど 新しい機能を付加する有用な方法と考え あり 脱臭用吸着剤 触媒担体 カラムの充填剤および徐放 られ一方 酸化チタンで代表される光触媒活性微粒子 性薬剤担体等の医薬品など 幅広い分野での応用が期待さ は防汚 防曇 抗菌 空気浄化および水浄化など多方面の用 れている このナノポーラスシリカは図1に示すように界面活 性剤がミセルを形成した溶液中にシリカ源を入れミセルを シリカ源 鋳型としてシリカを析出させ 引き続き焼成して界面活性剤 焼成 を取り除くことにより合成でき溶媒蒸発法によるナノ構 3 造を有するナノポーラスシリカ膜の創製以来 ナノポーラ 界面活性剤ミセル ナノポーラスシリカ 7 スシリカ膜の合成に関しては広く研究が行われてきた トケン1.14.indd 22 No.152 Oct. 21 図 ナノポーラスシリカの合成プロセス 22 1/11/22 14:32

2 ナノポーラスシリカ被覆の合成と光触媒活性 3 途で注目を集め 活発な製品開発が行われている 光触 赤外吸収スペクトル分析 媒微粒子を含む塗膜は 空気中の悪臭や有毒VOC 揮発性 および合成した試料の平均組成は赤外分光光度計 有機化合物 の分解による空気浄化 塗膜表面の汚染物質 島津製作所製 FT- 82 : FTIR を 用いKr 錠剤法で 測定 の分解による表面汚染防止 さらには抗菌や防黴など 屋内 し 外における環境浄化に非常に有用で需要が広がってい 比表面積および細孔径測定 しかし 有機バインダーを用いた一般の塗膜では光触媒微 および合成した微粒子の比表面積は日本ベル株式会 粒子周辺の樹脂が分解するため 製品化への大きな課題と なってい 社製 elsorp 28SAを用い 絶対温度77Kにて定容式窒素ガ をナノポーラスシリカ層で被覆したコア ス吸着法 ET法 により測定 前処理 真空下 で シェル型の光触媒材料が創製できれば ホルムアルデヒド 3時間乾燥 し細孔径は JH法 またはMP法 にて解 等の有毒VOCを効率よく吸収 分解し かつ有機バインダー 析することにより求め なお JH法は細孔径が へのダメージを抑制することができると期待され今回 nm MP法は細孔径が 7 nmの範囲で適用され ナノポーラスシリカ層で被覆した光触媒酸化チタン微粒 子の合成を試み 得られた微粒子の特性について告す 2.3 光触媒活性の評価 色素の退色挙動 色素としてメチレンブルーを用いメチレンブルー mgを水で希釈し.l 水溶液とし 暗所でナノポーラスシリ 実 カ被覆をP- の量で mgに相当する量 験 を加え ナノポーラスシリカ被覆は 分 2.1 ナノポーラスシリカ被覆の合成 以内にメチレンブルーを吸着飽和した状態となっ この水 界面活性剤A又は界面活性剤 界面活性剤Aより低分 溶液に低圧水銀灯 W を用いて紫外線照射し 経時にお 子量 水 メタノール アンモニア水および ける溶液中のメチレンブルーの残存濃度を吸光度で定量し Degussa社製 商品名 を混合し激しく撹拌し 次 吸光度は分光光度計 島津製作所製 UV- 31PC を用 に テトラエトキシシラン TEOS を加え室温で 時間静置 いて波長 nmで測定し P- および光触媒なし し その混合溶液を遠心分離 3 rpm 3分 して微粒 でのブランクテストも同様に行い比較し 子を分別し メタノールで洗浄し 得られた微粒子を大 気下3 以上の高温で 時間焼成してナノポーラスシリ ホルムアルデヒドの除去性 カ層で被覆されたを合成しナノ 試験方法を図に示す NPS/TiO2 - A g P- 約 ポーラスシリカ層の 被覆厚を制御するため Si/Tiモル比を. g含有 を直径 cmガラスシャーレに広げ l 容量の 変動させ表に合成した結果を示す その際 界面活性 テドラーバッグに入れてヒートシールし室温かつ暗所に 剤/ Siモル比が.