微粒子合成化学・講義

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1 微粒子合成化学 講義 村松淳司 1

2 単分散微粒子 合成 応用 2

3 3 1m 10cm 1cm 1mm 100μm 10μm 1μm 100nm 10nm 1nm 1A 光学顕微鏡電子顕微鏡ソフトボール硬貨パチンコ玉小麦粉花粉タバコの煙ウィルスセロハン孔径 100μm 10μm 1μm 1nm 100nm 10nm 微粒子超微粒子クラスターナノ粒子サブミクロン粒子コロイド分散系粒子径による粒子の分類

4 ナノ粒子 10-9 m = 1 nm 10 億分の 1m の世界 原子が数 ~ 十数個集まった素材 バルクとは異なる物性が期待される バルク原子数と表面原子数に差がなく 結合不飽和な原子が多く存在する 4

5 表面構造と触媒機能 5

6 表面構造と触媒機能 6

7 比表面積の計算 A S 4 = 4πr 2, V = πr 3 3 比表面積 = A S = 3 Vd rd ( dは比重 ) 7

8 8

9 9

10 液相法ナノ粒子合成 10

11 ゲルーゾル法で合成した粒子 α-fe2o3 α-fe2o3 CdS 2μm 2μm 2μm 10μm Cu2O CdS 0.5μm α-fe2o3 α-fe2o3 1μm 0.5μm 11

12 単分散粒子とは サイズ 形態 構造 組成が均一な粒子群 おおむねサイズの標準偏差が 10% 以内のものをさす 単分散粒子は上記の性能が均一であるために それだけで機能性材料となる なぜならば 全体で平均化されるのではなく 粒子 1 個 1 個がもつ特性がそのまま反映されるから たとえば 酸化鉄 (α-fe 2 O 3 ) だと 単分散粒子ではないと べんがらと呼ばれる真っ赤な塗料だが サイズが 1μm 程度で 形態が長いと黄色っぽくなり 平板だと真っ赤になる 12

13 Stöber 法シリカ粒子 きれいな単分散粒子で 工業的にも多く利用されている 13

14 単分散粒子合成のための一般的 指針 1. 核生成と粒子成長の分離 2. 粒子間凝集の防止 3. モノマーの留保 (T. Sugimoto, Adv. Colloid Interface Sci. 28, 65 (1987).) 14

15 LaMer モデル 15

16 核生成と成長の分離 過飽和度の制御 希薄系あるいはリザーバーの存在 均一核生成に必要な過飽和度は通常不均一核生成に比べて大きい 核生成期間の制御 核生成期を成長期に比べて格段に短くするなど 16

17 凝集防止 希薄系 塩濃度を低くして電気二重層による静電的反発力で凝集防止 保護コロイド 粒子表面に吸着させて凝集を防止 粒子固定 ゲル網などに固定化してブラウン運動を抑制 17

18 モノマーの留保 リザーバーの存在 酸化物粒子 : 酸化物の O は水がリザーバー 故に金属イオンの方を制御する 金属 : 金属状態は溶解度が非常に低いので成長させるための工夫が必要 外部からの添加 ハロゲン化銀のようにダブルジェット法などを利用する 18

19 ゾルーゲル法 金属アルコキシドを出発物質とし 温和な条件で 加水分解反応を起こさせ ゾルを得る方法 ゾルを経由して ゲルまで行くことから ゾルーゲル法と呼ばれるが 単分散粒子を得るには ゾルでとめる Si(-O-C 2 H 5 ) 4 + 2H 2 O SiO 2 + 4C 2 H 5 OH 19

20 Stöber 法シリカ粒子 主要な合成条件 : TEOS=Tetraethylorthosilica te, Si(-O-C 2 H 5 ) 4 0.1~0.5 mol/l 溶媒 = エタノール NH 3 ( 触媒 )=1~10 mol/l H2O= 0.5~2.0 mol/l 温度 = 0~30 20

21 ゾルーゲル法粒子 TiO 2, ZrO 2 など 温度が低いため 調製直後は非晶質のものが多い そのため 高温処理する場合がある 非晶質の場合は球形となる SiO2: W. Stöber, A. Fink, and E. Bohn: J. Colloid Interface Sci. 26, (1968) 62. TiO2: E.A. Barringer and H.K. Bowen: J. Am. Ceram. Soc. 67 (1984) C-113. E. A. Barringer, N. Jubb, B. Fegley, Jr., R. L. Pober, and H. K. Bowen: in "Ultrastructure Processing of Ceramics, Glasses, and Composites," (L. L. Hench and D. R. Ulrich, Eds.), pp Wiley, New York, B. Fegley, Jr., E. A. Barringer, and H. K. Bowen: J. Am. Ceram. Soc. 67, (1984) C-113. ZrO2: K. Uchiyama, T. Ogihara, T. Ikemoto, N. Mizutani, and M. Kato: J. Mater. Sci. 22, (1987) T. Ogihara, N. Mizutani, and M. Kato: Ceram. Intern. 13, (1987) 35. PZT: T. Ogihara, H. Kaneko, N. Mizutani, and M. Kato: J. Mater. Sci. Lett. 7, (1988) 867. H. Hirashima, E. Onishi, and M. Nakagawa: J. Non- Cryst. Solids 121, (1990)

22 その他の単分散粒子合成 希薄系 Matijevic コロイドなどが有名 ポリスチレンラテックス 重合反応 エマルジョン 界面活性剤を使う使わないで違いがある その他 22

23 ゲルーゾル法単分散粒子合成 23

24 凝集防止機構 ヘマタイト (α-fe2o3) 粒子がゲル網に固定化される β-feooh( 中間生成物 ) のゲル網 ゲル網 モノマー 成長する粒子 例えば ヘマタイト (α-fe 2 O 3 ) 粒子合成では前駆固体として濃厚な非晶質水酸化鉄ゲルを用い 非晶質水酸化鉄 含水酸化鉄 ( アカガナイト ) ヘマタイトの2ステップの相転移を経て生成する この場合 中間生成物である含水酸化鉄がヘマタイト前駆体のリザーバーとなり かつ凝集抑制効果を担っている また ヘマタイトの形の制御は硫酸根 リン酸根などの吸着性イオンを共存させることにより達成される 24

25 ゲル - ゾル法 ( ゾルーゲル法ではない ) は 1 mol/l もの高濃度で単分散粒子が得られる全く新しい微粒子合成手法である これまで単分散粒子の一般的合成は 成長する粒子間で凝集が起こり サイズや形が不均一になることを防ぐため 1/100 mol/l 以下の極めて低い濃度でのみ可能であった ゲル - ゾル法は 今までの単分散微粒子合成研究では果たせなかった 高い収量でしかもサイズ 形の均一な粒子系を合成することを可能とした ゲルーゾル法のポイント : 1 粒子生成に必要な物質をリザーバー ( 固体あるいは金属キレート ) から徐々に放出させることにより 溶液の過飽和度を制御し 粒子成長中の新たな核生成を抑制したこと 核生成期と粒子成長期が分離され ごく初期に生成した核のみが成長し 単分散となる 2 粒子間凝集の防止機構をゲル網が担っていること 25

26 リザーバーの選択 粒子成長中に溶質を供給 溶解度または溶解速度の十分低い固体または錯体を選ぶ 26

27 凝集防止の工夫 ゲル網の利用 凝集防止剤の添加 ゼラチンなどの保護コロイドの添加 27

28 その 1 つの解決策 : 単分散ヘマタイト粒子調製 ゲル - ゾル法 100 Fe(OH)3 β-feooh 核生成 粒子成長 3 hours 6 days α-fe2o3 28

29 ゲルーゾル法による 単分散ヘマタイト粒子の合成 2μm 29

30 濃厚水酸化ニッケル懸濁液からの均一金属ニッケル粒子の合成 Ni(OH)2 懸濁液 With PEG 50,, 12 hours NaH2PO2 添加 生成物 0.1 M Ni(OH) M NaH 2 PO wt% PEG( 分子量 400,000) 30

31 ゲル -ゾル法によるスピンドル型均一チタニア粒子の合成 チタンイソプポキシド : 0.5 M トリエタノールアミン : 1.0 M ( 急激な加水分解の防止剤 ) 2M アンモニア水 高粘性のゲル状物質 スピンドル型均一チタニア粒子 31