となるように界面活性剤とTEOSの量を調 おいて テドラーバッグ内にppmのホルムアルデヒドガス3 整し焼成により得られた試料を本ではNPS/TiO2 -A lを導入し一晩放置して飽和吸着させ次いで 再度テド NPS/TiO2 - NPS/TiO2 - CおよびNPS/TiO2 -Dと称し ラーバッグ中の ホルムアルデヒドガス濃度を ppmに 調製 表 配 合 試料名 ET比面積 (m2/g) 細孔径 (nm) シリカ層の厚み (nm) a 7 8 界面活性剤 Si/Ti 種 モル比 NPS/TiO2-A A b NPS/TiO2-C b b 2 a ブラックライト 露光強度1mW/cm2 合成したナノポーラスシリカ被覆の配合と特数値 JH法より算出 b Mp法より算出 2.2 ナノポーラスシリカ被覆のキャラ 5l テドラーバッグ 栓 サンプル 粉体 シャーレ 図 光触媒によるホルムアルデヒドの分解試験 テドラーバッグ法 後 ブラックライトの3 nmでの露光強度が mw/cm 2とな クタリゼーション るよう照射し ホルムアルデヒド濃度の時間変化を株式会社 粒子形状 ジェイエムエス製ホルムアルデメータhtVを用いて測定し および合成した試料の形状観察は P-. gおよび光触媒なしでのブランクテストも同 走査型電子顕微鏡 日立製作製 S - 48 :SEM および透過 様に行い比較しホルムアルデヒドガスはホルムアルデヒ 型電子顕微鏡 JEOL製JEM-1CX : TEM にて行っ ド 和光純薬製特級試薬 と圧縮空気を用いて調製し 23 トケン1.14.indd 23 No.152 Oct. 21 1/11/22 14:32

3 ナノポーラスシリカ被覆の合成と光触媒活性 帯{ν(Ti- O)は -7 cm 1}も観察され合成において 3 結果および考察 界面活性剤とシリカの濃度が高い試料ほど酸化チタンに対 3.1 粒子形状 するそれらの相対吸収強度が高くなっ ν(si- O -Ti) 図3は 原料の P- と合成した 微粒子 このことは酸化 に由来する吸収帯が9 cm 1に観察され NPS/TiO2 -AのSEM画像であこの画像よりNPS/TiO2 -A チタン表面にSi-O-Ti結合が形成されたことを示唆している はと 比較して 粒子径が 大きく 表面 なお 焼成により界面活性剤の吸収帯は消失し にシリカ層が 形成されていると考えられ図はP- Si-O伸縮振動 NPS/TiO2 -お よびNPS/TiO2 -DのTEM画像で あ NPS/ TiO2 -およびNPS/TiO2 -Dではの周りに多 -CH2-CH2-変角振動 C-N伸縮振動 未焼成 孔質層が存在し ナノポーラスシリカ層で被覆されているもの Si-O-Ti伸縮振動 Si-O 変角振動 と考えられTEM画像より得られたナノポーラスシリカ被 透過率 覆のシェルであるシリカ層の厚さはNPS/ TiO 2 -Aが 7nm NPS/TiO 2 -が nm NPS/TiO 2 - Cが1 nm NPS/TiO2 -Dが nmと見積もることができた 表 我々 未焼成 の知見では このようなシェル厚の制御に関する告は初め てであ特記すべきことは を含まない CH3/CH2 伸縮振動 溶液で同様に反応させた場合 シリカと界面活性剤からなる Ti-O 伸縮振動 7 球状微粒子が生成する のに対し が 存 4 在する本系においてはそのような球状の微粒子が生成しな 図 いことであ この結果は 界面活性剤が酸化チタン表面に 吸着しかつ優先的にこの表面に吸着した 波数 cm と未焼成のナノポーラ スシリカ被覆 NPS/TiO 2 - の赤外吸収スペクトル 界面活性剤がシリカと共に組織化することで シリカと界面 活性剤からなるシェルが形成されたことを示唆してい 3.3 比表面積および細孔分布 図に は P- 単体およびNPS/TiO2 - NPS/TiO2 - C NPS/TiO2 -D の窒素ガス吸脱着等温線を示す この吸脱着 等温線より NPS/TiO2 - NPS/TiO2 - C NPS/TiO2 -Dそれ ぞれのET比表面積を 3 および m 2 /gと求め 2nm 2nm 図3 これらのET比表面積の値から算出されるシリカ層g当た NPS/TiO2-A りの表面積はどれも約 m 2に相当す従って ET比 ()とナノポーラスシリカ 被覆(NPS/TiO2-A)のSEM画像 表面積はシリカ層の均質性を反映し 細孔径の変化なく m 2/gから m 2/gへと順番に増加していると考えられ な お 細孔径はMP法により.nmと求めNPS/TiO2 -Aにつ 細孔径はJH法により. いてはET比表面積は m 2/g nmと求めnps/tio2 -Aは界面活性剤 より分子量が大 きい界面活性剤 Aを用いて合成したので 界面活性剤 を用 いて合成した他の試料より細孔径が大きくなったと推察す 2nm 2nm 図 以上のキャラクタリゼーションから ナノポーラスシリカ層 2nm で被覆されたが合成できたことを確認し とナノポーラスシリカ被覆酸化 のTEM画像 チタン微粒子 3.4 光触媒活性の評価 3.2 化学構造 メチレンブルーの退色挙動 未焼成のNPS/TiO2 - およびNPS/TiO2 -Dの赤外吸収スペ メチレンブルーの分子の大きさは7. 