32 単分散金属硫化物粒子 Reservoir of M 2+ Reservoir of S 2- Cd(OH)2 or Metal chelates M(NH3)n 2+ アンモニア錯体 M + S Gelatin TAA チオアセトアミド 単分散硫化物粒子 M=Cd, Zn, Pb etc. 32

33 粒子形態制御 33

34 粒子の形態 平衡形と成長形 平衡論的制御と 速度論的制御 ほとんどの場合は成長形 一部 鉱物などで平衡形が見られる 成長形は各面の法線方向への成長速度の差によって生まれる したがって 成長速度に差をつければ粒子の形態を制御できる 34

35 Synthesis of Monodispersed Anisotropic TiO 2 Particles Gel-Sol Method: Particle Preparation Technique by using Metal Hydroxide Gels Synthesis of Monodispersed Anisotropic TiO 2 Particles 100 C 24 h 140 C Ti(OPr i ) 4 Stabilizer (N(CH 2 CH 2 OH) 3 ) Shape Controller (Amine, Amino Acid) ph Controller Gel Formation by H-Bonding Network of Ti(OH) 4 Sol Formation by Crystal Growth T. Sugimoto, Monodispersed Particles, Elsevier, Amsterdam, K. Kanie and T. Sugimoto, Chem. Commun., 2004,

36 Anisotropic TiO 2 Particles Obtained by the Gel-Sol Method Ethylenediamine Init ph: 10.5 Ethylenediamine Init ph: 10.5, Seeds Succinic Acid Init ph: 10.5 Gluconic Acid Init ph: 9.5 Glutamic Acid Init ph: 10.5 Oleic Acid Init ph: 11.5 none Init ph: 10.5 Oleic Acid Init ph: 9.9 T. Sugimoto, X. Zhou, and A. Muramatsu, J. Colloid Interface Sci., 259, 53 (2003). K. Kanie and T. Sugimoto, Chem. Commun., 2004,

37 Shape Control by Amines and Oleate Amines c-axis Olate Organic Amines Adsorb on TiO 2 Surfaces Utilization for Organic-Inorganic Hybridization 37

38 ゲルーゾル法による 単分散ヘマタイト粒子の合成 2μm 38

39 硫酸根による形態制御 2 M FeCl ml 6.0 M NaOH 90 ml x M Na 2 SO 4 10 ml 0.9 M Fe(OH) M Fe 3+ ph ~ , 8 days α-fe 2 O 3 ph ~

40 c 軸 c 軸 c 軸 c 軸 c 面 {001} {001} 側面 {012} 六方晶エリプソイド型ピーナツ型平板 この結果より SO 4 2- の側面への強い吸着が示唆される 40

41 硫酸根で形態制御された粒子 塩基性硫酸アルミニウム 41

42 ITO ナノインク ~ スパッタ法代替材料 ~ 42

43 ゲルーゾル法による ITO 微粒子の合成 中和反応 In 3+ 初期濃度 : 0.25 M 水熱合成 0.50 M In(NO 3 ) M NaOH 100 C, 24 h 50nm 非晶質 In(OH) 3 ゲルの形成 250 C, 3 h 遠心分離および洗浄 凍結乾燥 単分散 In(OH) 3 微粒子 50nm In(OH) 3 微粒子の生成 SnCl 4 (In に対して 1-10%) C で 3 h 焼結 単分散 ITO 微粒子 50nm 特許出願中 第 87 回日本化学会春季年会で発表 ITO 微粒子の生成 43

44 ナノ粒子と触媒機能 44

45 触媒 工業触媒 活性 選択性 寿命 作業性 触媒設計 表面制御 バルク制御 表面制御 金属触媒 金属種 価数 組成 粒径など 担体効果 アンサンブル効果 リガンド効果 45

46 活性 活性点 1 つあたりの turnover frequency 1 サイトあたりの表面反応速度 触媒材料全体としての活性 触媒全体の活性は全表面積に依存しかし 構造に強く依存する場合もある ( 後述 ) 46