7 3 3nmと クトルを図に示す ナノポーラスシリカ層において 界面活 見積もられており これはナノポーラス層への吸着が可能 9 7 cm 1 性剤に帰属される吸収帯{ν(CH3 / CH 2) : なサイズであメチレンブルーの水溶液にP- ナノポー 9 ν(c-n) : cm δ(- CH 2 - CH 2 -) cm }および シリ ラスシリカ被覆酸化チタンNPS/TiO2 -およびNPS/TiO2 -Dを カに帰属される吸収帯{ν(Si- O): cm 1 δ(si- O): おのおの添加したところ メチレンブルーが吸着され 分 酸化チタンに帰属される吸収 cm 1}が観測され 以内で吸着平衡に達しP- NPS/TiO2 -およびNPS/ 1 トケン1.14.indd 24 No.152 Oct /11/22 14:32

4 ナノポーラスシリカ被覆の合成と光触媒活性 ホルムアルデヒドの除去性 2 近年 住宅に使用される建材などから放散するホルムアル デヒド等の化学物質により 目 鼻 のど等への刺激や頭痛 等の多様な症状が生じる いわゆる シックハウス症候群 が 15 問題となっていこのホルムアルデヒドは空気中に微量に 存在しても健康上の被害をもたらす場合があるため 厚生労 働省は室内濃度指針値を ppm以下と定めてい本研 NPS/TiO2-C 1 究においては 図に示すようにP- およびNPS/TiO2 -Aを 用いてテドラーバッグ法によるホルムアルデヒドの分解試験 を行っ その結果 図に示すように初期はP- 単体に比 べNPS/TiO2 -Aのホルムアルデヒドの分解能は抑制されるも 5 のの 光照射1時間後の残存ホルムアルデヒド濃度はほぼ同 等レベルまで低減することを確認しその後の. ppm以下の低濃度においてもnps/tio2 -Aでは引き続きホル ムアルデヒド濃度が低減する傾向が認められ更なる詳 1. 細検討が必要であるが 低濃度におけるナノポーラスシリカ 窒素ガスの吸着平衡圧 窒素ガスの飽和蒸気圧 層での吸着作用の可能性もあり 興味深い結果であ とナノポーラスシリカ 被 覆 酸 化 チ タ ン 微 粒 子 N P S / T i O 2 - N P S / TiO2-C の窒素ガス吸脱着等温線 1.2 ホルムアルデヒド濃度 ppm 図 窒素ガス吸着量 cm 3 S.T.P. g 1 吸着 脱着 TiO2 -Dのメチレンブルー平衡吸着量はそれぞれ 3 3 3 mg/gであっ この違いはナノポーラスシリカ層の細孔 でのメチレンブルーの吸着量の違いに起因すると考えられ 図7に紫外線照射による溶液中のメチレンブルーの経時 での濃度変化を示し紫外線照射はメチレンブルーが吸 着平衡に達した後に開始しP- 光触媒と比較するとナ 光触媒無し NPS/TiO2-A.4.2. ノポーラスシリカ被覆酸化チタンではメチレンブルーの光分 ブラックライト照射時間 h 解性能が抑制されていることがわかっ ナノポーラス 図 シリカ層が厚くなるほど その光触媒活性が抑制されること が確認され およびナノポーラスシ リカ被覆 NPS/TiO2-A を触媒 とするホルムアルデヒドの光触媒分解 紫外線照射後のメチレンブルー濃度 紫外線照射前のメチレンブルー濃度 吸着平衡 光触媒無し 1. 結.8 論 テトラエトキシシランと界面活性剤からなる水溶液と光触 媒を反応させ これを焼成することにより.6 表面へナノポーラスシリカ層を析出させる ことに成功し このナノシリカポーラス層の厚みは配合によ.4 り制御でき光触媒活性を評価した結果 シリカシェル層.2 アルデヒドガスを効果的に分解除去できることも確かめられ の厚みが触媒活性に影響することを確認し ホルム 紫外線照射時間 min 図7 水分散液中での およびナノ ポーラスシリカ被覆 NPS/TiO 2 - を触媒とするメチレンブルーの光触媒分解 NPS/ TiO2-D 25 トケン1.14.indd 25 No.152 Oct. 21 1/11/22 14:32

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