47 寿命 触媒寿命 同じ活性選択性を持続する 工業的には数ヶ月から1 年の寿命が必要 失活 主にシンタリングや触媒物質自身の変化 47

48 選択性 特定の反応速度だけを変化させる CO の水素化反応 Cu: CO + 2H 2 CH 3 OH Ni: CO + 3H 2 CH 4 + H 2 O Co, Fe: 6CO + 9H 2 C 6 H 6 + 6H 2 O Rh: 2CO + 2H 2 CH 3 COOH Rh: 2CO + 4H 2 C 2 H 5 OH + H 2 O 反応条件にも左右される 48

49 酸化状態の制御の例 Mo/SiO 2 触媒 CO の水素化反応 炭化水素 アルコール合成 Mo( 金属状態 ) 低級炭化水素を生成 Mo 金属上で CO は解離し アルコールは生成しない Mo(4+) 低活性で極僅かにメタノールを生成 Mo(4+) 上では CO は非解離吸着し -CO 部分を保持 Mo( 金属 ) と Mo(4+) 混合アルコールを生成 解離した CO から炭素鎖を伸ばす -CH 2 が生成 末端に -CO が付加し 水素化されてアルコールに 49

50 サイズ制御 比表面積を大きくし全体の触媒活性を増大 TOF (Turnover Frequency) がサイズに依存 量子効果 50

51 V S = = 4 π r 3 4π r 2 3 比表面積 SSA = S V d = 3 r d dは密度 半径が小さくなるほど 比表面積は大きくなる! 51

52 触媒設計 表面情報の正確な把握 精密な表面機能制御 局所構造制御と評価が重要 52

53 触媒の分類 均一系触媒 反応物 生成物と同じ相 例 : 酢酸合成のロジウム触媒 液相均一系触媒も液体 不均一系触媒 相が違うもの 例 : 固体触媒 担持触媒 無担持触媒 53

54 担持金属触媒 担体物質上に 触媒金属が担持されている 担体は粉体か 塊状態である 触媒金属 担体 54

55 担持金属触媒 担体 金属酸化物が多い 細孔が発達しているものが多い 機械的強度に優れている 触媒金属 担体上に担持 分散 数 nm 程度の大きさが理想とされる 実際は 5~50nm 程度の場合が多い 55

56 担体 : 比表面積が大きい 56

57 57

58 担体の例 : 活性炭 ヤシガラ活性炭 石炭系活性炭 木炭系活性炭 58

59 活性炭 59

60 木炭の表面 60

61 担持金属触媒 担体 金属酸化物が多い 細孔が発達しているものが多い 機械的強度に優れている 触媒金属 担体上に担持 分散 数 nm 程度の大きさが理想とされる 実際は 5~50nm 程度の場合が多い 61

62 担持金属触媒調製法 62

63 63

64 表面構造と触媒機能 64

65 表面構造と触媒機能 65

66 66

67 構造敏感 構造鈍感 構造鈍感 表面積が大きくなる効果のみ現れる 構造敏感 触媒活性は粒径に依存 粒径が小さいほど大きい 粒径が大きいほど大きい ある粒径で最大となる 67

68 構造敏感 構造鈍感 68

69 構造敏感 構造鈍感 69

70 構造敏感 構造鈍感 70

71 構造敏感 構造鈍感 71

72 吸着と触媒反応 72

73 吸着が始まり 物理吸着 弱い吸着 : 必ず自然界にある 化学吸着 強い吸着 : 化学結合を伴う 73

74 Table 化学吸着と物理吸着 吸着特性化学吸着物理吸着 吸着力 化学結合 ファン デル ワール ス力 吸着場所選択性あり選択性なし 吸着層の構造単分子層多分子層も可能 吸着熱 10~100kcal/mol 数 kcal/mol 活性化エネルギー大きい小さい 吸着速度遅い速い 吸着 脱離可逆または非可逆可逆 代表的な吸着の型ラングミュア型 BET 型 74

75 物理吸着 75

76 物理吸着 76

77 物理吸着 77

78 78

79 物理吸着 79

80 吸着から表面反応へ 80

81 触媒反応 物理吸着 化学吸着 表面反応 脱離 ここで終わったら 単なる吸着現象 81

82 例 : メタノール合成反応 合成ガスからメタノールを合成する反応 CO + 2H 2 CH 3 OH ポイントは C=O 間の非解離 H-H 間の解離 82

83 可逆 可逆 物理吸着 化学吸着 CH 3 OH 不可逆 表面反応 83

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